NeoSpectra扫描仪是一种便携式和手持式光谱传感设备，可用于各种材料传感应用。该扫描仪能够在各种行业中开发现场材料分析应用。该扫描仪集成了NeoSpectra传感器，可在NIR（1，350–2，500 nm）的宽光谱范围内工作，提供较佳的材料鉴定和量化。

Nephrolux®是Pranalytica的氨传感器，用于对人类患者的肾脏疾病和功能障碍进行非侵入性诊断。当个体患有肾脏疾病时，个体血液中的尿素氮和肌酸酐水平升高。测定血尿素氮和肌酐的传统技术包括从患者抽取血样并随后进行实验室分析，这可能需要长达24-48小时。Pranalytica的Nephrolux®传感器可测量人体呼出气体中的氨浓度，该浓度已被证明与血液尿素氮和肌酐浓度具有一对一的相关性。

NeuroLucida360是神经科学家使用的首要工具，用于快速准确地重建复杂的神经元结构，范围从复杂的多细胞神经元网络到亚细胞树突棘和假定的突触。凭借分析特定神经元结构（如轴突、基底树突、顶端树突和携带轴突的树突）的复杂性，您可以完全重建和分析任何物种的任何神经元。较先进的图像检测算法使您能够使用各种标记和显微镜技术自信地重建细胞。无论您是否对分析单个神经元或神经元之间的相互作用感兴趣，请了解为什么NeuroLucida 360在自动神经元重建方面远远超过所有其他软件！

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

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许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。介质镜全介质镜由陶瓷材料而不是金属层制成，并依靠相长干涉来产生高反射率。因此，它们在比金属镜窄得多的波长范围内工作，并且是角度敏感的。然而，与金属镜相比，它们具有极高的耐用性，并且可以在高温环境中有效地工作。此外，它们比金属镜更环保。

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许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。高反射器纽波特薄膜实验室在制造用于紫外、可见和红外应用的高反射涂层方面拥有丰富的经验。较高的总反射率（R>99.9%）可以用相对窄带的电介质反射器来实现，该电介质反射器可以针对任何给定的性能带进行优化。然而，可以为几乎任何应用制造非常高的反射器，包括多波段和宽波段。

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许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。金属镜面涂层-铝（Al）-铜（Cu）-金（Au）-银（Ag）金属镜由金属涂层组成。然而，裸露的金属容易划伤，因此通常在金属层上沉积介电层以增加耐用性。这些被称为受保护的金属膜（例如，受保护的铝）。通常在金属膜上沉积更复杂的多层涂层，以提供增加的反射率或改变反射镜的性能。设计包括保护和增强金，铝和银。可以针对先进或第二表面反射、入射角和基底材料来设计涂层。涂层经过优化，可在紫外至红外区域发挥较大性能。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

这一高端USB2.0 Newton CCD系列将Andor的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却结合在一起，并辅以Andor的UltraVac™技术，该技术在科学和工业领域具有无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1，600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱（或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术！）的理想工具，例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素，用于较高UV至VIS分辨率光谱，而920系列及其26 X 26μm为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个>6.6 mm高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。

EM技术使来自每个像素的电荷在读出之前在传感器上倍增，从而提供单光子灵敏度。Newton EM平台结合了1600 X 200（或1600 X 400）16μm像素阵列、低至-100°C的热电冷却（暗电流可忽略不计）、3MHz读出和USB 2.0即插即用连接，为光谱应用提供无与伦比的性能。双输出放大器允许在传统的高灵敏度或电子倍增输出之间进行软件选择，以适应广泛的光子状态条件。这使得Newton EMCCD成为超快化学成像应用的理想选择，例如SERS、TERS或发光成像。

Rigaku NEX CG可对各种类型的样品中的主要和次要原子元素进行快速定性和定量测定-较低标准：非破坏性分析NA至non-U固体、液体、粉末和薄膜检测下限的极化激发峰重叠的新颖处理减少了误差使用Ultracarry的含水样品的ppb检测极限带EZ分析的简化用户界面用于迹级灵敏度的极化笛卡尔几何学与传统的EDXRF分析仪不同，NEX CG采用了独特的紧密耦合笛卡尔几何（CG）光学内核，大大提高了信噪比。通过使用二次目标激励代替传统的直接激励，进一步提高了灵敏度。由此产生的背景噪声的显著降低和元素峰值的同时增加，使得光谱仪即使在困难的样品类型中也能够进行常规痕量元素分析。新颖的软件减少了对标准的需求NEX CG由新的定性和定量分析软件RPF-SQX提供支持，该软件采用了Rigaku Profile Fitting（RPF）技术。该软件允许在没有标准品的情况下对几乎所有样品类型进行半定量分析，并使用标准品进行严格的定量分析。

作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造，无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中，NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力，包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育，以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制（QC）还是其更复杂的变体（如分析质量控制（AQC）、质量保证（QA）或六西格玛等统计过程控制），NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。

作为一款优质高性能、小型SPOT台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE VS通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体、浆料和RoHS材料。

Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光（EDXRF）为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术，Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析，适用于从铝（Al）到铀（thickness U）的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计，能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上，并配备有位于滚轮上方的线性横动机构，以使头-面距离恒定。需要时，可直接测量涂层的元素组成。相反，涂层重量（或涂层厚度）可以直接测量（其中元素的计数率与厚度成比例）或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量（其中计数率与厚度负相关）。长期以来，台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描，用于更严格的过程控制公差，将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材，以改变产品（如标签）或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少，或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域，则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响，或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害，从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮，则制造的辊的成本增加，降低了盈利能力，并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。

Rigaku NEX OL采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了液流和固定位置网络或线圈应用的工艺元素分析的下一次进化。NEX OL的设计涵盖了从重工业到食品级的过程测量解决方案，可配置用于分类和非分类领域。从铝（Al）到铀（₂U）的分析为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX QC高分辨率台式仪器。凭借这一成熟的技术，Rigaku NEX OL可对从铝（Al）到铀（U）的元素进行快速、无损的多元素分析——从百万分率（ppm）水平到高重量百分比（wt%）浓度。Rigaku NEX OL配备50 kV X射线管和SDD探测器，以及标准化、优化的管式过滤器套件，旨在解决广泛的过程控制应用。

Rigaku NEX QC能量色散X射线荧光（EDXRF）分析仪可快速定性和定量测定各种样品类型中的主要和次要原子元素：非破坏性分析NA至non-U固体、液体、合金、粉末和薄膜用于宽元素覆盖的50kV X射线管半导体探测器，数据质量高现代智能手机风格的“图标驱动”用户界面增强灵敏度的多个自动管过滤器方便的内置热敏打印机低成本，无与伦比的性价比