抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。高反射器纽波特薄膜实验室在制造用于紫外、可见和红外应用的高反射涂层方面拥有丰富的经验。较高的总反射率（R>99.9%）可以用相对窄带的电介质反射器来实现，该电介质反射器可以针对任何给定的性能带进行优化。然而，可以为几乎任何应用制造非常高的反射器，包括多波段和宽波段。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。金属镜面涂层-铝（Al）-铜（Cu）-金（Au）-银（Ag）金属镜由金属涂层组成。然而，裸露的金属容易划伤，因此通常在金属层上沉积介电层以增加耐用性。这些被称为受保护的金属膜（例如，受保护的铝）。通常在金属膜上沉积更复杂的多层涂层，以提供增加的反射率或改变反射镜的性能。设计包括保护和增强金，铝和银。可以针对先进或第二表面反射、入射角和基底材料来设计涂层。涂层经过优化，可在紫外至红外区域发挥较大性能。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

这一高端USB2.0 Newton CCD系列将Andor的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却结合在一起，并辅以Andor的UltraVac™技术，该技术在科学和工业领域具有无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1，600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱（或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术！）的理想工具，例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素，用于较高UV至VIS分辨率光谱，而920系列及其26 X 26μm为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个>6.6 mm高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。

Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光（EDXRF）为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术，Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析，适用于从铝（Al）到铀（thickness U）的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计，能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上，并配备有位于滚轮上方的线性横动机构，以使头-面距离恒定。需要时，可直接测量涂层的元素组成。相反，涂层重量（或涂层厚度）可以直接测量（其中元素的计数率与厚度成比例）或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量（其中计数率与厚度负相关）。长期以来，台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描，用于更严格的过程控制公差，将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材，以改变产品（如标签）或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少，或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域，则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响，或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害，从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮，则制造的辊的成本增加，降低了盈利能力，并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。

Rigaku NEX OL采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了液流和固定位置网络或线圈应用的工艺元素分析的下一次进化。NEX OL的设计涵盖了从重工业到食品级的过程测量解决方案，可配置用于分类和非分类领域。从铝（Al）到铀（₂U）的分析为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX QC高分辨率台式仪器。凭借这一成熟的技术，Rigaku NEX OL可对从铝（Al）到铀（U）的元素进行快速、无损的多元素分析——从百万分率（ppm）水平到高重量百分比（wt%）浓度。Rigaku NEX OL配备50 kV X射线管和SDD探测器，以及标准化、优化的管式过滤器套件，旨在解决广泛的过程控制应用。

NFP系列交叉滚子轴承直线级由不锈钢和交叉滚子轴承制成，使其具有超高精度。工作台尺寸有40×40mm和65×65mm两种，垂直方向有四个驱动位置：中心驱动、右驱动、左驱动和中心驱动，使用非常方便。

NIRS DS2500石油分析仪是久经考验的灵活解决方案，用于燃料的质量控制和常规分析，符合ASTM D6122标准。NIRS DS2500石油分析仪具有防尘、防潮和防震的特性，不仅适用于实验室使用，还可用于直接生产环境。NIRS DS2500石油分析仪覆盖400至2，500 nm的全光谱范围，可在不到一分钟的时间内提供准确的结果。NIRS DS2500石油分析仪可通过汽油、柴油和煤油的预校准立即投入使用，并且由于其操作简单，可支持用户的日常工作。在样品数量较大的情况下，通过将流通池与瑞士万通（Metrohm）样品机器人结合使用，可以显著提高生产率。

NL200系列DPSS Q开关纳秒激光器在kHz重复率下提供高脉冲能量。端面泵浦设计使该激光器结构紧凑，易于集成。用于532nm、355nm、266nm和213nm波长的谐波产生模块容易地连接到激光器框架。纳秒二极管泵浦的NL200系列调Q激光器具有短脉冲持续时间、可变重复率和外部TTL触发等特点，在需要较高脉冲能量时，对于脉冲激光沉积、掩模烧蚀或透明材料的体积内标记等特定应用，是极具成本效益的光源。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使该激光器成为光谱学和遥感应用的完美工具。机械稳定和密封设计确保激光器部件的可靠运行和长寿命。

