-
涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 500 - 1150 nm
抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。
-
涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 450 - 700 nm
抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。
-
涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 8000 - 12000 nm
抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。
-
涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 355 - 1200 nm
抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。
-
波长: 1064nm 平均值功率: 0.016W 重复频率: 0.01 - 0.01 kHz 脉宽: 2ns 脉冲间稳定性: 1%
NL120系列电光调Q纳秒Nd:YAG激光器每脉冲输出高达10 J,具有出色的稳定性。创新的二极管泵浦自籽晶主振荡器设计实现了单纵模(SLM)输出,无需使用外部昂贵的窄线宽籽晶二极管和腔锁定电子器件。与使用不稳定激光腔的更常见的设计不同,稳定的主振荡器腔产生TEM空间模式输出,其在放大级之后产生极好的光束特性。NL120系列调Q纳秒激光器是许多应用的绝佳选择,包括OPO、OPCPA或染料激光泵浦、全息摄影、LIF光谱、遥感、光学测试和其他任务。对于需要平滑且尽可能接近高斯光束轮廓的任务,可以使用具有改进的高斯拟合的模型。光脉冲相对于Q开关触发脉冲的低抖动允许激光器和外部设备之间的可靠同步。可选的二次(SH)(用于532nm)、三次(TH)(用于355nm)和四次(FH)(用于266nm)谐波发生器提供对较短波长的访问。激光器由提供的上网本PC通过USB端口控制,并带有适用于Windows™操作系统的应用程序。此外,还可以通过辅助遥控板控制激光器的主要设置。遥控板采用背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。
-
波长: 1064nm 平均值功率: 0.05W 重复频率: 0.01 - 0.01 kHz 脉宽: 2ns 脉冲间稳定性: 1%
NL120系列电光调Q纳秒Nd:YAG激光器每脉冲输出高达10 J,具有出色的稳定性。创新的二极管泵浦自籽晶主振荡器设计实现了单纵模(SLM)输出,无需使用外部昂贵的窄线宽籽晶二极管和腔锁定电子器件。与使用不稳定激光腔的更常见的设计不同,稳定的主振荡器腔产生TEM空间模式输出,其在放大级之后产生极好的光束特性。NL120系列调Q纳秒激光器是许多应用的绝佳选择,包括OPO、OPCPA或染料激光泵浦、全息摄影、LIF光谱、遥感、光学测试和其他任务。对于需要平滑且尽可能接近高斯光束轮廓的任务,可以使用具有改进的高斯拟合的模型。光脉冲相对于Q开关触发脉冲的低抖动允许激光器和外部设备之间的可靠同步。可选的二次(SH)(用于532nm)、三次(TH)(用于355nm)和四次(FH)(用于266nm)谐波发生器提供对较短波长的访问。激光器由提供的上网本PC通过USB端口控制,并带有适用于Windows™操作系统的应用程序。此外,还可以通过辅助遥控板控制激光器的主要设置。遥控板采用背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。
-
波长: 1064nm 平均值功率: 0.1W 重复频率: 0.01 - 0.01 kHz 脉宽: 2ns 脉冲间稳定性: 1%
NL120系列电光调Q纳秒Nd:YAG激光器每脉冲输出高达10 J,具有出色的稳定性。创新的二极管泵浦自籽晶主振荡器设计实现了单纵模(SLM)输出,无需使用外部昂贵的窄线宽籽晶二极管和腔锁定电子器件。与使用不稳定激光腔的更常见的设计不同,稳定的主振荡器腔产生TEM空间模式输出,其在放大级之后产生极好的光束特性。NL120系列调Q纳秒激光器是许多应用的绝佳选择,包括OPO、OPCPA或染料激光泵浦、全息摄影、LIF光谱、遥感、光学测试和其他任务。对于需要平滑且尽可能接近高斯光束轮廓的任务,可以使用具有改进的高斯拟合的模型。光脉冲相对于Q开关触发脉冲的低抖动允许激光器和外部设备之间的可靠同步。可选的二次(SH)(用于532nm)、三次(TH)(用于355nm)和四次(FH)(用于266nm)谐波发生器提供对较短波长的访问。激光器由提供的上网本PC通过USB端口控制,并带有适用于Windows™操作系统的应用程序。此外,还可以通过辅助遥控板控制激光器的主要设置。遥控板采用背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。
