Nd：YVO_4晶体具有高增益、低阈值和高吸收的特点，这主要是由于Nd：YVO_4的吸收和发射特性优于二极管泵浦的Nd：YAG晶体，是目前商用激光晶体中较受欢迎的二极管泵浦激光晶体。Nd：YVO4晶体已经与高非线性光学系数晶体（LBO、BBO或KTP）结合，以将输出从近红外频移到绿、蓝甚至紫外。

近红外垂直腔面发射激光器（VCSEL）型号：多模阵列VCSEL中心波长：850nm不带漫射器的光功率：0.5瓦

近红外垂直腔面发射激光器（VCSEL）型号：多模阵列VCSEL中心波长：850nm不带漫射器的光功率：1瓦

近红外垂直腔面发射激光器（VCSEL）型号：多模阵列VCSEL中心波长：850nm不带漫射器的光功率：2瓦

近红外垂直腔面发射激光器（VCSEL）型号：多模阵列VCSEL中心波长：850nm不带漫射器的光功率：4瓦

近红外垂直腔面发射激光器（VCSEL）型号：多模阵列VCSEL中心波长：940nm不带漫射器的光功率：0.5瓦

C3077-80是一款在近红外区域具有高灵敏度的VGA格式CCD相机。与我们的传统模型相比，在900nm处的光谱响应增加了两倍以上。这款相机具有业内广泛使用的EIA输出。利用其在近红外区域的高灵敏度，该相机适用于硅器件内部成像。

IR-RGB-V Novalum允许客户通过选择各种波长来创建定制的八激光模块。当与多通道NECSEL智能控制器结合使用时，该激光器可轻松集成到OEM系统中。

作为AFROG设备，Grenouille产生脉冲强度和相位。时间和频谱以及频谱具有很高的准确性和可靠性，不需要对脉冲进行任何假设。它测量的是实际脉冲，而不是相干性。此外，Grenouillealsome测量了光束的空间分布。更重要的是，它还同时产生了其他难以测量的时空失真，即空间啁啾和脉冲前倾斜，这在大多数超短脉冲中都会发生，但实际上大多数都从未测量过。Grenouille是先进一种商业上可用的设备，可以测量这些失真和较准确的脉冲前倾斜诊断。它也产生了近似的脉冲绝对波长。值得注意的是，GrenouilleneedsnoAlignment——永远！即使把它放在梁上也是非常容易的。Grenouilletellsyoumoreaboutyourpulse用比想象中更少的努力！重量只有1公斤，轻便小巧，AFootPrint比AFoot更小！

NeoSpectra-Micro是一种集成式光谱传感器，可用于各种材料传感应用，以进行鉴定和量化。该传感器的性能可与实验室光谱仪相媲美，但尺寸更小，成本更低。传感器基于傅里叶变换红外（FT-IR）技术，该技术是实验室光谱仪中使用的标准技术，可为材料的较佳鉴定和量化提供宽光谱范围。该传感器使用了专利的微机电系统（MEMS）技术，该技术允许在MEMS芯片上单片制造迈克尔逊干涉仪。NeoSpectra-Micro传感器可确定1，350–2，500 nm近红外（NIR）范围内输入光的光谱含量。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

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许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。高反射器纽波特薄膜实验室在制造用于紫外、可见和红外应用的高反射涂层方面拥有丰富的经验。较高的总反射率（R>99.9%）可以用相对窄带的电介质反射器来实现，该电介质反射器可以针对任何给定的性能带进行优化。然而，可以为几乎任何应用制造非常高的反射器，包括多波段和宽波段。

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许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。金属镜面涂层-铝（Al）-铜（Cu）-金（Au）-银（Ag）金属镜由金属涂层组成。然而，裸露的金属容易划伤，因此通常在金属层上沉积介电层以增加耐用性。这些被称为受保护的金属膜（例如，受保护的铝）。通常在金属膜上沉积更复杂的多层涂层，以提供增加的反射率或改变反射镜的性能。设计包括保护和增强金，铝和银。可以针对先进或第二表面反射、入射角和基底材料来设计涂层。涂层经过优化，可在紫外至红外区域发挥较大性能。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

日亚NUBM44 450nm 6W 9mm全新NUBM44是一款发射6W功率的445nm激光二极管。它是目前所有9mm TO-CAN（TO-5封装）激光二极管的较高功率。尽管NUBM44的典型中心波长为445nm，但在某些文献中，它有时被称为450nm激光二极管。尽管这是一个多模激光二极管，但它具有极窄的波导，这使得它几乎具有任何高功率半导体激光器的较低光学扩展量（给定光束直径的远场发散度）。与其他高功率激光二极管相比，窄发射极宽度使其能够更好地准直和聚焦。-6.0W蓝色激光二极管，波长445nm-高度可聚焦且能够很好地准直-紧凑型TO-5（9mm）TO-CAN封装-0C至65C的宽工作温度范围-氮化镓蓝色激光技术可延长高温下的使用寿命设计波长：445 nm工作电流典型值[A]：3 A工作温度范围：0至+60°C工作电压：3.7-5.2 V封装：TO-5阈值电流：150-350 mA存储温度范围：-40至85°C20°C时的光功率[W]：6 W估计寿命：10000小时与其它高功率半导体激光器相比，这种蓝色激光二极管相对不受工作温度的影响，并且具有0℃至65℃的外壳工作温度范围。NUBM44在25℃下的典型寿命为20，000小时。然而，如果蓝色激光器的外壳温度被加热到65℃，则寿命仅降低很小的系数。由于较近开发的氮化镓激光技术，这是先进可能的。目前用于红光和近红外激光二极管的砷化镓激光技术不能在高温下实现低的长期退化水平。因此，这种蓝色激光二极管是各种环境和应用的可靠选择。此外，该GaN激光器具有特殊的TO-5（9mm）封装，这使其具有比该功率水平下的激光二极管通常可能的热阻更低的热阻。9毫米的TO-CAN也是密封的，可以保护半导体激光器芯片免受灰尘和其他污染。相比之下，高功率红光和NIR激光二极管通常需要C-Mount封装，其具有暴露的刻面，如果不在洁净室环境中操作，则会出现可靠性问题。

Insion GmbH的新一代NIR系统。由于改进的单片设计、出色的光学特性以及小尺寸，高等级的坚固性在各种新的和常见的应用中开辟了可能性。它们非常适合用于分析和诊断手持设备，并且由于具有出色的仪器间一致性，因此具有极高的成本效益。典型的应用范围从仪器分析、生物和临床系统到农业和营养产品的材料鉴定和分析。