NL200系列DPSS Q开关纳秒激光器在kHz重复率下提供高脉冲能量。端面泵浦设计使该激光器结构紧凑，易于集成。用于532nm、355nm、266nm和213nm波长的谐波产生模块容易地连接到激光器框架。纳秒二极管泵浦的NL200系列调Q激光器具有短脉冲持续时间、可变重复率和外部TTL触发等特性，在需要更高脉冲能量时，对于脉冲激光沉积、掩模烧蚀或透明材料的内部体积标记等特定应用而言，是极具成本效益的光源。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使该激光器成为光谱学和遥感应用的完美工具。机械稳定和密封设计确保激光器部件的可靠运行和长寿命。

NL200系列DPSS Q开关纳秒激光器在kHz重复率下提供高脉冲能量。端面泵浦设计使该激光器结构紧凑，易于集成。用于532nm、355nm、266nm和213nm波长的谐波产生模块容易地连接到激光器框架。纳秒二极管泵浦的NL200系列调Q激光器具有短脉冲持续时间、可变重复率和外部TTL触发等特点，在需要较高脉冲能量时，对于脉冲激光沉积、掩模烧蚀或透明材料的体积内标记等特定应用，是极具成本效益的光源。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使该激光器成为光谱学和遥感应用的完美工具。机械稳定和密封设计确保激光器部件的可靠运行和长寿命。

Del-Tron的非磁性滚珠滑轨新产品系列为不能容忍磁性干扰的应用提供了理想的解决方案。仅举几个例子，这些轻质非磁性滚珠滑轨是医疗、半导体、军事和激光应用的完美解决方案。Del-Tron的非磁性滚珠滑轨在美国制造，采用氮化硅陶瓷滚珠轴承、钛轴、铝托架、底座和端盖以及黄铜紧固件制成。将这些材料与我们的标准滚珠滑轨安装孔和工厂预载相结合，您就找到了满足您的非磁性线性运动滑轨要求的完美解决方案。我们的非磁性线性运动球滑轨有7种外形尺寸可供选择，行程从0.5英寸到12英寸不等。也可提供公制滚珠滑轨。所有滑块的直线精度为每英寸行程0.0005“，位置重复性为0.0002”。它们是自清洁的，不需要润滑。为了您的方便，通过点击我们的零件搜索，可以获得我们整个产品线的实体模型图纸。点击您感兴趣的产品，在产品数据页面上找到实体模型。我们随时准备讨论您可能需要的任何特殊需求或修改。非磁性线性滚珠滑轨、非磁性线性轴承、非磁性滑台、线性滚珠滑轨的其他行业术语通常包括线性滑轨、线性运动滑轨、滚珠滑轨、滚珠滑轨组件、线性轴承、线性运动轴承和线性滚珠滑轨，以及更一般的线性运动滑轨或简单的运动滑轨。

Noria工具是一种用于生产光纤布拉格光栅（FBG）的制造工具。使用深紫外激光器（Coherent Excistar XS 500Hz-ARF）和相位掩模（Ibsen Photonics）将周期图案转移到光敏光纤的纤芯中。Noria工具将多个不同的掩模保持在类似左轮手枪的保持器中，每个掩模具有不同的图案周期。这种灵活性允许终端用户以自动化的方式根据预定义的配方来制造FBG。此外，阵列中的多个FBG可以使用Noria Tools精确定位平台在任何所需位置沿光纤写入。

NPS-Z-15L是一款针对高负载应用而优化的压电扫描台。NPS-Z-15L提供超过15μm的闭环行程，具有亚纳米分辨率和稳定性。该平台专为高刚度设计，可承载高达500 kg的负载。优化的机械设计产生了空载谐振频率大于8000Hz的器件。超级殷钢结构意味着舞台具有非常高的热稳定性和环境稳定性。通过闭环PID电子设备进行动态优化，较大限度地提高系统的现场步进响应和位置稳定性。电子配置可提供多达3个或6个阶段的独立控制，非常适合大型光学器件或晶片/掩模器件的对准/调平。

角度切割单元™是一种专门设计的旋转夹具，可安装在Nyfors Autocleaver LDF™上作为附件。这一升级使切割器不仅可用于垂直切割，还可用于直径从230到800µm以上的光纤的可变角度切割。使用螺旋千分尺定位器设置劈裂角，允许操作员快速调整劈裂器以适应不同的劈裂角。同时，Nyfors大直径切割器中使用的正在申请专利的张力和划线切割工艺确保了一致的高质量切割结果，精度<0.5度。通过这种方式，可以以较高程度的可重复性和精度创建从0到<9度（对于包层直径约为250µm的光纤）和高达大于15度（对于包层直径大于450-500µm的光纤）的可变劈裂角。请注意，角度切割单元™不能单独使用，需要使用NYFORS大直径光纤切割器进行操作。有关使用和安装的详细信息，请联系NYFORS或您当地的经销商。

