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基底材料: Ge 抗反射涂层: Coated, Uncoated 直径: 3-300mm 表面质量: 20-10 scratch-dig, 40-20 scratch-dig, 60-40 scratch-dig 表面平整度: lambda/2, lambda/4, lambda/6, lambda/8, lambda/10
锗(Ge)是8-12μm波段的高性能红外成像系统的优选透镜和窗口材料。由于其表面曲率较小,其高折射率使Ge成为低功率成像系统的理想选择。色差很小,通常不需要校正。锗较广泛地用于在2μm-12μm范围内工作的红外系统中的透镜和窗口。它的透射对温度非常敏感,在接近100°C时变得不透明。环境不会造成问题,因为锗是惰性的,机械坚固且相当坚硬。锗是一种高折射率材料,用于制造光谱学的衰减全反射(ATR)棱镜。其折射率使得锗在不需要涂层的情况下形成有效的自然50%分束器。它还广泛用作生产光学滤波器的衬底。锗覆盖了整个8-14微米热能带,并用于热成像的透镜系统中。它可以涂上金刚石,产生非常坚韧的前光学。应用于光谱仪和热成像中的窗口、透镜、分束器、ATR棱镜或滤光器。通过+86-1800331094|emailusgina@bz-optical.com联系我们|BZ-optical.com