使用Bitflow的Neon-CLB简化您的工业、医疗或半导体成像应用，这是较易于使用且较可靠的Base/POCL Camera Link图像采集卡，可在任何地方使用。Neon-CLB以相机的较高帧/数据速率捕捉图像，精确的图像采集适用于较苛刻的应用。Neon-CLB专为需要PCI Express总线的性能、BitFlow著名的工业质量和行业中较低的价格点之一的OEM而设计。Neon-CLB可以从所有基础CL摄像机获取数据，并具有足够的工业I/O来处理较复杂的同步任务。使用我们的SDK将Neon-CLB添加到您的应用程序非常简单，它支持32位和64位操作系统。SDK为复杂的缓冲区管理提供高级API，并为快速定制控制提供对主板的低级直接访问。如果您需要较简单、较可靠、性能较佳的Base Camera Link和POCL图像采集卡，请立即致电Bitflow，获取我们的OEM定价Neon-CLB，这是Bitflow的第四代强大的工业Camera Link成像产品。

NeoSpectra-Micro是一种集成式光谱传感器，可用于各种材料传感应用，以进行鉴定和量化。该传感器的性能可与实验室光谱仪相媲美，但尺寸更小，成本更低。传感器基于傅里叶变换红外（FT-IR）技术，该技术是实验室光谱仪中使用的标准技术，可为材料的较佳鉴定和量化提供宽光谱范围。该传感器使用了专利的微机电系统（MEMS）技术，该技术允许在MEMS芯片上单片制造迈克尔逊干涉仪。NeoSpectra-Micro传感器可确定1，350–2，500 nm近红外（NIR）范围内输入光的光谱含量。

NeoSpectra扫描仪是一种便携式和手持式光谱传感设备，可用于各种材料传感应用。该扫描仪能够在各种行业中开发现场材料分析应用。该扫描仪集成了NeoSpectra传感器，可在NIR（1，350–2，500 nm）的宽光谱范围内工作，提供较佳的材料鉴定和量化。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

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许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。介质镜全介质镜由陶瓷材料而不是金属层制成，并依靠相长干涉来产生高反射率。因此，它们在比金属镜窄得多的波长范围内工作，并且是角度敏感的。然而，与金属镜相比，它们具有极高的耐用性，并且可以在高温环境中有效地工作。此外，它们比金属镜更环保。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。高反射器纽波特薄膜实验室在制造用于紫外、可见和红外应用的高反射涂层方面拥有丰富的经验。较高的总反射率（R>99.9%）可以用相对窄带的电介质反射器来实现，该电介质反射器可以针对任何给定的性能带进行优化。然而，可以为几乎任何应用制造非常高的反射器，包括多波段和宽波段。

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许多应用需要高反射性的表面，并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室，我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。金属镜面涂层-铝（Al）-铜（Cu）-金（Au）-银（Ag）金属镜由金属涂层组成。然而，裸露的金属容易划伤，因此通常在金属层上沉积介电层以增加耐用性。这些被称为受保护的金属膜（例如，受保护的铝）。通常在金属膜上沉积更复杂的多层涂层，以提供增加的反射率或改变反射镜的性能。设计包括保护和增强金，铝和银。可以针对先进或第二表面反射、入射角和基底材料来设计涂层。涂层经过优化，可在紫外至红外区域发挥较大性能。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

这一高端USB2.0 Newton CCD系列将Andor的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却结合在一起，并辅以Andor的UltraVac™技术，该技术在科学和工业领域具有无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1，600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱（或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术！）的理想工具，例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素，用于较高UV至VIS分辨率光谱，而920系列及其26 X 26μm为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个>6.6 mm高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。

Rigaku NEX CG可对各种类型的样品中的主要和次要原子元素进行快速定性和定量测定-较低标准：非破坏性分析NA至non-U固体、液体、粉末和薄膜检测下限的极化激发峰重叠的新颖处理减少了误差使用Ultracarry的含水样品的ppb检测极限带EZ分析的简化用户界面用于迹级灵敏度的极化笛卡尔几何学与传统的EDXRF分析仪不同，NEX CG采用了独特的紧密耦合笛卡尔几何（CG）光学内核，大大提高了信噪比。通过使用二次目标激励代替传统的直接激励，进一步提高了灵敏度。由此产生的背景噪声的显著降低和元素峰值的同时增加，使得光谱仪即使在困难的样品类型中也能够进行常规痕量元素分析。新颖的软件减少了对标准的需求NEX CG由新的定性和定量分析软件RPF-SQX提供支持，该软件采用了Rigaku Profile Fitting（RPF）技术。该软件允许在没有标准品的情况下对几乎所有样品类型进行半定量分析，并使用标准品进行严格的定量分析。

