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基底材料: Fused Silica, UVFS 偏光材料: Not Available 形状: Round 尺寸: 50mm 波长范围: 1030 - 1030 nm
薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。
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基底材料: Fused Silica, UVFS 偏光材料: Not Available 形状: Round 尺寸: 50mm 波长范围: 532 - 532 nm
薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但是偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。
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基底材料: Fused Silica, UVFS 偏光材料: Not Available 形状: Round 尺寸: 25mm 波长范围: 780 - 820 nm
薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但是偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。
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基底材料: Fused Silica, UVFS 偏光材料: Not Available 形状: Rectangle 尺寸: 28.6mm 波长范围: 532 - 532 nm
薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。
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基底材料: Fused Silica, UVFS 偏光材料: Not Available 形状: Rectangle 尺寸: 28.6mm 波长范围: 355 - 355 nm
薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns,因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd:YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用,但是偏振是较有效的,并且出现在56°AOI(布儒斯特角)的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200:1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm,RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm(2),而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率,应将薄膜偏振器安装在适当的支架上,以便进行角度调整。
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波长: 351nm 空间分辨率: 1um 处理区: Not Specified 最大峰值功率: 1 - 100kW
现在可以从其他几种不同的激光源获得UV光子,但是准分子激光器尽管有缺点,但仍然可以做其他激光器不能做的事情,并且在某些情况下(在近中心上有许多小孔),它们可以是经济的,因为它们使用掩模成像而不是单点钻孔。谐振腔配置产生对于近场成像理想的光束,并且激光束的高峰值功率允许在很少或没有热影响区的情况下烧蚀目标材料。193-351 nm光学波长范围允许在目标表面上生成高分辨率(~1µm)特征,浅吸收深度允许通过控制所施加的脉冲数量来严格控制特征深度。大的光束横截面可容纳用于近场成像的大成像掩模。光加工工程师在准分子激光合同制造和系统设计方面拥有丰富的经验。我们可以将定制配置与简单的成像集成,一直到多轴运动、复杂的光学系统和机器视觉。还可以通过净化光束传输将光学缩小2倍至30倍。准分子生产工具是完全封闭和联锁的,符合所有CDRH I类要求。集成气体柜确保气体管道的污染较小。所有准分子系统都使用光加工控制软件。我们设备齐全的准分子实验室使我们能够在系统设计和建造之前进行原理验证。通常使用工作频率高达200 Hz、平均功率为60 W的光机和相干准分子激光器KrF(248 nm),尽管更高功率的激光器可用于高通量应用。
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单色仪类型: Czerny-Turner 有效焦距: 1000mm 衍射光栅: 1200lines/mm 光谱范围: 140 - 1200 nm 线性色散: 0.8nm/mm
FHR640和FHR1000是自动Czerny-Turner光谱仪,焦距分别为0.64米(FHR640)和1米(FHR1000)。FHR系列专为需要高精度和即时结果的研究人员而设计,其多功能性允许在宽光谱范围内使用,从UV范围(140 nm)扩展到IR(取决于所使用的光栅和探测器)。FHR被设计为较小化到达焦平面的任何杂散光。光学腔包括黑化挡板和掩模以捕获不需要的光。此外,FHR的光学设计没有再衍射光(再衍射光是杂散光的来源,涉及光学元件本身的多次反射,因此很难屏蔽)。
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单色仪类型: Czerny-Turner 有效焦距: 640mm 衍射光栅: 1200lines/mm 光谱范围: 140 - 1200 nm 线性色散: 1.2nm/mm
FHR640和FHR1000是自动Czerny-Turner光谱仪,焦距分别为0.64米(FHR640)和1米(FHR1000)。FHR系列专为需要高精度和即时结果的研究人员而设计,其多功能性允许在宽光谱范围内使用,从UV范围(140 nm)扩展到IR(取决于所使用的光栅和探测器)。FHR被设计为较小化到达焦平面的任何杂散光。光学腔包括黑化挡板和掩模以捕获不需要的光。此外,FHR的光学设计没有再衍射光(再衍射光是杂散光的来源,涉及光学元件本身的多次反射,因此很难屏蔽)。
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光纤束和线性阵列是简单的由多个光纤组成的光纤组件。使用多根光纤有几个重要的好处:•直径超过1毫米的孔径可轻松且经济高效地容纳。•多个较小纤芯光纤束的柔韧性优于单个较大直径光纤的柔韧性。•多根光纤可以配置在几乎任何可以想象的横截面中,并且两端可以具有不同的横截面。RSOF使用所有标准类型的光纤制造光纤束或阵列。这些包括硅芯/硅包层、硅芯/塑料包层、全塑料、硼硅酸盐玻璃或其他更奇特的结构。这些纤维表现出0.12至0.66的NAS。RSOF提供较广泛的材料,以便根据技术和经济要求定制产品。RSOF可以提供标准的终端配件,如套圈或OTS连接器,但也可以提供定制的终端配件,以适应您的特定或OEM应用。规格A:纤维类型二氧化硅/二氧化硅(UV/VIS)二氧化硅/二氧化硅(可见/近红外)二氧化硅/二氧化硅低日晒聚合物包层(高NA)Hoh聚合物包层(高NA)LOHPOF/PMMA其他B.纤维尺寸50um6。500微米100um 7.600um200um8.800um300微米9.1,000微米400um10.其他C.连接器/端部配件SMA9054。外径0.250的套圈O型圈SMA5。外径为10mm的套圈FC6。其他圣D.护套PVC管PVC分叉管PVC单线圈柔性SSTL BX特氟隆管编织SSTL/PTFE软管其他E.光纤数量/孔径大小建议纤维或孔的数量(圆形、狭缝形、矩形或其他)。F.支腿数量建议支腿数量G.其他细节每条腿的孔径或光纤数量、总长度和断裂腿长度、环境或化学暴露问题。