• Newport Thin Film Laboratory\'s High Reflector 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层类型: VIS - NIR 入射角: Not Specified 波长范围: 630 - 770 nm

    许多应用需要高反射性的表面,并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室,我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。高反射器纽波特薄膜实验室在制造用于紫外、可见和红外应用的高反射涂层方面拥有丰富的经验。较高的总反射率(R>99.9%)可以用相对窄带的电介质反射器来实现,该电介质反射器可以针对任何给定的性能带进行优化。然而,可以为几乎任何应用制造非常高的反射器,包括多波段和宽波段。

  • Newport Thin Film Laboratory\'s IR Anti-Reflection Coating on Germanium - 8 to 12 microns 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 8000 - 12000 nm

    抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。

  • Newport 薄膜实验室的金属镜面涂层 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层类型: MWIR, MWIR, VIS - NIR, UV-NIR, UV - VIS, NIR, VIS, UV, DUV 入射角: Not Specified 波长范围: 200 - 3200 nm

    许多应用需要高反射性的表面,并且制造镜面的较常用技术是将反射涂层真空沉积到抛光表面上。在纽波特薄膜实验室,我们提供两种类型的镜面涂层来帮助实现这一点。真空沉积薄膜反射器的两种选择是金属镜或介质镜。金属镜面涂层-铝(Al)-铜(Cu)-金(Au)-银(Ag)金属镜由金属涂层组成。然而,裸露的金属容易划伤,因此通常在金属层上沉积介电层以增加耐用性。这些被称为受保护的金属膜(例如,受保护的铝)。通常在金属膜上沉积更复杂的多层涂层,以提供增加的反射率或改变反射镜的性能。设计包括保护和增强金,铝和银。可以针对先进或第二表面反射、入射角和基底材料来设计涂层。涂层经过优化,可在紫外至红外区域发挥较大性能。

  • Newport Thin Film Laboratory\'s Triple Band Anti-Reflection Coating - 355nm, 532nm, and 1064nm 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 355 - 1200 nm

    抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。

  • Newton DU920P CCD相机 科学和工业相机
    英国
    厂商:牛津仪器
    传感器类型: CCD # 像素(宽度): 1024 # 像素(高度): 255 像素大小: 26um 峰值量子效率: 95%

    这一高端USB2.0 Newton CCD系列将Andor的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却结合在一起,并辅以Andor的UltraVac™技术,该技术在科学和工业领域具有无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1,600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱(或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术!)的理想工具,例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素,用于较高UV至VIS分辨率光谱,而920系列及其26 X 26μm为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个>6.6 mm高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。

  • Newton EMCCD DU970P 科学和工业相机
    英国
    厂商:牛津仪器
    传感器类型: EMCCD # 像素(宽度): 1600 # 像素(高度): 200 像素大小: 16um 峰值量子效率: 97%

    EM技术使来自每个像素的电荷在读出之前在传感器上倍增,从而提供单光子灵敏度。Newton EM平台结合了1600 X 200(或1600 X 400)16μm像素阵列、低至-100°C的热电冷却(暗电流可忽略不计)、3MHz读出和USB 2.0即插即用连接,为光谱应用提供无与伦比的性能。双输出放大器允许在传统的高灵敏度或电子倍增输出之间进行软件选择,以适应广泛的光子状态条件。这使得Newton EMCCD成为超快化学成像应用的理想选择,例如SERS、TERS或发光成像。

  • NEX CG - 能量色散型X射线荧光光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    Rigaku NEX CG可对各种类型的样品中的主要和次要原子元素进行快速定性和定量测定-较低标准:非破坏性分析NA至non-U固体、液体、粉末和薄膜检测下限的极化激发峰重叠的新颖处理减少了误差使用Ultracarry的含水样品的ppb检测极限带EZ分析的简化用户界面用于迹级灵敏度的极化笛卡尔几何学与传统的EDXRF分析仪不同,NEX CG采用了独特的紧密耦合笛卡尔几何(CG)光学内核,大大提高了信噪比。通过使用二次目标激励代替传统的直接激励,进一步提高了灵敏度。由此产生的背景噪声的显著降低和元素峰值的同时增加,使得光谱仪即使在困难的样品类型中也能够进行常规痕量元素分析。新颖的软件减少了对标准的需求NEX CG由新的定性和定量分析软件RPF-SQX提供支持,该软件采用了Rigaku Profile Fitting(RPF)技术。该软件允许在没有标准品的情况下对几乎所有样品类型进行半定量分析,并使用标准品进行严格的定量分析。

  • NEX LS工艺能量色散型XRF(EDXRF)光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Chemical identification

    Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光(EDXRF)技术,代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光(EDXRF)为了提供卓越的分析性能和可靠性,EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术,Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析,适用于从铝(Al)到铀(thickness U)的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计,能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上,并配备有位于滚轮上方的线性横动机构,以使头-面距离恒定。需要时,可直接测量涂层的元素组成。相反,涂层重量(或涂层厚度)可以直接测量(其中元素的计数率与厚度成比例)或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量(其中计数率与厚度负相关)。长期以来,台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描,用于更严格的过程控制公差,将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材,以改变产品(如标签)或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少,或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域,则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响,或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害,从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮,则制造的辊的成本增加,降低了盈利能力,并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。

  • NEX QC - 能量色散型X射线荧光分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    Rigaku NEX QC能量色散X射线荧光(EDXRF)分析仪可快速定性和定量测定各种样品类型中的主要和次要原子元素:非破坏性分析NA至non-U固体、液体、合金、粉末和薄膜用于宽元素覆盖的50kV X射线管半导体探测器,数据质量高现代智能手机风格的“图标驱动”用户界面增强灵敏度的多个自动管过滤器方便的内置热敏打印机低成本,无与伦比的性价比

  • NEX QC MFA - 船舶燃料硫磺分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Contaminant detection and analysis

    Rigaku NEX QC能量色散X射线荧光(EDXRF)分析仪可快速定量测定各种船用燃料中的硫:非破坏性地分析硫(S)至低ppm水平分析镍(Ni)、钒(V)和铁(Fe)(如需要)分析锌(Zn)以确定燃油是否受到污染半导体探测器具有卓越的可靠性现代触摸屏“图标驱动”用户界面方便的内置热敏打印机低成本,无与伦比的性价比ASTM D4294和ISO 8754测定硫的方法

  • NEX XT总硫过程分析仪 光谱分析仪
    测量类型: Contaminant detection and analysis

    Rigaku的NEX XT是新一代工艺仪表,用于原油、船用燃料、燃料油和其他高粘度碳氢化合物(包括渣油)的高水平总硫测量(0.02%至6%S)。在线全硫测量仪这款多功能、紧凑且坚固耐用的X射线透射/吸收(XRT/XRA)过程测量仪专门针对炼油厂、管道、混合操作、加油终端和其他存储设施的总硫分析需求进行了优化。NEX XT的应用包括船用燃料混合以满足MARPOL附件六的硫限制,通过管道输送的不同等级燃料的界面检测,炼油厂原料混合和监测,以及远程收集和储存设施的原油质量监测。

  • 兴业高清 科学和工业相机
    美国
    厂商:dPict Imaging
    界面: Other 通道数量: Up to 4

    Nexeon HD是一款用于高清视频显示和捕捉的全功能视频帧抓取器。它支持标准和HDTV分辨率的视频输入以及VGA显示。Nexeon HD具有灵活的输入接口,配有HDMI兼容接收器,并支持模拟和数字DVI/HDMI标准。

  • NextCore RN50无人机LiDAR装置 激光雷达
    英国
    分类:激光雷达
    激光波长: 905nm 扫描角度: 360deg 扫描频率范围: 1 - 420000 Hz 角度分辨率: 20deg 测量范围: 1.0 - 150 m

    介绍由AirSight设计的NextCore RN50无人机激光雷达装置。RN50是专为DJI M600飞行平台打造的用户友好系统,可精确到50毫米,并拥有闪电般的云处理速度。该单元仅作为有效载荷选项,允许已经访问合适的GNSS数据的运营商使用其现有的基站设备或RINEX订阅。

  • 日亚NUBM44 450nm 6w 9mm 全新产品 半导体激光器
    美国
    厂商:BeamQ Lasers
    中心波长: 0.450um 输出功率: 6000mW

    日亚NUBM44 450nm 6W 9mm全新NUBM44是一款发射6W功率的445nm激光二极管。它是目前所有9mm TO-CAN(TO-5封装)激光二极管的较高功率。尽管NUBM44的典型中心波长为445nm,但在某些文献中,它有时被称为450nm激光二极管。尽管这是一个多模激光二极管,但它具有极窄的波导,这使得它几乎具有任何高功率半导体激光器的较低光学扩展量(给定光束直径的远场发散度)。与其他高功率激光二极管相比,窄发射极宽度使其能够更好地准直和聚焦。-6.0W蓝色激光二极管,波长445nm-高度可聚焦且能够很好地准直-紧凑型TO-5(9mm)TO-CAN封装-0C至65C的宽工作温度范围-氮化镓蓝色激光技术可延长高温下的使用寿命设计波长:445 nm工作电流典型值[A]:3 A工作温度范围:0至+60°C工作电压:3.7-5.2 V封装:TO-5阈值电流:150-350 mA存储温度范围:-40至85°C20°C时的光功率[W]:6 W估计寿命:10000小时与其它高功率半导体激光器相比,这种蓝色激光二极管相对不受工作温度的影响,并且具有0℃至65℃的外壳工作温度范围。NUBM44在25℃下的典型寿命为20,000小时。然而,如果蓝色激光器的外壳温度被加热到65℃,则寿命仅降低很小的系数。由于较近开发的氮化镓激光技术,这是先进可能的。目前用于红光和近红外激光二极管的砷化镓激光技术不能在高温下实现低的长期退化水平。因此,这种蓝色激光二极管是各种环境和应用的可靠选择。此外,该GaN激光器具有特殊的TO-5(9mm)封装,这使其具有比该功率水平下的激光二极管通常可能的热阻更低的热阻。9毫米的TO-CAN也是密封的,可以保护半导体激光器芯片免受灰尘和其他污染。相比之下,高功率红光和NIR激光二极管通常需要C-Mount封装,其具有暴露的刻面,如果不在洁净室环境中操作,则会出现可靠性问题。

