• Newport 薄膜实验室的金属镜面涂层 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层类型: MWIR, MWIR, VIS - NIR, UV-NIR, UV - VIS, NIR, VIS, UV, DUV 入射角: Not Specified 波长范围: 200 - 3200 nm

    许多应用需要高反射性的表面,并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室,我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。金属镜面涂层-铝(Al)-铜(Cu)-金(Au)-银(Ag)金属镜由金属涂层组成。然而,裸露的金属容易划伤,因此通常在金属层上沉积介电层以增加耐用性。这些被称为受保护的金属膜(例如,受保护的铝)。通常在金属膜上沉积更复杂的多层涂层,以提供增加的反射率或改变反射镜的性能。设计包括保护和增强金,铝和银。可以针对先进或第二表面反射、入射角和基底材料来设计涂层。涂层经过优化,可在紫外至红外区域发挥较大性能。

  • Newport Thin Film Laboratory\'s Triple Band Anti-Reflection Coating - 355nm, 532nm, and 1064nm 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 355 - 1200 nm

    抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。

  • Newton DU920P CCD相机 科学和工业相机
    英国
    厂商:牛津仪器
    传感器类型: CCD # 像素(宽度): 1024 # 像素(高度): 255 像素大小: 26um 峰值量子效率: 95%

    这一高端USB2.0 Newton CCD系列将Andor的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却结合在一起,并辅以Andor的UltraVac™技术,该技术在科学和工业领域具有无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1,600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱(或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术!)的理想工具,例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素,用于较高UV至VIS分辨率光谱,而920系列及其26 X 26μm为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个>6.6 mm高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。

  • Newton EMCCD DU970P 科学和工业相机
    英国
    厂商:牛津仪器
    传感器类型: EMCCD # 像素(宽度): 1600 # 像素(高度): 200 像素大小: 16um 峰值量子效率: 97%

    EM技术使来自每个像素的电荷在读出之前在传感器上倍增,从而提供单光子灵敏度。Newton EM平台结合了1600 X 200(或1600 X 400)16μm像素阵列、低至-100°C的热电冷却(暗电流可忽略不计)、3MHz读出和USB 2.0即插即用连接,为光谱应用提供无与伦比的性能。双输出放大器允许在传统的高灵敏度或电子倍增输出之间进行软件选择,以适应广泛的光子状态条件。这使得Newton EMCCD成为超快化学成像应用的理想选择,例如SERS、TERS或发光成像。

  • NEX DE VS能量色散型X射线荧光光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    作为一款优质高性能、小型SPOT台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,新型Rigaku NEX DE VS通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体、浆料和RoHS材料。

  • NEX LS工艺能量色散型XRF(EDXRF)光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Chemical identification

    Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光(EDXRF)为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术,Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析,适用于从铝(Al)到铀(thickness U)的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计,能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上,并配备有位于滚轮上方的线性横动机构,以使头-面距离恒定。需要时,可直接测量涂层的元素组成。相反,涂层重量(或涂层厚度)可以直接测量(其中元素的计数率与厚度成比例)或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量(其中计数率与厚度负相关)。长期以来,台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描,用于更严格的过程控制公差,将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材,以改变产品(如标签)或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少,或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域,则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响,或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害,从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮,则制造的辊的成本增加,降低了盈利能力,并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。

  • NEX OL过程元素分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    Rigaku NEX OL采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了液流和固定位置网络或线圈应用的工艺元素分析的下一次进化。NEX OL的设计涵盖了从重工业到食品级的过程测量解决方案,可配置用于分类和非分类领域。从铝(Al)到铀(₂U)的分析为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX QC高分辨率台式仪器。凭借这一成熟的技术,Rigaku NEX OL可对从铝(Al)到铀(U)的元素进行快速、无损的多元素分析——从百万分率(ppm)水平到高重量百分比(wt%)浓度。Rigaku NEX OL配备50 kV X射线管和SDD探测器,以及标准化、优化的管式过滤器套件,旨在解决广泛的过程控制应用。

  • NEX QC MFA - 船舶燃料硫磺分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Contaminant detection and analysis

    Rigaku NEX QC能量色散X射线荧光(EDXRF)分析仪可快速定量测定各种船用燃料中的硫:非破坏性地分析硫(S)至低ppm水平分析镍(Ni)、钒(V)和铁(Fe)(如需要)分析锌(Zn)以确定燃油是否受到污染半导体探测器具有卓越的可靠性现代触摸屏“图标驱动”用户界面方便的内置热敏打印机低成本,无与伦比的性价比ASTM D4294和ISO 8754测定硫的方法

  • NEX XT总硫过程分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Contaminant detection and analysis

