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成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: Custom 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: Custom 光谱分辨率: Not Applicable
EOS系列高光谱成像仪采用了Photon ETC公司基于体布拉格光栅(VBG)的专利滤波技术。这项技术是高光谱成像的理想选择。微视场和宽视场平台都是为发光(光致发光或电致发光)和反射测量而设计的,并且可以适应宽带或单色光源。我们的过滤技术允许快速获取光谱分辨的高分辨率图像。基于色散光谱仪的推扫式(线扫描)系统一次采集一条线,而基于VBG的设备允许全局成像。这意味着使用基于VBG的技术,可以一次获取完整的单色图像,而不是逐行(或逐点)获取。由于相机捕获视场中的整个区域,因此可以实时收集光谱和空间信息,并可以记录光谱分辨的视频。V-EOS™在可见光谱上提供一系列单色图像,避免了繁琐的X-Y或线扫描。该系统通过提供光谱特征的大规模分布来进行前所未有的分析,无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化。我们的S-EOS™宽场高光谱成像仪集成了我们的新型Zephir相机,现在覆盖了高达2.5μm的短波红外光谱区域。该系统通过提供光谱特征的大规模分布,无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化,都可以进行前所未有的分析。Grand-EOS高光谱成像仪将高光谱显微镜系统与高光谱广域成像平台相结合,提供了VNIR(400-100 nm)和SWIR(900-2500 nm)光谱范围的微观和宏观模态。
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成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: Custom 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: 900 - 1700 nm 光谱分辨率: <2.5 nm
Helios EQ32高光谱成像系统是一种强大的分析工具,基于非接触和非破坏性的实时红外成像光谱。EVK Helios系统分析物体的化学性质,并区分彩色相机不可见的材料类型。内部处理引擎提供物料流的定性和定量信息,例如分析物浓度或材料成分。摄像机作为一个即插即用组件提供了完整的内部校准。Helios EQ32采用紧凑、坚固的不锈钢外壳,具有应力解耦光学机械结构。该系统针对实际工业环境进行了优化,可在整个指定温度范围内提供稳定的校准数据。