-
波长: 1064nm 平均值功率: 2.2W 重复频率: 0.01 - 2.5 kHz 空间模式: 1.3 脉宽: 10ns
NL200系列DPSS Q开关纳秒激光器在kHz重复率下提供高脉冲能量。端面泵浦设计使该激光器结构紧凑,易于集成。用于532nm、355nm、266nm和213nm波长的谐波产生模块容易地连接到激光器框架。纳秒二极管泵浦的NL200系列调Q激光器具有短脉冲持续时间、可变重复率和外部TTL触发等特点,在需要较高脉冲能量时,对于脉冲激光沉积、掩模烧蚀或透明材料的体积内标记等特定应用,是极具成本效益的光源。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使该激光器成为光谱学和遥感应用的完美工具。机械稳定和密封设计确保激光器部件的可靠运行和长寿命。
-
波长: 1064nm 平均值功率: 2W 重复频率: 0.01 - 1 kHz 空间模式: 1.3 脉宽: 10ns
NL200系列DPSS Q开关纳秒激光器在kHz重复率下提供高脉冲能量。端面泵浦设计使该激光器结构紧凑,易于集成。用于532nm、355nm、266nm和213nm波长的谐波产生模块容易地连接到激光器框架。纳秒二极管泵浦的NL200系列调Q激光器具有短脉冲持续时间、可变重复率和外部TTL触发等特性,在需要更高脉冲能量时,对于脉冲激光沉积、掩模烧蚀或透明材料的内部体积标记等特定应用而言,是极具成本效益的光源。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使该激光器成为光谱学和遥感应用的完美工具。机械稳定和密封设计确保激光器部件的可靠运行和长寿命。
-
波长: 1064nm 平均值功率: 4W 重复频率: 0.5 - 1 kHz 空间模式: 1.3 脉宽: 10ns
NL200系列DPSS Q开关纳秒激光器在kHz重复率下提供高脉冲能量。端面泵浦设计使该激光器结构紧凑,易于集成。用于532nm、355nm、266nm和213nm波长的谐波产生模块容易地连接到激光器框架。纳秒二极管泵浦的NL200系列调Q激光器具有短脉冲持续时间、可变重复率和外部TTL触发等特点,在需要较高脉冲能量时,对于脉冲激光沉积、掩模烧蚀或透明材料的体积内标记等特定应用,是极具成本效益的光源。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使该激光器成为光谱学和遥感应用的完美工具。机械稳定和密封设计确保激光器部件的可靠运行和长寿命。
-
输出功率: 0.0002W 激光波长: 1.064um 脉宽: 3 - 10 ns 中心波长附近的调谐范围: Not Applicable
NL740系列的主要特点是基于时间驱动的CW二极管激光器种子和放大级,输出超稳定的可调谐持续时间(2–10 ns)窄带宽纳秒脉冲。系统的起点是具有时间输出功率调制器的单模DFB激光器。这样的前端确保SLM模式的可靠生成,这对于低时间调制超稳定脉冲的形成是非常有益的。然后,光在二极管泵浦的再生放大器中被放大,以便达到足以在二极管泵浦的放大器中放大的能量。功率放大器是二过一放大器链,其中脉冲以100Hz的重复率被放大到100mJ的能量。在放大之前,采用空间光束整形,以便在输出处获得平顶形状。谐波发生器基于放置在加热器中的角度调谐非线性晶体。全二极管泵浦设计,确保系统在高重复率下可靠运行,维护简单方便。
-
输出功率: 0.01W 激光波长: 1.064um 脉宽: 3 - 10 ns 中心波长附近的调谐范围: Not Applicable
NL740系列的主要特点是基于时间驱动的CW二极管激光器种子和放大级,输出超稳定的可调谐持续时间(2–10 ns)窄带宽纳秒脉冲。系统的起点是具有时间输出功率调制器的单模DFB激光器。这样的前端确保SLM模式的可靠生成,这对于低时间调制超稳定脉冲的形成是非常有益的。然后,光在二极管泵浦的再生放大器中被放大,以便达到足以在二极管泵浦的放大器中放大的能量。功率放大器是二过一放大器链,其中脉冲以100Hz的重复率被放大到100mJ的能量。在放大之前,采用空间光束整形,以便在输出处获得平顶形状。谐波发生器基于放置在加热器中的角度调谐非线性晶体。全二极管泵浦设计,确保系统在高重复率下可靠运行,维护简单方便。