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测量类型: Chemical identification
Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光(EDXRF)为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术,Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析,适用于从铝(Al)到铀(thickness U)的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计,能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上,并配备有位于滚轮上方的线性横动机构,以使头-面距离恒定。需要时,可直接测量涂层的元素组成。相反,涂层重量(或涂层厚度)可以直接测量(其中元素的计数率与厚度成比例)或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量(其中计数率与厚度负相关)。长期以来,台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描,用于更严格的过程控制公差,将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材,以改变产品(如标签)或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少,或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域,则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响,或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害,从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮,则制造的辊的成本增加,降低了盈利能力,并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。
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测量类型: Elemental analysis
Rigaku NEX OL采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了液流和固定位置网络或线圈应用的工艺元素分析的下一次进化。NEX OL的设计涵盖了从重工业到食品级的过程测量解决方案,可配置用于分类和非分类领域。从铝(Al)到铀(₂U)的分析为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX QC高分辨率台式仪器。凭借这一成熟的技术,Rigaku NEX OL可对从铝(Al)到铀(U)的元素进行快速、无损的多元素分析——从百万分率(ppm)水平到高重量百分比(wt%)浓度。Rigaku NEX OL配备50 kV X射线管和SDD探测器,以及标准化、优化的管式过滤器套件,旨在解决广泛的过程控制应用。
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波长: 1064nm 平均值功率: 2.2W 重复频率: 0.01 - 2.5 kHz 空间模式: 1.3 脉宽: 10ns
NL200系列DPSS Q开关纳秒激光器在kHz重复率下提供高脉冲能量。端面泵浦设计使该激光器结构紧凑,易于集成。用于532nm、355nm、266nm和213nm波长的谐波产生模块容易地连接到激光器框架。纳秒二极管泵浦的NL200系列调Q激光器具有短脉冲持续时间、可变重复率和外部TTL触发等特点,在需要较高脉冲能量时,对于脉冲激光沉积、掩模烧蚀或透明材料的体积内标记等特定应用,是极具成本效益的光源。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使该激光器成为光谱学和遥感应用的完美工具。机械稳定和密封设计确保激光器部件的可靠运行和长寿命。
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波长: 1064nm 平均值功率: 2W 重复频率: 0.01 - 1 kHz 空间模式: 1.3 脉宽: 10ns
NL200系列DPSS Q开关纳秒激光器在kHz重复率下提供高脉冲能量。端面泵浦设计使该激光器结构紧凑,易于集成。用于532nm、355nm、266nm和213nm波长的谐波产生模块容易地连接到激光器框架。纳秒二极管泵浦的NL200系列调Q激光器具有短脉冲持续时间、可变重复率和外部TTL触发等特性,在需要更高脉冲能量时,对于脉冲激光沉积、掩模烧蚀或透明材料的内部体积标记等特定应用而言,是极具成本效益的光源。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使该激光器成为光谱学和遥感应用的完美工具。机械稳定和密封设计确保激光器部件的可靠运行和长寿命。
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波长: 1064nm 平均值功率: 4W 重复频率: 0.5 - 1 kHz 空间模式: 1.3 脉宽: 10ns