    Rigaku的NEX XT是新一代工艺仪表,用于原油、船用燃料、燃料油和其他高粘度碳氢化合物(包括渣油)的高水平总硫测量(0.02%至6%S)。在线全硫测量仪这款多功能、紧凑且坚固耐用的X射线透射/吸收(XRT/XRA)过程测量仪专门针对炼油厂、管道、混合操作、加油终端和其他存储设施的总硫分析需求进行了优化。NEX XT的应用包括船用燃料混合以满足MARPOL附件六的硫限制,通过管道输送的不同等级燃料的界面检测,炼油厂原料混合和监测,以及远程收集和储存设施的原油质量监测。

  • NG-FDML Multi-MHz Swept Laser 1060 nm 半导体激光器
    德国
    厂商:Optores GmbH
    中心波长: 1060nm 扫描速率: 2800kHz 调谐范围: 100nm 平均值输出功率: 60mW

    Optores NG-FDML是世界上先进一款扫描速率超过每秒100万次扫描的扫描激光器,可实现(多)兆赫光学相干断层扫描(MHz-Oct)。为记录扫描速度而设计的Optores扫描激光器还具有长相干长度、宽扫描范围和非常高的光输出功率。基于全光纤傅里叶域锁模(FDML)技术,该激光器具有用户可调的扫描范围和输出功率,以及各种可编程的同步和控制信号。

  • NG-FDML Multi-MHz Swept Laser 1310 nm 半导体激光器
    德国
    厂商:Optores GmbH
    中心波长: 1310nm 扫描速率: 3200kHz 调谐范围: 110nm 平均值输出功率: 100mW

    Optores NG-FDML是世界上先进一款扫描速率超过每秒100万次扫描的扫描激光器,可实现(多)兆赫光学相干断层扫描(MHz-Oct)。为记录扫描速度而设计的Optores扫描激光器还具有长相干长度、宽扫描范围和非常高的光输出功率。基于全光纤傅里叶域锁模(FDML)技术,该激光器具有用户可调的扫描范围和输出功率,以及各种可编程的同步和控制信号。

  • NG-FDML Multi-MHz Swept Laser 1550 nm 半导体激光器
    德国
    厂商:Optores GmbH
    中心波长: 1550nm 扫描速率: 3520kHz 调谐范围: 120nm 平均值输出功率: 200mW

    Optores NG-FDML是世界上先进一款扫描速率超过每秒100万次扫描的扫描激光器,可实现(多)兆赫光学相干断层扫描(MHz-Oct)。为记录扫描速度而设计的Optores扫描激光器还具有长相干长度、宽扫描范围和非常高的光输出功率。基于全光纤傅里叶域锁模(FDML)技术,该激光器具有用户可调的扫描范围和输出功率,以及各种可编程的同步和控制信号。

  • 日亚NUBM44 450nm 6w 9mm 全新产品 半导体激光器
    美国
    厂商:BeamQ Lasers
    中心波长: 0.450um 输出功率: 6000mW

    日亚NUBM44 450nm 6W 9mm全新NUBM44是一款发射6W功率的445nm激光二极管。它是目前所有9mm TO-CAN(TO-5封装)激光二极管的较高功率。尽管NUBM44的典型中心波长为445nm,但在某些文献中,它有时被称为450nm激光二极管。尽管这是一个多模激光二极管,但它具有极窄的波导,这使得它几乎具有任何高功率半导体激光器的较低光学扩展量(给定光束直径的远场发散度)。与其他高功率激光二极管相比,窄发射极宽度使其能够更好地准直和聚焦。-6.0W蓝色激光二极管,波长445nm-高度可聚焦且能够很好地准直-紧凑型TO-5(9mm)TO-CAN封装-0C至65C的宽工作温度范围-氮化镓蓝色激光技术可延长高温下的使用寿命设计波长:445 nm工作电流典型值[A]:3 A工作温度范围:0至+60°C工作电压:3.7-5.2 V封装:TO-5阈值电流:150-350 mA存储温度范围:-40至85°C20°C时的光功率[W]:6 W估计寿命:10000小时与其它高功率半导体激光器相比,这种蓝色激光二极管相对不受工作温度的影响,并且具有0℃至65℃的外壳工作温度范围。NUBM44在25℃下的典型寿命为20,000小时。然而,如果蓝色激光器的外壳温度被加热到65℃,则寿命仅降低很小的系数。由于较近开发的氮化镓激光技术,这是先进可能的。目前用于红光和近红外激光二极管的砷化镓激光技术不能在高温下实现低的长期退化水平。因此,这种蓝色激光二极管是各种环境和应用的可靠选择。此外,该GaN激光器具有特殊的TO-5(9mm)封装,这使其具有比该功率水平下的激光二极管通常可能的热阻更低的热阻。9毫米的TO-CAN也是密封的,可以保护半导体激光器芯片免受灰尘和其他污染。相比之下,高功率红光和NIR激光二极管通常需要C-Mount封装,其具有暴露的刻面,如果不在洁净室环境中操作,则会出现可靠性问题。

  • 近红外1.7光谱仪 光谱仪
    德国
    分类:光谱仪
    厂商:INSION GmbH
    波长范围: 900 - 1700 nm 决议: 16nm

