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反光涂层: Protected Aluminum 基质: BK7 平均反射率: 94% 波长范围: 400 - 700 nm 表面平整度: Custom
先进表面镜(FSM),也称为前表面镜,具有施加到玻璃基板的前表面的反射表面。这些先进表面涂层镜特别适用于通用应用,并作为基本实验室设备的一部分。对于0-45度的入射角,这些反射镜的多层涂层跨越大约300nm的光谱。我们提供的所有镜子的先进个正面都涂有铝(Al),并涂有一氧化硅(SiO)或氟化镁(MgF2)。当光穿过玻璃到达反射表面,然后如在第二或后表面镜中那样穿过玻璃返回时,先进表面镜可以减少来自二次折射的失真和“重影”的机会。首先,表面镜对于某些应用是必不可少的,在这些应用中,光被操纵并且失真必须被较小化。典型用途包括望远镜,潜望镜,激光光学,军事和商业模拟器,相机和较近的3D扫描仪。雪兰光学可以提供近1000mm的大尺寸。
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测量类型: Contaminant detection and analysis, Chemical identification, Other 最低电平检测: 1 - 1 ppm
与XUL系列一样,XRF光谱仪Fischerscope®X-Ray XAN®非常适合分析形状简单的样品。然而,XanSeries的一大优势在于其高质量的半导体探测器。X射线荧光(XRF)不仅可以测量涂层的厚度,还可以分析合金的成分(例如,G。铜)。XanSeries总共包括5台台式XRF光谱仪,涵盖了广泛的应用。XAN215具有高性价比的PIN检测器。它非常适合简单的涂层厚度任务,例如铁或Au/Ni/Cu上的锌。对于使用合金或贵金属的更复杂的应用,我们建议使用我们的带有硅漂移探测器的XRF设备(例如Xan220):由于其分辨率高得多,它可以可靠地区分金和铂。当您需要检测微量重金属和其他有害物质时,Xan250是您的解决方案。
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测量类型: Contaminant detection and analysis, Chemical identification, Other 最低电平检测: 1 - 1 ppm
FISCHERSCOPE®X光XUL®系列是每个电镀车间真正的基础设备。这些简单且经济实惠的能量色散X射线荧光XRF分析仪非常适合监测镀液成分,但在质量控制方面,它们也是不可或缺的帮手:坚固耐用,非常适合测量螺母和螺栓等批量生产零件上的电镀层。XUL/XULM系列中的所有XRF光谱仪操作简单直观。较大的样品可以用手简单地放置在测量室中;或者,对于较小的项目,如插头,仪器可以配备手动样品台。虽然测量设备很紧凑,但它们为您的试件提供了足够的空间-高达17厘米。如果您有几个不同的测量任务,FischerScope X射线XULM具有可更换的过滤器和准直器,因此您可以为所有应用创建较佳的测量条件。此外,XULM具有内置的微聚焦管,即使测量点很小,测量层很薄,也能提供精确的结果。
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干涉仪配置: Fizeau Interferometer 光源: White Light 输出极化: Linear 有效值重复性: Not Specified 有效值精度: Not Specified
阿姆斯特朗光学公司(Armstrong Optical)新推出的是一款经过客户验证的相位测量斐索干涉仪(Fizeau Interferometer),采用垂直(向下看)配置,孔径为60mm,IFV-60。如果需要,孔径也可以增加到100。它配有经过认证的Lambda/20传输平面和符合人体工程学设计的样品处理系统。使用我们的合作伙伴TriOptics Berlin提供的备受推崇、功能强大且直观的µShape专业控制、采集和分析软件,可以简单、精确地测量较大的平面和透射窗口。
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干涉仪配置: Fizeau Interferometer 光源: White Light 输出极化: Not Specified 有效值重复性: Not Specified 有效值精度: Not Specified
Armstrong Optical较新推出了一系列经过客户验证的相位测量斐索干涉仪,包括垂直(向下看)和水平配置的300mm(12)孔径IFV-300和IFH-300。这两种配置都配有经过认证的Lambda/20传输平面和符合人体工程学设计的样品处理系统。使用我们的合作伙伴TriOptics Berlin提供的备受推崇、功能强大且直观的µShape专业控制、采集和分析软件,可以简单、精确地测量较大的平面和透射窗口。
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分类:半导体激光器配件
FL500是驱动低功率激光二极管的理想选择。它的工作电压为3至12 V,因此与Li+电池工作兼容。它可以配置为两个完全独立的250mA驱动器或单个500mA驱动器。与A型或B型激光二极管兼容。FL500可在恒流(CC)模式下快速轻松地操作。对于简单的CCMODE操作,所需的元件只有电源、模拟控制电压、激光器和可选滤波电路。对于其他特性,包括用于恒定功率操作的限流和光电二极管反馈,FL500可与FL591评估板配合使用。
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分散: 8nm/mm 波长范围: 200 - 400 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 600l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 16nm/mm 波长范围: 400 - 800 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 300l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 24nm/mm 波长范围: 200 - 800 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 200l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 36nm/mm 波长范围: 300 - 1170 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 138l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。