NL200系列DPSS Q开关纳秒激光器在kHz重复率下提供高脉冲能量。端面泵浦设计使该激光器结构紧凑,易于集成。用于532nm、355nm、266nm和213nm波长的谐波产生模块容易地连接到激光器框架。纳秒二极管泵浦的NL200系列调Q激光器具有短脉冲持续时间、可变重复率和外部TTL触发等特点,在需要较高脉冲能量时,对于脉冲激光沉积、掩模烧蚀或透明材料的体积内标记等特定应用,是极具成本效益的光源。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使该激光器成为光谱学和遥感应用的完美工具。机械稳定和密封设计确保激光器部件的可靠运行和长寿命。
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旅行范围: 12.7mm 负载能力: 2.64kg 负载能力: 2.64kg
Del-Tron的非磁性滚珠滑轨新产品系列为不能容忍磁性干扰的应用提供了理想的解决方案。仅举几个例子,这些轻质非磁性滚珠滑轨是医疗、半导体、军事和激光应用的完美解决方案。Del-Tron的非磁性滚珠滑轨在美国制造,采用氮化硅陶瓷滚珠轴承、钛轴、铝托架、底座和端盖以及黄铜紧固件制成。将这些材料与我们的标准滚珠滑轨安装孔和工厂预载相结合,您就找到了满足您的非磁性线性运动滑轨要求的完美解决方案。我们的非磁性线性运动球滑轨有7种外形尺寸可供选择,行程从0.5英寸到12英寸不等。也可提供公制滚珠滑轨。所有滑块的直线精度为每英寸行程0.0005“,位置重复性为0.0002”。它们是自清洁的,不需要润滑。为了您的方便,通过点击我们的零件搜索,可以获得我们整个产品线的实体模型图纸。点击您感兴趣的产品,在产品数据页面上找到实体模型。我们随时准备讨论您可能需要的任何特殊需求或修改。非磁性线性滚珠滑轨、非磁性线性轴承、非磁性滑台、线性滚珠滑轨的其他行业术语通常包括线性滑轨、线性运动滑轨、滚珠滑轨、滚珠滑轨组件、线性轴承、线性运动轴承和线性滚珠滑轨,以及更一般的线性运动滑轨或简单的运动滑轨。
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支持光纤包层: 230 - 800 um
角度切割单元™是一种专门设计的旋转夹具,可安装在Nyfors Autocleaver LDF™上作为附件。这一升级使切割器不仅可用于垂直切割,还可用于直径从230到800µm以上的光纤的可变角度切割。使用螺旋千分尺定位器设置劈裂角,允许操作员快速调整劈裂器以适应不同的劈裂角。同时,Nyfors大直径切割器中使用的正在申请专利的张力和划线切割工艺确保了一致的高质量切割结果,精度<0.5度。通过这种方式,可以以较高程度的可重复性和精度创建从0到<9度(对于包层直径约为250µm的光纤)和高达大于15度(对于包层直径大于450-500µm的光纤)的可变劈裂角。请注意,角度切割单元™不能单独使用,需要使用NYFORS大直径光纤切割器进行操作。有关使用和安装的详细信息,请联系NYFORS或您当地的经销商。
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支持光纤包层: 230 - 800 um
Autocleaver LDA™是一种用于精确切割圆形大直径光纤(LDF)的自动系统。它是Nyfors著名的大直径切割器的特殊版本,设计用于垂直和倾斜切割直径从230到800µm以上的光纤。使用螺旋千分尺定位器设置劈裂角,允许操作员快速调整劈裂器以适应不同的劈裂角。正在申请专利的切割工艺可产生一致的高质量切割结果,精度<0.5度。当使用该系统进行非垂直劈裂时,可以以相同程度的可重复性和精度产生从0到<9度(对于250µm包覆光纤)和高达15度以上(对于450-500µm以上的光纤直径)的可变劈裂角。V形槽夹块和光纤高度调节器的选择与光纤包层的直径相匹配。V形槽夹块和高度调节器作为光纤处理套件一起工作,以确保特定光纤范围的较佳切割性能。当您购买切肉刀时,必须从选择指南矩阵中选择这些部件。操作员可以很容易地更换部件,以将切割器设置为不同的光纤尺寸。内置微处理器控制所有参数和设置,如夹紧,张力和金刚石刀片的准确位置和速度。敏感参数的这种控制保证了高的解理可重复性和精度。切割刀被设计成产生较小量的纤维废料,通常小于20mm。自动废物处理系统可清除任何有害的纤维碎屑。切肉刀可以连接到一台可访问所有可编程参数和设置的PC。Autocleaver LDA™采用小型台式设计。
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支持光纤包层: 230 - 1000 um
Autocleaver LDF™是一款高精度光纤切割器,专为切割大直径光纤(LDF)而设计。它为直径从230μm到1000μm的光纤提供了出色的切割性能。独特且正在申请专利的解理工艺产生小于0.5度的典型解理角。内置微处理器控制所有参数和设置,如夹紧,张力和金刚石刀片的准确位置和速度。敏感参数的这种控制保证了高的解理可重复性和精度。光纤由Nyfors LD光纤固定器固定到位,该固定器用于将光纤装入切割刀。NYFORS LD光纤支架的选择与光纤涂层或护套的直径相匹配。必须选择V形槽夹块和光纤高度调节器以匹配光纤包层的直径。Nyfors LD光纤支架以及V形槽夹块、高度调节器和定距板作为光纤处理套件共同工作,以确保特定光纤的较佳切割性能。当您购买切肉刀时,可以从选择指南矩阵中选择这些部件。操作员可以很容易地更换部件,以设置其他光纤尺寸的切割器。切割刀被设计成产生较小量的纤维废料,通常小于20mm。自动废物处理系统可清除任何有害的纤维碎屑。切肉刀可以连接到外部PC,以访问所有可编程参数和设置。Autocleaver LDF™采用小型台式设计。Autocleaver LDF™还提供与Fujikura FSM-45和FSM-100系列熔接机兼容的Fujikura版本,以及与Fitel S183/S184熔接机兼容的Fitel版本。光纤被切割到正确的长度,由于切割器接受标准的藤仓和Fitel光纤固定器,切割后的光纤可以直接转移到接合器,没有接触或损坏光纤末端的风险。有关详细信息,请参阅下面的产品表。
