• 定制尺寸的高质量Zns激光保护窗与涂层 光学窗口片
    基底材料: ZnS 抗反射涂层: Coated, Uncoated 直径: 25.4mm 表面质量: 40-20 scratch-dig, 60-40 scratch-dig, 80-50 scratch-dig 表面平整度: lambda/4, lambda/6, lambda/8, lambda/10

    用于热成像系统的窗口、头罩和透镜。CVD ZnS,呈现橙色,主要工作在远红外区域。多光谱ZnS(M-ZnS)在0.4-12μm的全波段范围内表现出优异的光学性能,可用于远、中、近红外和可见光区域。CVD ZnS窗口、透镜和头罩的尺寸可达Ø250×16mm。对于m-ZnS,较大尺寸为300×200×15mm请通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com|;BZ-optical.com与我们联系

  • DWDM 100GHz密集型波分复用器 波分复用 (WDM)
    工作波长: 1260-1650nm 运行带宽: 0.11nm 隔离: 30dB 最大功率: 0.5W 保持极化: Yes, No

    100GHz密集波分复用器(DWDM)采用薄膜涂层技术和专利设计的无助熔剂金属键合微光学封装,以实现ITU波长的光分插。它提供了ITU信道中心波长、低插入损耗、高信道隔离度、宽通带、低温度灵敏度和环氧树脂自由光路。它可用于电信网络系统中的波长分插。

  • DWDM模块 波分复用 (WDM)
    工作波长: 1260-1650nm 运行带宽: 0.11nm 隔离: 30dB 最大功率: 0.5W

    HJYS 100GHz密集波分复用器(DWDM)采用薄膜涂层技术和专利设计的无助焊剂金属键合微光学封装,以实现ITU波长的光分插。它提供了ITU信道中心波长、低插入损耗、高信道隔离度、宽通带、低温度灵敏度和环氧树脂自由光路。它可用于电信网络系统中的波长分插。

  • 法医多光谱指纹摄影系统OR-GDZ10 法医学
    中国大陆
    分类:法医学

    观测仪器采用进口高亮度LED光源、航空铝合金外壳、高性能锂离子电池。主要用于灰尘指纹和荧光粉指纹的观察和拍照。充电方便,无记忆效应。

  • 钒酸钆与新迪姆 激光晶体
    白俄罗斯
    分类:激光晶体
    水晶类型: Nd:GdVO4 水晶长度: 0.5-20mm AR 涂层: Uncoated

    新的掺Nd3+的钒酸钆晶体GdVO4:Nd3+允许产生用于医学和技术应用的有效的二极管泵浦激光器。元件的大小和尺寸可以根据客户的需求而变化。

  • Ge单晶片 Ge窗口 锗窗口 Ge透镜 光学窗口片
    基底材料: Ge 抗反射涂层: Coated, Uncoated 直径: 3-300mm 表面质量: 20-10 scratch-dig, 40-20 scratch-dig, 60-40 scratch-dig 表面平整度: lambda/2, lambda/4, lambda/6, lambda/8, lambda/10

    锗(Ge)是8-12μm波段的高性能红外成像系统的优选透镜和窗口材料。由于其表面曲率较小,其高折射率使Ge成为低功率成像系统的理想选择。色差很小,通常不需要校正。锗较广泛地用于在2μm-12μm范围内工作的红外系统中的透镜和窗口。它的透射对温度非常敏感,在接近100°C时变得不透明。环境不会造成问题,因为锗是惰性的,机械坚固且相当坚硬。锗是一种高折射率材料,用于制造光谱学的衰减全反射(ATR)棱镜。其折射率使得锗在不需要涂层的情况下形成有效的自然50%分束器。它还广泛用作生产光学滤波器的衬底。锗覆盖了整个8-14微米热能带,并用于热成像的透镜系统中。它可以涂上金刚石,产生非常坚韧的前光学。应用于光谱仪和热成像中的窗口、透镜、分束器、ATR棱镜或滤光器。通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com联系我们|BZ-optical.com

  • 玻璃窗 光学窗口片
    基底材料: N-BK7, Fused Silica, UV Grade Fused Silica, IR Grade Fused Silica, Sapphire, Ge, ZnSe, ZnS, CaF2, IR Grade CaF2, MgF2, BaF2, Si 抗反射涂层: Uncoated 表面质量: 10-5 scratch-dig, 20-10 scratch-dig, 40-20 scratch-dig, 60-40 scratch-dig, 80-50 scratch-dig 表面平整度: lambda/20, Lambda/40, 1 lambda, lambda/2, lambda/4, lambda/6, lambda/8, lambda/10

