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传感器类型: EMCCD # 像素(宽度): 1600 # 像素(高度): 200 像素大小: 16um 峰值量子效率: 97%
EM技术使来自每个像素的电荷在读出之前在传感器上倍增,从而提供单光子灵敏度。Newton EM平台结合了1600 X 200(或1600 X 400)16μm像素阵列、低至-100°C的热电冷却(暗电流可忽略不计)、3MHz读出和USB 2.0即插即用连接,为光谱应用提供无与伦比的性能。双输出放大器允许在传统的高灵敏度或电子倍增输出之间进行软件选择,以适应广泛的光子状态条件。这使得Newton EMCCD成为超快化学成像应用的理想选择,例如SERS、TERS或发光成像。
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测量类型: Elemental analysis
Rigaku NEX CG可对各种类型的样品中的主要和次要原子元素进行快速定性和定量测定-较低标准:非破坏性分析NA至non-U固体、液体、粉末和薄膜检测下限的极化激发峰重叠的新颖处理减少了误差使用Ultracarry的含水样品的ppb检测极限带EZ分析的简化用户界面用于迹级灵敏度的极化笛卡尔几何学与传统的EDXRF分析仪不同,NEX CG采用了独特的紧密耦合笛卡尔几何(CG)光学内核,大大提高了信噪比。通过使用二次目标激励代替传统的直接激励,进一步提高了灵敏度。由此产生的背景噪声的显著降低和元素峰值的同时增加,使得光谱仪即使在困难的样品类型中也能够进行常规痕量元素分析。新颖的软件减少了对标准的需求NEX CG由新的定性和定量分析软件RPF-SQX提供支持,该软件采用了Rigaku Profile Fitting(RPF)技术。该软件允许在没有标准品的情况下对几乎所有样品类型进行半定量分析,并使用标准品进行严格的定量分析。
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测量类型: Elemental analysis
作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造,无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中,NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力,包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育,以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制(QC)还是其更复杂的变体(如分析质量控制(AQC)、质量保证(QA)或六西格玛等统计过程控制),NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。
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测量类型: Chemical identification
Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光(EDXRF)为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术,Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析,适用于从铝(Al)到铀(thickness U)的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计,能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上,并配备有位于滚轮上方的线性横动机构,以使头-面距离恒定。需要时,可直接测量涂层的元素组成。相反,涂层重量(或涂层厚度)可以直接测量(其中元素的计数率与厚度成比例)或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量(其中计数率与厚度负相关)。长期以来,台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描,用于更严格的过程控制公差,将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材,以改变产品(如标签)或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少,或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域,则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响,或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害,从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮,则制造的辊的成本增加,降低了盈利能力,并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。
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测量类型: Elemental analysis
Rigaku NEX OL采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了液流和固定位置网络或线圈应用的工艺元素分析的下一次进化。NEX OL的设计涵盖了从重工业到食品级的过程测量解决方案,可配置用于分类和非分类领域。从铝(Al)到铀(₂U)的分析为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX QC高分辨率台式仪器。凭借这一成熟的技术,Rigaku NEX OL可对从铝(Al)到铀(U)的元素进行快速、无损的多元素分析——从百万分率(ppm)水平到高重量百分比(wt%)浓度。Rigaku NEX OL配备50 kV X射线管和SDD探测器,以及标准化、优化的管式过滤器套件,旨在解决广泛的过程控制应用。
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测量类型: Elemental analysis
基于Windows®的EDXRF用于快速元素分析作为一款优质的低成本台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,Rigaku NEX QC+Quantez通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体和泥浆。野外、工厂或实验室的元素分析NEX QC+Quantez系列专为重工业应用而设计,无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中,其卓越的分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增添了广泛的吸引力,包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育,以及工业和生产监控应用。无论需要的是基本质量控制(QC)还是其更复杂的变体(如分析质量控制(AQC)、质量保证(QA)或六西格玛等统计过程控制),NEX QC+Quantez系列都是常规元素分析的可靠选择。
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相机类型: Scientific 阵列类型: InGaAs 光谱带: 0.4 - 1.7 um # 像素(高度): 512 # 像素(宽度): 640
NINOX-640是一款制冷型高灵敏度数字VIS-SWIR相机。使用SCD的640 X 512 InGaAs传感器,Ninox 640可实现0.4µm至1.7µm的高灵敏度成像。15µm X 15µm像素间距可实现较高分辨率的VIS-SWIR图像,OWL 640的电子读出噪声小于50,可实现较高的VIS-SWIR探测极限。Ninox 640采用TEC和液体冷却至-20°C,可将暗电流降低至约1,500e/p/s,允许更长时间的曝光。Ninox 640提供14位CameraLink输出,运行频率为10至120Hz,支持智能自动AGC的高速数字视频。
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中心波长: 1000nm 带宽: 75nm 峰值透射率: 95%
NIR带通滤波器SP用于各种光学传感器应用中。它们一方面阻挡可见环境光,另一方面阻挡长波红外光。只有来自近红外(NIR)范围的所选信号或测量光可以被传输。因此,NIR带通滤波器SP是实现出色的信噪比的关键组件,这与光学测量、距离测量应用或用于手势识别(TOF,飞行时间)的特定系统相关。这些特性有助于在较低的信号光强度下进行精确的距离测量,或者在正常的信号光强度下进行灵敏度增加和精度更高的测量。根据特定的应用和所使用的光源,NIR带通滤波器可以与客户合作以成本有效的方式进行定制。此外,为了进一步抑制干扰杂散光或促进预定义结构的测量,这些滤光片可以配备图案化的黑色镀铬层。