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支持光纤包层: 125 - 1000 um
Autocleaver S2™是Nyfors自动光纤切割器的改进型,专为切割空气包覆光纤而设计。它在直径从125μm到1000μm的圆形光纤上提供了出色的切割性能。独特且正在申请专利的劈开工艺产生小于0.5度的典型劈开角。具有气压控制夹紧力的特殊光纤夹具和改进的软件使Autocleaver S2™能够以高精度切割空气包覆光纤。光纤夹具的夹持力通过内置调节器改变气压来设置。纤维V形槽可采用不锈钢、黄铜和聚碳酸酯制成。内置微处理器控制所有参数和设置,如夹紧,张力和钻石刀片的准确位置和速度。敏感参数的这种控制保证了高的解理可重复性和精度。光纤由Nyfors LD光纤固定器固定到位,该固定器用于将光纤装入切割刀。NYFORS LD光纤支架的选择与光纤涂层或护套的直径相匹配。选择与光纤包层直径相匹配的V型槽夹块、定距板和光纤高度调节器。Nyfors LD光纤支架、定距板以及V形槽夹块和高度调节器作为光纤处理套件共同工作,以确保特定光纤的较佳切割性能。当您购买切肉刀时,必须从选择指南矩阵中选择这些部件。操作员可以很容易地更换部件,以将切割器设置为不同的光纤尺寸。切割刀被设计成产生较小量的纤维废料,通常小于20mm。自动废物处理系统可清除任何有害的纤维碎屑。切肉刀可以连接到一台可访问所有可编程参数和设置的PC。Autocleaver S2™采用小型台式设计。
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支持光纤包层: 80 - 125 um
全自动高速光纤制备设备AutoPrep II™可在不到15秒的时间内剥离、清洁和切割光纤。它主要是为工业应用而设计的,这些应用需要精度、可靠性和高产量。AutoPrep II™用于丙烯酸酯纤维涂层的快速和无化学纤维制备,满足快速和一致纤维制备的较高工业要求,具有极高的清洁度和高纤维强度。通过高度先进且正在申请专利的切割工艺产生较佳切割。它有一个用户友好的设计。导向光纤固定器可轻松将光纤放置在正确的位置,“一触式”运行按钮可启动自动准备过程。受控的热气流立即蒸发纤维的涂层。结果是完全剥离和干净的纤维。当在400倍放大率下观察时,剥离区域没有碎屑,并且强度通常>30 N(355 kpsi)*。切割器产生小于0.5度的典型切割角。为确保高质量和可重复性,剥离、清洁和切割的所有过程均由内置微处理器控制。AutoPrep II™适用于独立使用,并使用可选适配器与所有领先的熔接机兼容。
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安装材料: Black Anodized Aluminum 调整: Tip and Tilt
侧控制50BM119T的物镜支架具有W0.8-36孔径,用于标准显微镜物镜的精确调整,并确保焦点的低成本定位。它也可以用于光纤。侧面控制的精密光学支架可以大大增加光学元件的厚度,因为它可以方便地接近调节手柄。原始设计的L形板簧使支架平台具有很大的稳定性。弹簧执行两个功能:像普通弹簧一样工作,并消除平台的极化旋转。关于两个正交轴的角度范围为±2°。螺距为0.25 mm的精密螺钉可提供10弧秒的灵敏度。底座侧面和背面的三个M4螺纹孔允许各种安装配置,例如水平和垂直。物镜支架由黑色阳极氧化铝制成。L型弹簧采用优质不锈钢弹簧钢制成。
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单色仪类型: Czerny-Turner 光谱范围: 650 - 1100 nm
STS-RAD微型光谱仪在小尺寸中提供了强大的光谱性能。这款紧凑的仪器包括一个辐射校准的STS-VIS光谱仪,配有直接连接的余弦校正器,是辐照度应用的理想选择,包括LED表征和上升/下降测量。其坚固耐用的设计和良好的单位到单位的再现性使STS-RAD在实验室和现场使用时具有吸引力,或集成到高容量应用中,如生产线上的LED分类。标准STS型号可用于UV(190-650 nm)、可见光(350-800 nm)和短波NIR(650-1100 nm),具有预配置的辐照度STS-RAD和STS开发套件,其中包括Raspberrry PI微型计算机和无线功能。