    ICC提供Si,Ge,ZnSe,CaF2,BaF2,MgF2,BK7,石英,蓝宝石窗口和透镜。生长光学氟化物晶体:CaF2 BaF2 MgF2 LiF和硅生产光学元件:光学窗口,透镜,棱镜等其他工作材料:Ge/ZnSe/ZnS/石英/光学玻璃等通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com联系我们|BZ-optical.com

  • 绿色激光模块,532nm,点或线,30mW,50mW,100mW 显示技术
    中国大陆
    分类:显示技术
    厂商:Photonchina

    绿色激光模块-点特点:15年的晶体生长经验成本效益高稳定性和可靠性应用领域:激光指示器激光舞台灯户外草坪灯规格:项目参数零件号:LMGD-30/50/100波长(nm)532+/-1nm横向模式M00输出功率>30-100mW工作电压2V工作电流380-500mA横梁尺寸(10m)<18mm外壳材料铜或铝合金工作温度10~40℃储存温度-40~+70®C预期寿命>5000小时保修期6个月尺寸D13*L30mm注:1。可根据要求定制尺寸。

  • H-K9L BK7玻璃 D32*2MM AR涂层400-1000nm t>95%。 光学窗口片
    基底材料: N-BK7 直径: 32mm 厚度: 2mm

    H-K9L BK7玻璃D32*2mm抛光AR镀膜400-1000nm T>95%ISO认证工厂,300名工人,25000m2厂房。通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com联系我们|BZ-optical.com

  • 高质量的红外锗合金透镜(Ge透镜)在Swir 光学透镜
    材料: Ge 直径: 5mm 焦距: 300mm 边缘厚度,Te: 100mm 镜头类型: Plano-Convex, Plano-Concave, Bi-Convex, Bi-Concave

    光学GE窗口:为什么使用GE窗口?锗是一种用于制造的高指数材料用于光谱学的衰减全反射棱镜。它的折射指数表明锗使其有效自然50%分束器,无需涂层。锗(Ge)光学元件在许多地方使用红外(IR)应用程序或系统,包括热成像、光谱学或单色光源例如QuantumCascadelasers。德语(GE)光学元件光学元件设计用于高在红外(IR)光谱中的性能,而不使用红外(IR)防反射涂层锗(780)大约是镁的两倍氟化物,为需要的红外应用制造钛Ruggedoptics.锗易受热失控的影响,这意味着传输降低了温度增加。因此,应该使用GermaniumWindows温度低于100°C。锗的高密度(5.33g/cm3)在设计重量敏感系统时应予以考虑。Windows通常可用于各种尺寸,请联系美国的可用性。通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com联系我们|BZ-optical.com

  • 红外光学相机镜头,锗,硅,CaF2,Baf2,Znse,Zns 光学透镜
    材料: BaF2, Ge, Si, ZnSe, CaF2 直径: 1-300mm 焦距: 1-300mm 边缘厚度,Te: 5-30mm 镜头类型: Plano-Convex, Plano-Concave, Bi-Convex, Bi-Concave

    可用于制造透镜的各种玻璃材料。通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com联系我们|BZ-optical.com

  • 激光模块 fcgm-gd02-005 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.515um 输出功率: 5mW

    激光模块FCGM-GD02-005。

  • 激光模块 fcgm-gd02-xxx 半导体激光器
    德国
    中心波长: 0.515um 输出功率: 5mW

    激光模块FCGM-GD02-XXX。

  • 低光CMOS相机 科学和工业相机
    相机类型: Security 阵列类型: Vanadium Oxide (VOx) Microbolometer 光谱带: 8 - 14 um # 像素(高度): 384 # 像素(宽度): 288

    红外热通道:氧化钒探测器,8um~14um,17um,384×288,<60mK@f/1.0,30Hz<!--60mK-->视野:16°0.6,×12°44.4快门:无快门,无需校准图像低光CMOS通道:0.4um~1.2um,2048x2048,<0.0001Lux,30Hz视野:9°×6°30图像模式:White Hot/低光CMOS/Fusion IR/Fusion Color/IrColor热聚变中目标的智能自动跟踪亮度对比:自动、手动图像增强防雾:是图片和视频输出:是存储:内置16GSD卡,可存储约20000张图片下载图片:USB内置显示器:720x540,LCOS端口:电源,USB三脚架:1/4英寸三脚架可充电锂电池:USB适配器,5VDC,内置电池容量:5400mAh连续工作时间:8小时,可移动电源工作重量:503.5g外形尺寸:175mm×88.7mm×48.2mm工作温度:-20℃--50℃储存温度:-40℃--60℃红外通道镜头:25mm