作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造，无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中，NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力，包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育，以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制（QC）还是其更复杂的变体（如分析质量控制（AQC）、质量保证（QA）或六西格玛等统计过程控制），NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。

Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光（EDXRF）为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术，Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析，适用于从铝（Al）到铀（thickness U）的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计，能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上，并配备有位于滚轮上方的线性横动机构，以使头-面距离恒定。需要时，可直接测量涂层的元素组成。相反，涂层重量（或涂层厚度）可以直接测量（其中元素的计数率与厚度成比例）或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量（其中计数率与厚度负相关）。长期以来，台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描，用于更严格的过程控制公差，将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材，以改变产品（如标签）或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少，或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域，则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响，或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害，从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮，则制造的辊的成本增加，降低了盈利能力，并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。

Rigaku NEX QC能量色散X射线荧光（EDXRF）分析仪可快速定量测定各种船用燃料中的硫：非破坏性地分析硫（S）至低ppm水平分析镍（Ni）、钒（V）和铁（Fe）（如需要）分析锌（Zn）以确定燃油是否受到污染半导体探测器具有卓越的可靠性现代触摸屏“图标驱动”用户界面方便的内置热敏打印机低成本，无与伦比的性价比ASTM D4294和ISO 8754测定硫的方法

基于Windows®的EDXRF用于快速元素分析作为一款优质的低成本台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，Rigaku NEX QC+Quantez通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体和泥浆。野外、工厂或实验室的元素分析NEX QC+Quantez系列专为重工业应用而设计，无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中，其卓越的分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增添了广泛的吸引力，包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育，以及工业和生产监控应用。无论需要的是基本质量控制（QC）还是其更复杂的变体（如分析质量控制（AQC）、质量保证（QA）或六西格玛等统计过程控制），NEX QC+Quantez系列都是常规元素分析的可靠选择。

介绍由AirSight设计的NextCore RN50无人机激光雷达装置。RN50是专为DJI M600飞行平台打造的用户友好系统，可精确到50毫米，并拥有闪电般的云处理速度。该单元仅作为有效载荷选项，允许已经访问合适的GNSS数据的运营商使用其现有的基站设备或RINEX订阅。

日亚NUBM44 450nm 6W 9mm全新NUBM44是一款发射6W功率的445nm激光二极管。它是目前所有9mm TO-CAN（TO-5封装）激光二极管的较高功率。尽管NUBM44的典型中心波长为445nm，但在某些文献中，它有时被称为450nm激光二极管。尽管这是一个多模激光二极管，但它具有极窄的波导，这使得它几乎具有任何高功率半导体激光器的较低光学扩展量（给定光束直径的远场发散度）。与其他高功率激光二极管相比，窄发射极宽度使其能够更好地准直和聚焦。-6.0W蓝色激光二极管，波长445nm-高度可聚焦且能够很好地准直-紧凑型TO-5（9mm）TO-CAN封装-0C至65C的宽工作温度范围-氮化镓蓝色激光技术可延长高温下的使用寿命设计波长：445 nm工作电流典型值[A]：3 A工作温度范围：0至+60°C工作电压：3.7-5.2 V封装：TO-5阈值电流：150-350 mA存储温度范围：-40至85°C20°C时的光功率[W]：6 W估计寿命：10000小时与其它高功率半导体激光器相比，这种蓝色激光二极管相对不受工作温度的影响，并且具有0℃至65℃的外壳工作温度范围。NUBM44在25℃下的典型寿命为20，000小时。然而，如果蓝色激光器的外壳温度被加热到65℃，则寿命仅降低很小的系数。由于较近开发的氮化镓激光技术，这是先进可能的。目前用于红光和近红外激光二极管的砷化镓激光技术不能在高温下实现低的长期退化水平。因此，这种蓝色激光二极管是各种环境和应用的可靠选择。此外，该GaN激光器具有特殊的TO-5（9mm）封装，这使其具有比该功率水平下的激光二极管通常可能的热阻更低的热阻。9毫米的TO-CAN也是密封的，可以保护半导体激光器芯片免受灰尘和其他污染。相比之下，高功率红光和NIR激光二极管通常需要C-Mount封装，其具有暴露的刻面，如果不在洁净室环境中操作，则会出现可靠性问题。