Autocleaver LDA™是一种用于精确切割圆形大直径光纤（LDF）的自动系统。它是Nyfors著名的大直径切割器的特殊版本，设计用于垂直和倾斜切割直径从230到800µm以上的光纤。使用螺旋千分尺定位器设置劈裂角，允许操作员快速调整劈裂器以适应不同的劈裂角。正在申请专利的切割工艺可产生一致的高质量切割结果，精度<0.5度。当使用该系统进行非垂直劈裂时，可以以相同程度的可重复性和精度产生从0到<9度（对于250µm包覆光纤）和高达15度以上（对于450-500µm以上的光纤直径）的可变劈裂角。V形槽夹块和光纤高度调节器的选择与光纤包层的直径相匹配。V形槽夹块和高度调节器作为光纤处理套件一起工作，以确保特定光纤范围的较佳切割性能。当您购买切肉刀时，必须从选择指南矩阵中选择这些部件。操作员可以很容易地更换部件，以将切割器设置为不同的光纤尺寸。内置微处理器控制所有参数和设置，如夹紧，张力和金刚石刀片的准确位置和速度。敏感参数的这种控制保证了高的解理可重复性和精度。切割刀被设计成产生较小量的纤维废料，通常小于20mm。自动废物处理系统可清除任何有害的纤维碎屑。切肉刀可以连接到一台可访问所有可编程参数和设置的PC。Autocleaver LDA™采用小型台式设计。

Autocleaver LDF™是一款高精度光纤切割器，专为切割大直径光纤（LDF）而设计。它为直径从230μm到1000μm的光纤提供了出色的切割性能。独特且正在申请专利的解理工艺产生小于0.5度的典型解理角。内置微处理器控制所有参数和设置，如夹紧，张力和金刚石刀片的准确位置和速度。敏感参数的这种控制保证了高的解理可重复性和精度。光纤由Nyfors LD光纤固定器固定到位，该固定器用于将光纤装入切割刀。NYFORS LD光纤支架的选择与光纤涂层或护套的直径相匹配。必须选择V形槽夹块和光纤高度调节器以匹配光纤包层的直径。Nyfors LD光纤支架以及V形槽夹块、高度调节器和定距板作为光纤处理套件共同工作，以确保特定光纤的较佳切割性能。当您购买切肉刀时，可以从选择指南矩阵中选择这些部件。操作员可以很容易地更换部件，以设置其他光纤尺寸的切割器。切割刀被设计成产生较小量的纤维废料，通常小于20mm。自动废物处理系统可清除任何有害的纤维碎屑。切肉刀可以连接到外部PC，以访问所有可编程参数和设置。Autocleaver LDF™采用小型台式设计。Autocleaver LDF™还提供与Fujikura FSM-45和FSM-100系列熔接机兼容的Fujikura版本，以及与Fitel S183/S184熔接机兼容的Fitel版本。光纤被切割到正确的长度，由于切割器接受标准的藤仓和Fitel光纤固定器，切割后的光纤可以直接转移到接合器，没有接触或损坏光纤末端的风险。有关详细信息，请参阅下面的产品表。

Autocleaver S1™可感应涂层边缘，在切割后自动调整裸光纤长度。当需要特定且精确的裸光纤长度时，此功能非常有用。客户在订购时指定所需的裸光纤长度，并可通过软件在0至500μm之间进行微调。切割器可用于80和125μm光纤。端面质量优良。劈裂角通常小于0.3度。125/250μm光纤的裸露长度标准偏差为+/-0.01*，80/170μm光纤的裸露长度标准偏差为+/-0.06*。在两种情况下，裸光纤长度均为3.4mm。内置微处理器控制所有参数和设置，如光纤定位、夹紧、光纤张力以及金刚石刀片的精确位置和速度。结果每次都是完美的劈开。切肉刀可以连接到一台可访问所有可编程参数和设置的PC。Autocleaver S1™采用小型台式设计。