  • ND:GDVO4 BY DeLn OPTICS 激光晶体
    水晶类型: Nd:GdVO4 AR 涂层: One side, Both sides

    掺钕钒酸钆(Nd:GdVO4)晶体具有良好的物理、光学和机械性能,是一种理想的DPSS(二极管泵浦固态)微小型激光器的基质材料。与Nd:YVO4相比,Nd:GdVO4具有更高的热导率,对于1.06μm和1.34μm的连续激光以及KTP和LBO的腔内倍频,钒酸钆产生了比Nd:YVO4更高的斜率效率或光转换。

  • Nd:GdVO4晶体 激光晶体
    中国大陆
    分类:激光晶体
    水晶类型: Nd:GdVO4 水晶直径: 3mm 水晶长度: 3mm AR 涂层: Uncoated

    Nd:GdVO4(掺钕钒酸钆)晶体具有良好的物理、光学和机械性能,是DPSS(二极管泵浦固体)微小型激光器理想的激光基质材料。它比Nd:YAG晶体具有更高的斜率,比Nd:YVO4晶体具有更好的热导率和更高的功率输出。

  • OptoCity的Nd:GdVO4激光晶体 激光晶体
    美国
    分类:激光晶体
    厂商:OptoCity
    水晶类型: Nd:GdVO4 水晶直径: 4mm 水晶长度: 18mm AR 涂层: One side, Both sides, Uncoated

    掺钕钒酸钆(Nd:GdVO4)是一种很有前途的二极管泵浦激光材料。与Nd:YVO4晶体类似,Nd:GdVO4晶体也表现出高增益、低阈值和在泵浦波长下的高吸收系数,这是由于钕掺杂剂与晶格的良好配合。与Nd:YVO4相比,Nd:GdVO4激光晶体具有更高的热导率。

  • OptoCity的Nd:KGW激光晶体 激光晶体
    美国
    分类:激光晶体
    厂商:OptoCity
    水晶类型: Nd:KGW 水晶直径: 20mm 水晶长度: 75mm AR 涂层: One side, Both sides, Uncoated

    掺钕钨酸钾钆晶体(Nd:KGd(WO4)2或Nd:KGW)是一种低阈值高效激光介质,特别适用于激光测距仪。这种激光器的效率比钇铝石榴石(YAG)激光器高3-5倍。在低泵浦能量(0.5至1.0J)下,KGW晶体是少数几种有效产生的材料之一。KGW单晶还可用于制造具有高输出能量的高效激光器。单晶表现出高的光学质量。KGW晶体对激光辐射具有很大的体强度价值。

  • 近红外脉冲测量 脉冲诊断器件
    设备类型: FROG 可测量的脉冲宽度: 4 - 500 fs 波长范围: 700 - 1100 nm 输入极化: Any

    作为AFROG设备,Grenouille产生脉冲强度和相位。时间和频谱以及频谱具有很高的准确性和可靠性,不需要对脉冲进行任何假设。它测量的是实际脉冲,而不是相干性。此外,Grenouillealsome测量了光束的空间分布。更重要的是,它还同时产生了其他难以测量的时空失真,即空间啁啾和脉冲前倾斜,这在大多数超短脉冲中都会发生,但实际上大多数都从未测量过。Grenouille是先进一种商业上可用的设备,可以测量这些失真和较准确的脉冲前倾斜诊断。它也产生了近似的脉冲绝对波长。值得注意的是,GrenouilleneedsnoAlignment——永远!即使把它放在梁上也是非常容易的。Grenouilletellsyoumoreaboutyourpulse用比想象中更少的努力!重量只有1公斤,轻便小巧,AFootPrint比AFoot更小!

  • 卡西克斯的掺钕钒酸钆(Nd:GdVO4)晶体 激光晶体
    中国大陆
    分类:激光晶体
    厂商:CASIX Inc.
    水晶类型: Nd:GdVO4 AR 涂层: Uncoated

    Nd:GdVO4晶体是优良的激光晶体。它们具有良好的物理、光学和机械性能,是二极管泵浦固体微小型激光器理想的激光基质材料。它们比Nd:YAG晶体具有更高的斜率效率,比Nd:YVO4晶体具有更好的热导率和更高的功率输出,因此它们是高功率输出DPSS激光器的良好选择。使用先进的生长技术,CASIX提供了Nd掺杂从0.1atm%到4.0atm%的高等级Nd:GdVO4晶体。此外,还可提供各种尺寸和涂层的晶体组件。