Eksma Optics提供广泛的金属镀膜镜选择。受保护的金（Au）镜具有较高的红外反射率。增强的金属涂层在整个工作带宽上提供更大的反射。有关定制订单和更多技术细节，请参阅我们的目录或前往1

在立方体分束器的内表面上涂覆偏振膜。薄膜偏振器利用发生在偏离90°角的反射上的偏振。立方体偏振分束器可以针对特定波长进行优化，从而为激光应用提供优越的性能。欲了解更多详情，请访问EksmaOptics：http：//eksmaoptics.com/optical-components/polarizing-optics/cube-polarizing-beamsplitters/#products

在立方体分束器的内表面上涂覆偏振膜。薄膜偏振器利用在偏离90°角的反射上发生的偏振。立方体偏振分束器可以针对特定波长进行优化，从而为激光应用提供优越的性能。欲了解更多详情，请访问EksmaOptics：http：//eksmaoptics.com/optical-components/polarizing-optics/cube-polarizing-beamsplitters/#products

OZ Optics提供全系列低成本、紧凑型PC板可安装电机驱动的低背反射可变衰减器。这些衰减器具有出色的速度、可重复性和精度。单模和偏振保持（PM）衰减器利用新颖的阻塞式衰减技术，而多模衰减器使用可变中性密度滤波器来较小化模式相关损耗。这两种类型都具有归位传感器来校准衰减器，消除了使用外部抽头的需要，以及防干扰调谐机制。通常，OZ Optics在构建保偏元件和跳线时使用基于熊猫光纤结构的保偏光纤。然而，OZ光学器件可以使用其他PM光纤结构来构造器件。我们确实有一些替代纤维类型的库存，所以请联系我们的销售部门了解供货情况。如有必要，我们愿意使用客户提供的光纤来构建设备。

OZ Optics提供全系列低成本、紧凑型PC板可安装电机驱动的低背反射可变衰减器。这些衰减器具有出色的速度、可重复性和精度。单模和偏振保持（PM）衰减器利用新颖的阻塞式衰减技术，而多模衰减器使用可变中性密度滤波器来较小化模式相关损耗。这两种类型都具有归位传感器来校准衰减器，消除了使用外部抽头的需要，以及防干扰调谐机制。通常，OZ Optics在构建保偏元件和跳线时使用基于熊猫光纤结构的保偏光纤。然而，OZ光学器件可以使用其他PM光纤结构来构造器件。我们确实有一些替代纤维类型的库存，所以请联系我们的销售部门了解供货情况。如有必要，我们愿意使用客户提供的光纤来构建设备。

这款台式ED-XRF光谱仪是一款易于使用的高灵敏度元素分析智能解决方案，可分析大多数样品类型（固体、粉末、液体）的主要痕量成分，只需很少或无需样品制备。当需要时，ElementEye可轻松补充SEM、EPMA、NMR和质谱分析。ElementEye能够进行50kV激励，并采用了我们较新的硅漂移探测器（SDD）技术。结合JEOL先进的基本参数（FP）方法，该仪器可在几分钟内提供高灵敏度的定性和定量分析结果。薄膜FP方法可用于涂层样品上薄膜厚度的无损测量。使用较多9种类型的过滤器和样品室真空装置，可在整个能量范围内进行高灵敏度分析。可选的12位自动进样器可通过连续采集加快分析速度。

Emerald 9250系列脉冲发生器旨在满足对经济实惠的高分辨率系统同步器日益增长的需求。这款精密延迟发生器标配280 ppb TCXO振荡器和5ps定时分辨率，在紧凑的封装中实现高性能。

可去除漆包线、电磁线、电感、线圈等电子元件的漆膜或其他涂层，有效解决生产效率的瓶颈，满足流水线作业的要求。由半导体侧面泵浦激光器、光学扫描系统、自动翻转装置和机械运动系统组成，配以专用工具，实现牙釉质的自动去除。包括激光及光学系统、控制系统和加工工作台三部分。由计算机结合PLC控制，实现移动、定位、扑动等功能，实现去釉

