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致动器数量: 3 波前倾斜行程: 10um 学生人数: 2.4mm 反光涂层材料: Protected Silver
Mirrorcle Technologies公司的无万向架双轴扫描MEMS反射镜装置基于专有的ARI-MEMS制造技术,该技术较初是通过加州伯克利的亚得里亚海研究所(“ARI”)的研究项目开发的。它们在两个轴上提供非常快速的光束转向,同时需要超低功耗。反射镜将激光束或图像偏转到每个轴上高达32°的光学扫描角度(点对点或准静态模式)以及谐振模式中的更高角度。与体积庞大的基于检流计的光学扫描仪相比,这些设备所需的驱动功率要小几个数量级:驱动反射镜倾斜旋转的静电致动器的连续全速操作消耗的功率小于1mW。Mirrorcle Technologies MEMS反射镜完全由单片单晶硅制成,具有出色的可重复性和可靠性。平坦、光滑的镜面涂有一层具有高宽带反射率的金属薄膜。较小和中等尺寸的反射镜被制造为硅MEMS芯片的集成部分,而较大的反射镜被粘合到致动器上,从而允许定制反射镜尺寸。
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基底材料: BK7, Supremax 33, Mo, Cu, Si, Metallic, Zerodur, Sapphire, Calcium Fluoride, IR Fused Silica, UV Fused Silica, Fused Silica, Custom 波长范围: 190 - 4000 nm 入射角: 0-50deg 平整度: lambda/20, lambda/10, lambda/8, lambda/6, lambda/4 表面质量: 10-5 scratch-dig, 20-10 scratch-dig, 40-20 scratch-dig, 60-40 scratch-dig
PHOTONCHINA提供各种反射镜,包括激光线反射镜、谐波分离器反射镜、高反射(HR)反射镜、部分反射反射镜和金属镀膜反射镜。可以生产各种矩形、圆形、椭圆形或定制形状的镜子,包括平面、球面、凹面或凸面以及柱面。HR激光线反射镜(HR反射镜)HR激光线反射镜(HR)在特定波长和特定入射角(Aoi)下提供优化的性能,反射镜由基底和多层涂层堆叠组成,有助于在任何设计的入射角下对特定的激光线波长实现非常高的反射率。激光线HR涂层用于外部光束操作应用,即使轻微的损失也是无法忍受的。涂层由电子束蒸发提供,有/没有离子辅助涂层技术。HR宽带反射镜(BBHR反射镜)HR宽带反射镜(BBHR)为宽光谱提供高反射率。这些多层涂层为宽光谱提供了高反射率。因此,它是广泛的多波长激光或白光应用的理想选择。通过离子束溅射(IBS)或电子束蒸发,在有/没有离子辅助涂覆技术的情况下提供涂层。HR介电涂层可在0.19-20μm范围内使用。金属镀膜镜(MC镜)金属镜和部分反射器我公司长期为国内外客户提供金、银、铝、铬、铜等金属高反射和部分反射镀膜镜。PHOTONCHINA金属镀膜反射镜特点:受保护的黄金提供出色的宽带红外高反射率受保护的银在整个可见光和近红外范围内提供比铝更高的反射率保护铝是VIS应用的经济型解决方案UV增强铝在宽范围内提供良好的反射率,主要用于UV应用。