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支持光纤包层: 80 - 125 um
Autocleaver S1™可感应涂层边缘,在切割后自动调整裸光纤长度。当需要特定且精确的裸光纤长度时,此功能非常有用。客户在订购时指定所需的裸光纤长度,并可通过软件在0至500μm之间进行微调。切割器可用于80和125μm光纤。端面质量优良。劈裂角通常小于0.3度。125/250μm光纤的裸露长度标准偏差为+/-0.01*,80/170μm光纤的裸露长度标准偏差为+/-0.06*。在两种情况下,裸光纤长度均为3.4mm。内置微处理器控制所有参数和设置,如光纤定位、夹紧、光纤张力以及金刚石刀片的精确位置和速度。结果每次都是完美的劈开。切肉刀可以连接到一台可访问所有可编程参数和设置的PC。Autocleaver S1™采用小型台式设计。
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支持光纤包层: 125 - 1000 um
Autocleaver S2™是Nyfors自动光纤切割器的改进型,专为切割空气包覆光纤而设计。它在直径从125μm到1000μm的圆形光纤上提供了出色的切割性能。独特且正在申请专利的劈开工艺产生小于0.5度的典型劈开角。具有气压控制夹紧力的特殊光纤夹具和改进的软件使Autocleaver S2™能够以高精度切割空气包覆光纤。光纤夹具的夹持力通过内置调节器改变气压来设置。纤维V形槽可采用不锈钢、黄铜和聚碳酸酯制成。内置微处理器控制所有参数和设置,如夹紧,张力和钻石刀片的准确位置和速度。敏感参数的这种控制保证了高的解理可重复性和精度。光纤由Nyfors LD光纤固定器固定到位,该固定器用于将光纤装入切割刀。NYFORS LD光纤支架的选择与光纤涂层或护套的直径相匹配。选择与光纤包层直径相匹配的V型槽夹块、定距板和光纤高度调节器。Nyfors LD光纤支架、定距板以及V形槽夹块和高度调节器作为光纤处理套件共同工作,以确保特定光纤的较佳切割性能。当您购买切肉刀时,必须从选择指南矩阵中选择这些部件。操作员可以很容易地更换部件,以将切割器设置为不同的光纤尺寸。切割刀被设计成产生较小量的纤维废料,通常小于20mm。自动废物处理系统可清除任何有害的纤维碎屑。切肉刀可以连接到一台可访问所有可编程参数和设置的PC。Autocleaver S2™采用小型台式设计。
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支持光纤包层: 80 - 125 um
全自动高速光纤制备设备AutoPrep II™可在不到15秒的时间内剥离、清洁和切割光纤。它主要是为工业应用而设计的,这些应用需要精度、可靠性和高产量。AutoPrep II™用于丙烯酸酯纤维涂层的快速和无化学纤维制备,满足快速和一致纤维制备的较高工业要求,具有极高的清洁度和高纤维强度。通过高度先进且正在申请专利的切割工艺产生较佳切割。它有一个用户友好的设计。导向光纤固定器可轻松将光纤放置在正确的位置,“一触式”运行按钮可启动自动准备过程。受控的热气流立即蒸发纤维的涂层。结果是完全剥离和干净的纤维。当在400倍放大率下观察时,剥离区域没有碎屑,并且强度通常>30 N(355 kpsi)*。切割器产生小于0.5度的典型切割角。为确保高质量和可重复性,剥离、清洁和切割的所有过程均由内置微处理器控制。AutoPrep II™适用于独立使用,并使用可选适配器与所有领先的熔接机兼容。
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安装材料: Black Anodized Aluminum 调整: Tip and Tilt
侧控制50BM119T的物镜支架具有W0.8-36孔径,用于标准显微镜物镜的精确调整,并确保焦点的低成本定位。它也可以用于光纤。侧面控制的精密光学支架可以大大增加光学元件的厚度,因为它可以方便地接近调节手柄。原始设计的L形板簧使支架平台具有很大的稳定性。弹簧执行两个功能:像普通弹簧一样工作,并消除平台的极化旋转。关于两个正交轴的角度范围为±2°。螺距为0.25 mm的精密螺钉可提供10弧秒的灵敏度。底座侧面和背面的三个M4螺纹孔允许各种安装配置,例如水平和垂直。物镜支架由黑色阳极氧化铝制成。L型弹簧采用优质不锈钢弹簧钢制成。
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涂层类型: UV-NIR 入射角: Not Specified 波长范围: 248 - 2500 nm
ECI的涂层始终达到或超过环境耐久性和激光损伤的行业标准。ECI的涂层设计可以优化,以实现紫外、可见和近红外光谱的较佳性能。用于军事、医疗、光纤、工业和科学应用的ECI沉积物保护和增强金属光学涂层。设计包括保护和增强金,铝和银。涂层设计用于先进或第二表面反射、入射角、入射介质和基底材料。涂层经过优化,可在紫外至红外区域发挥较大性能。薄膜涂层设计可用于沉积到许多光学材料上,包括:塑料、模制聚合物光学器件、玻璃和金属、光纤器件和红外光学材料。可提供标准和定制涂层,包括客户指定的金属层厚度。ECI的金属光学涂层符合MIL-M-13508C的环境和耐用性要求。蒸发涂层公司生产高反射低损耗宽带介质光学涂层,反射率大于99.5%。设计经过优化,可用于248nm–2500nm的宽带波长或多波段应用。应用包括军事、医疗、光纤和科学研究。ECI的定制介电光学涂层经过优化,可确保您的系统发挥较大性能。指定特定的波长范围、入射角、基底材料、入射介质和偏振态。如果您不确定如何指定您的涂层要求,我们的设计团队将与您合作,为您的应用生产较佳的介电光学涂层。设计可用于沉积到各种类型的光学材料上,包括:塑料、模制聚合物光学器件、玻璃基板、光纤器件以及晶体和半导体材料。ECI还将存放您的专有薄膜光学设计。