EOS系列高光谱成像仪采用了Photon ETC公司基于体布拉格光栅（VBG）的专利滤波技术。这项技术是高光谱成像的理想选择。微视场和宽视场平台都是为发光（光致发光或电致发光）和反射测量而设计的，并且可以适应宽带或单色光源。我们的过滤技术允许快速获取光谱分辨的高分辨率图像。基于色散光谱仪的推扫式（线扫描）系统一次采集一条线，而基于VBG的设备允许全局成像。这意味着使用基于VBG的技术，可以一次获取完整的单色图像，而不是逐行（或逐点）获取。由于相机捕获视场中的整个区域，因此可以实时收集光谱和空间信息，并可以记录光谱分辨的视频。V-EOS™在可见光谱上提供一系列单色图像，避免了繁琐的X-Y或线扫描。该系统通过提供光谱特征的大规模分布来进行前所未有的分析，无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化。我们的S-EOS™宽场高光谱成像仪集成了我们的新型Zephir相机，现在覆盖了高达2.5μm的短波红外光谱区域。该系统通过提供光谱特征的大规模分布，无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化，都可以进行前所未有的分析。Grand-EOS高光谱成像仪将高光谱显微镜系统与高光谱广域成像平台相结合，提供了VNIR（400-100 nm）和SWIR（900-2500 nm）光谱范围的微观和宏观模态。

红外熔融石英

EOT蓝宝石。

EOT硅。

Er3+的发射跃迁发生在4I13/2→4I15/2的波长范围内。然而，Er3+吸收本身太弱而不允许直接泵浦，因此需要能量转移。较有效的是Yb3+离子从2F7/2→2F5/2跃迁吸收，随后能量转移到4I11/2Er3+能级，并快速无辐射跃迁到Er3+4I13/2能级，发射预期的荧光。辐射输出波长为1540 nm的Er，Yb：玻璃激光器不需要添加额外的组件。Er3+/Yb3+共掺磷酸盐玻璃——作为LD泵浦的1540nm人眼安全辐射源，可直接发射人眼安全的1540nm激光辐射，用于激光测距和通信领域1540nm Er3+/Yb3+共掺磷酸盐玻璃激光器是一种人眼安全波段激光器，由于1540nm波长正好处于人眼安全和光纤通信窗口的位置，其结构紧凑、成本低，在激光产生和信号放大等方面备受关注，已被应用于测距、雷达、目标识别等领域。Er~（3+）/Yb~（3+）共掺磷酸盐玻璃配合被动调Q晶体-Co：尖晶石获得1540nm脉冲固体激光。

Er3+/Yb3+共掺磷酸盐玻璃作为LD泵浦的1540nm人眼安全辐射源，在此波长范围内Er3+发生4I13/2→4I15/2跃迁，发射出人眼安全的1540nm激光辐射，可直接用于激光测距和通信领域。然而，Er3+吸收本身太弱而不允许直接泵浦，因此需要能量转移。较有效的是Yb3+离子从2F7/2→2F5/2跃迁吸收，随后能量转移到Er3+的4I11/2能级，并快速无辐射跃迁到Er3+的4I13/2能级，发射出预期的荧光。

Euresys Picolo是一款单视频数字转换器，低成本PCI采集卡，针对单摄像机应用进行了优化，PAL视频每秒25帧。超性能特性可增强安全应用或工业应用（如质量控制和生产监控）。

Helios EQ32高光谱成像系统是一种强大的分析工具，基于非接触和非破坏性的实时红外成像光谱。EVK Helios系统分析物体的化学性质，并区分彩色相机不可见的材料类型。内部处理引擎提供物料流的定性和定量信息，例如分析物浓度或材料成分。摄像机作为一个即插即用组件提供了完整的内部校准。Helios EQ32采用紧凑、坚固的不锈钢外壳，具有应力解耦光学机械结构。该系统针对实际工业环境进行了优化，可在整个指定温度范围内提供稳定的校准数据。

8060扩展高度工作台为安装组件或组件提供了一个坚固的固定高度工作台。桌子为6英寸×6英寸，由0.50英寸厚的黑色阳极氧化铝工装板制成。顶板上有各种1⁄4-20螺纹孔，用于安装部件。底板有5个沉孔，可容纳1⁄4-20内六角螺钉，用于安装到光学台或试验板上。支撑杆为0.750不锈钢，可用于任何高度。如有要求，可提供其他工作台尺寸和孔型。

IG22-26是一系列全色PIN光电二极管，其波长范围覆盖500-2600 nm，具体取决于选件。该系列专为要求苛刻的光谱和辐射测量应用而设计。它具有出色的分流电阻，并在宽范围内具有出色的响应度。

F Duo激光器专为高速在线集成和独立工作站而设计。它们是要求苛刻的金属标记应用的理想选择，但也适用于其他材料，如塑料和复合材料。F Duo激光器使用寿命长，维护成本低，拥有成本极低。F Duo脉冲光纤激光器的产品范围已扩展到包括MOPA激光器。

F Duo激光器专为高速在线集成和独立工作站而设计。它们是要求苛刻的金属标记应用的理想选择，但也适用于其他材料，如塑料和复合材料。F Duo激光器使用寿命长，维护成本低，拥有成本极低。F Duo脉冲光纤激光器的产品范围已扩展到包括MOPA激光器。