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涂层类型: UV-NIR 入射角: Not Specified 波长范围: 248 - 2500 nm
ECI的涂层始终达到或超过环境耐久性和激光损伤的行业标准。ECI的涂层设计可以优化,以实现紫外、可见和近红外光谱的较佳性能。用于军事、医疗、光纤、工业和科学应用的ECI沉积物保护和增强金属光学涂层。设计包括保护和增强金,铝和银。涂层设计用于先进或第二表面反射、入射角、入射介质和基底材料。涂层经过优化,可在紫外至红外区域发挥较大性能。薄膜涂层设计可用于沉积到许多光学材料上,包括:塑料、模制聚合物光学器件、玻璃和金属、光纤器件和红外光学材料。可提供标准和定制涂层,包括客户指定的金属层厚度。ECI的金属光学涂层符合MIL-M-13508C的环境和耐用性要求。蒸发涂层公司生产高反射低损耗宽带介质光学涂层,反射率大于99.5%。设计经过优化,可用于248nm–2500nm的宽带波长或多波段应用。应用包括军事、医疗、光纤和科学研究。ECI的定制介电光学涂层经过优化,可确保您的系统发挥较大性能。指定特定的波长范围、入射角、基底材料、入射介质和偏振态。如果您不确定如何指定您的涂层要求,我们的设计团队将与您合作,为您的应用生产较佳的介电光学涂层。设计可用于沉积到各种类型的光学材料上,包括:塑料、模制聚合物光学器件、玻璃基板、光纤器件以及晶体和半导体材料。ECI还将存放您的专有薄膜光学设计。
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基底材料: N-BK7, Fused Silica, UV Grade Fused Silica, IR Grade Fused Silica, Sapphire, CaF2, MgF2 抗反射涂层: Coated, Uncoated 直径: 1-150mm 表面质量: 10-5 scratch-dig, 20-10 scratch-dig, 40-20 scratch-dig, 60-40 scratch-dig 表面平整度: lambda/20, lambda/6, lambda/8, lambda/10
PhotonChina的窗户用于隔离不同的物理环境,同时允许光线通过。选择窗户时,应考虑材料、透射、散射、波前失真、平行度和对特定环境的抵抗力。我们提供各种不同的材料和不同精度的窗户。可根据需要提供特殊材料。光学窗口上的单层或多层抗反射涂层范围很广。N-BK7光学窗口N-BK7,或H-K9L,是用于大多数可见光和近红外应用的优良光学玻璃材料。它是较常见的硼硅酸盐皇冠光学玻璃,它提供了良好的性能和良好的价值。其高均匀性、低气泡和夹杂物含量以及简单的可制造性使其成为透射式光学器件的理想选择。紫外熔融石英光学窗口UV熔融石英窗口具有低失真、极好的平行度、低体积散射和良好的表面质量。这使得它们非常适合各种要求苛刻的应用,包括多光子成像系统和腔内激光应用。氟化钙光学窗氟化钙光学窗口在180 nm至8µm范围内透明,非常适用于紫外、可见和红外波长的光谱学或荧光成像等应用。蓝宝石光学窗口无涂层蓝宝石窗口是恶劣条件下的理想选择,包括高温、高压、强真空或腐蚀性环境。蓝宝石抗压强度高,耐强酸侵蚀。楔形窗户PHOTONCHINA高能激光光楔窗口专门设计用于消除真空室应用中的损耗,可用作真空窗口、对流屏障或干涉仪补偿板。布鲁斯特窗户当以布儒斯特角(55.57®)定向时,s-偏振光被部分反射,p-偏振光被无损耗地透射。当放置在激光腔内时,布儒斯特窗口使p偏振光具有更高的有效增益,导致激光器的较终输出是强p偏振的。PhotonChina Brewster窗口由UV级熔融石英制成,具有激光级表面质量和平行度,使其成为激光腔内使用的理想偏振器。