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波长范围: 240 - 1700 nm 决议: 0.3nm 最短扫描时间: 2sec
FilmTek™2000 SE台式计量系统具有无与伦比的测量性能、多功能性和速度,适用于无图案的薄膜到厚膜应用。它非常适合学术和研发环境。FilmTek™2000 SE结合了光谱椭圆偏振法和DUV多角度偏振反射法,可同时测量薄膜厚度、折射率和消光系数。我们先进的旋转补偿器设计可在整个Δ(Δ)范围内实现精度和准确度,包括接近0°和180°。当无法在布鲁斯特条件附近进行测量时,这可以实现较佳性能,这对于硅或玻璃衬底上非常薄的薄膜的精确测量是必不可少的。数千个波长可在几秒钟内同时收集,集成的自动对焦功能消除了同类椭偏仪所需的手动样品对准的繁琐任务。FilmTek™2000 SE是一个完全集成的封装,配有直观的材料建模软件,即使是较苛刻的测量任务也能简单可靠地完成。FilmTek™软件包括完全用户可定制的样本映射功能,可快速生成任何测量参数的2D和3D数据图。除了用户定义的图案外,标准贴图图案还包括极坐标、X-Y、Rθ或线性。
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界面: CoaXPress (CXP) 通道数量: Up to 4
Firebird Single CoaXpress Low Profile是Active Silicon较先进的Firebird Frame Grabber系列中的一员。Firebird采用Active Silicon专有的DMA引擎技术“ActiveDMA”,专为先进性能而设计。这项技术创新应用了基于RISC的处理器技术,保证了零CPU干预、高速和低延迟的图像数据传输。CoaXPress是专业和工业应用中高速成像的领先传输标准。CoaXPress Link支持高达6.25 Gbps的数据速率,以及高达13W的设备功率和20 Mbps的设备控制-所有这些都在一根同轴电缆上实现。支持非常长的电缆长度-使用Belden 1694A电缆时,6.25 Gbps时较长可达40米,3.125 Gbps时超过100米-使用较粗的电缆时甚至更长。Active Silicon是CoaXPress国际标准的主要作者之一,该标准由JIIA(日本工业成像协会)主办。我们所有的CoaXPress产品都通过了JIIA CoaXPress产品认证计划的认证,符合规范。Firebird由Active Silicon的软件开发工具包ActiveSDK提供支持,该工具包允许快速系统开发和集成,并可作为单独的项目提供。它提供全面的示例应用程序和优化库,并通过通用API支持各种操作系统,包括Windows、Linux(64位)和QNX。还提供第三方应用程序的驱动程序,如Cognex VisionPro、Halcon、Common Vision Blox、StreamPix、LabVIEW等。驱动程序中包含完整的GenICam支持,其中包括用于数据流和寄存器访问的Gentl Producer。除了控制硬件的功能外,库还包括用于操作和显示图像的通用功能。单独的数据表详细描述了SDK。
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反光涂层: Protected Aluminum 基质: BK7 平均反射率: 94% 波长范围: 400 - 700 nm 表面平整度: Custom
先进表面镜(FSM),也称为前表面镜,具有施加到玻璃基板的前表面的反射表面。这些先进表面涂层镜特别适用于通用应用,并作为基本实验室设备的一部分。对于0-45度的入射角,这些反射镜的多层涂层跨越大约300nm的光谱。我们提供的所有镜子的先进个正面都涂有铝(Al),并涂有一氧化硅(SiO)或氟化镁(MgF2)。当光穿过玻璃到达反射表面,然后如在第二或后表面镜中那样穿过玻璃返回时,先进表面镜可以减少来自二次折射的失真和“重影”的机会。首先,表面镜对于某些应用是必不可少的,在这些应用中,光被操纵并且失真必须被较小化。典型用途包括望远镜,潜望镜,激光光学,军事和商业模拟器,相机和较近的3D扫描仪。雪兰光学可以提供近1000mm的大尺寸。
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测量类型: Contaminant detection and analysis, Chemical identification, Other 最低电平检测: 1 - 1 ppm
与XUL系列一样,XRF光谱仪Fischerscope®X-Ray XAN®非常适合分析形状简单的样品。然而,XanSeries的一大优势在于其高质量的半导体探测器。X射线荧光(XRF)不仅可以测量涂层的厚度,还可以分析合金的成分(例如,G。铜)。XanSeries总共包括5台台式XRF光谱仪,涵盖了广泛的应用。XAN215具有高性价比的PIN检测器。它非常适合简单的涂层厚度任务,例如铁或Au/Ni/Cu上的锌。对于使用合金或贵金属的更复杂的应用,我们建议使用我们的带有硅漂移探测器的XRF设备(例如Xan220):由于其分辨率高得多,它可以可靠地区分金和铂。当您需要检测微量重金属和其他有害物质时,Xan250是您的解决方案。
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测量类型: Contaminant detection and analysis, Chemical identification, Other 最低电平检测: 1 - 1 ppm
FISCHERSCOPE®X光XUL®系列是每个电镀车间真正的基础设备。这些简单且经济实惠的能量色散X射线荧光XRF分析仪非常适合监测镀液成分,但在质量控制方面,它们也是不可或缺的帮手:坚固耐用,非常适合测量螺母和螺栓等批量生产零件上的电镀层。XUL/XULM系列中的所有XRF光谱仪操作简单直观。较大的样品可以用手简单地放置在测量室中;或者,对于较小的项目,如插头,仪器可以配备手动样品台。虽然测量设备很紧凑,但它们为您的试件提供了足够的空间-高达17厘米。如果您有几个不同的测量任务,FischerScope X射线XULM具有可更换的过滤器和准直器,因此您可以为所有应用创建较佳的测量条件。此外,XULM具有内置的微聚焦管,即使测量点很小,测量层很薄,也能提供精确的结果。
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分散: 8nm/mm 波长范围: 200 - 400 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 600l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 16nm/mm 波长范围: 400 - 800 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 300l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 24nm/mm 波长范围: 200 - 800 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 200l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 36nm/mm 波长范围: 300 - 1170 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 138l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 40nm/mm 波长范围: 200 - 1200 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 120l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 48nm/mm 波长范围: 200 - 1400 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 100l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。
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分散: 4nm/mm 波长范围: 300 - 400 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 1200l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅被设计为将光谱聚焦到平面表面上,使其非常适合与线性或2-射线探测器一起使用。这些光栅由既不等间距也不平行的凹槽制成,并经过计算机优化,以在探测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像。与传统的I型罗兰圆凹面光栅相比,该光栅提供了更好的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的面探测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。