    Insion GmbH的新一代NIR系统。由于改进的单片设计、出色的光学特性以及小尺寸,高等级的坚固性在各种新的和常见的应用中开辟了可能性。它们非常适合用于分析和诊断手持设备,并且由于具有出色的仪器间一致性,因此具有极高的成本效益。典型的应用范围从仪器分析、生物和临床系统到农业和营养产品的材料鉴定和分析。

  • 近红外2.0微型测温仪 光谱仪
    德国
    分类:光谱仪
    厂商:INSION GmbH
    波长范围: 940 - 2000 nm 决议: 16nm

    Insion GmbH的新一代NIR系统。由于改进的单片设计、出色的OPCAL特性以及小尺寸,高等级的坚固性为各种新的和常见的应用提供了可能性。它们非常适合在分析和诊断手持设备中使用,并且由于具有出色的仪器间协议,因此具有极高的成本效益。典型的应用范围从仪器分析、生物和临床系统到农产品和营养品的材料鉴定和分析。

  • NIRQuest+1.7光谱仪 光谱仪
    瑞士
    分类:光谱仪
    厂商:GMP SA
    波长范围: 900 - 1700 nm 决议: 3.4-10.8nm

    NIRQuest+光谱仪具有增强的光具座设计,可实现更高的灵敏度性能,并提供三种方便的配置–NIRQuest+1.7(900-1700 nm)、NIRQUEST+2.2(900-2200 nm)和NIRQUEST+2.5(900-2500 nm)。NIRQuest+是我们的旗舰近红外光谱仪。NirQuest+光谱仪可用于实验室或生产线,例如传送带或样品流。应用包括材料的表征;回收中塑料的识别;和测量液体化学浓度。

  • NIRQuest+2.2光谱仪 光谱仪
    瑞士
    分类:光谱仪
    厂商:GMP SA
    波长范围: 900 - 2200 nm 决议: 3.4-10.8nm

    NIRQuest+光谱仪具有增强的光具座设计,可实现更高的灵敏度性能,并提供三种方便的配置–NIRQuest+1.7(900-1700 nm)、NIRQUEST+2.2(900-2200 nm)和NIRQUEST+2.5(900-2500 nm)。NIRQuest+是我们的旗舰近红外光谱仪。NirQuest+光谱仪可用于实验室或生产线,例如传送带或样品流。应用包括材料的表征;回收中塑料的识别;和测量液体化学浓度。

  • NIRQuest+2.5光谱仪 光谱仪
    瑞士
    分类:光谱仪
    厂商:GMP SA
    波长范围: 900 - 2500 nm 决议: 3.4-10.8nm

    NIRQuest+光谱仪具有增强的光具座设计,可实现更高的灵敏度性能,并提供三种方便的配置–NIRQuest+1.7(900-1700 nm)、NIRQUEST+2.2(900-2200 nm)和NIRQUEST+2.5(900-2500 nm)。NIRQuest+是我们的旗舰近红外光谱仪。NirQuest+光谱仪可在实验室或生产线上使用,例如在传送带上或样品流中。应用包括材料的表征;回收中塑料的识别;和测量液体化学浓度。

  • NIRQuest512-2.2 光谱仪
    分类:光谱仪
    波长范围: 900 - 2200 nm 决议: 5nm 最短扫描时间: .001sec

    总统的选择!这台NIRQUEST512-2.2近红外光谱仪是我们较喜欢的NIRQUEST装置,大范围,高灵敏度,较佳价值。可租可买!按周或按月租用NirQuest512-2.2,在购买之前验证您的应用程序和系统性能!租赁费用的50%可用于购买新设备(较高为销售价格的50%)。小尺寸光纤USB光谱仪采用冷却增强型InGaAs 512元素探测器阵列,用于900–2200nm波长范围内的光谱测量。25微米狭缝产生5nm量级FWHM的光学分辨率,包括SpectraSuite软件和电源。强大–深热电冷却低至-20°C,实现低暗电流快速–非常适合使用化学计量模型的应用模块化–可配置一系列光源、光纤和配件,以满足您的特定应用

  • NIRS DS2500石油分析仪 光谱仪
    美国
    分类:光谱仪
    厂商:Metrohm USA
    波长范围: 400 - 2500 nm

    NIRS DS2500石油分析仪是久经考验的灵活解决方案,用于燃料的质量控制和常规分析,符合ASTM D6122标准。NIRS DS2500石油分析仪具有防尘、防潮和防震的特性,不仅适用于实验室使用,还可用于直接生产环境。NIRS DS2500石油分析仪覆盖400至2,500 nm的全光谱范围,可在不到一分钟的时间内提供准确的结果。NIRS DS2500石油分析仪可通过汽油、柴油和煤油的预校准立即投入使用,并且由于其操作简单,可支持用户的日常工作。在样品数量较大的情况下,通过将流通池与瑞士万通(Metrohm)样品机器人结合使用,可以显著提高生产率。