  • 用于800 - 1100纳米的近红外带通滤波器SP 滤光片
    列支敦士登
    分类:滤光片
    中心波长: 1000nm 带宽: 75nm 峰值透射率: 95%

    NIR带通滤波器SP用于各种光学传感器应用中。它们一方面阻挡可见环境光,另一方面阻挡长波红外光。只有来自近红外(NIR)范围的所选信号或测量光可以被传输。因此,NIR带通滤波器SP是实现出色的信噪比的关键组件,这与光学测量、距离测量应用或用于手势识别(TOF,飞行时间)的特定系统相关。这些特性有助于在较低的信号光强度下进行精确的距离测量,或者在正常的信号光强度下进行灵敏度增加和精度更高的测量。根据特定的应用和所使用的光源,NIR带通滤波器可以与客户合作以成本有效的方式进行定制。此外,为了进一步抑制干扰杂散光或促进预定义结构的测量,这些滤光片可以配备图案化的黑色镀铬层。

  • NIRQuest512-2.2 光谱仪
    分类:光谱仪
    波长范围: 900 - 2200 nm 决议: 5nm 最短扫描时间: .001sec

    总统的选择!这台NIRQUEST512-2.2近红外光谱仪是我们较喜欢的NIRQUEST装置,大范围,高灵敏度,较佳价值。可租可买!按周或按月租用NirQuest512-2.2,在购买之前验证您的应用程序和系统性能!租赁费用的50%可用于购买新设备(较高为销售价格的50%)。小尺寸光纤USB光谱仪采用冷却增强型InGaAs 512元素探测器阵列,用于900–2200nm波长范围内的光谱测量。25微米狭缝产生5nm量级FWHM的光学分辨率,包括SpectraSuite软件和电源。强大–深热电冷却低至-20°C,实现低暗电流快速–非常适合使用化学计量模型的应用模块化–可配置一系列光源、光纤和配件,以满足您的特定应用

  • NirSpectorTM可移动式VIS-NIR分析仪 光谱仪
    美国
    分类:光谱仪
    厂商:BaySpec Inc
    单色仪类型: Not Specified 光谱范围: 400 - 1700 nm 光谱分辨率: 5nm

    BaySpec的NirSpectorTM便携式台式可见-近红外光谱仪是一种交钥匙系统,旨在满足现实世界的分析挑战,实现一流的性能、长期可靠性和移动性。得益于BaySpec为各种行业和研究部门制造高容量、高效率光谱仪设备的经验,NirSpectorTM采用了低成本、高性能、经过现场验证的组件。NirSpectorTM系统将光谱仪、主动触发探头、光源和计算机集成在一个坚固耐用的整体设备中。它采用高效的体积相位光栅(VPG)作为光谱色散元件,从而提供高速并行处理和连续光谱测量。主动触发探头和透射比采样附件为不同的样品条件提供了较通用的采样选项。附带的NIRSPEC 20/20软件简化了光谱库管理。该仪器可显著提高众多领域的分析能力,如材料质量检测、监控和过程自动化技术(PAT)。

  • Pranalytica的Nitrolux-100氨气传感器 半导体激光器
    美国
    厂商:Pranalytica, Inc

    Nitrolux®-100是Pranalytica的Nitrolux®传感器系列中的旗舰环境水平大气氨气传感器,可为氨气检测提供万亿分之100(PPT)的保证灵敏度。

  • Pranalytica的Nitrolux-S氨气传感器 半导体激光器
    美国
    厂商:Pranalytica, Inc

    Nitrolux®-S是一款PrAnalytica环境水平氨气传感器,专为测量农业和动物农场等氨气排放源附近的氨气浓度而设计。Nitrolux®-S是一款小巧轻便的基于半导体激光器的氨气传感器,具有极低的功耗,非常适合在没有公用电源的情况下使用内部电池操作。

  • NL210高能量kHz脉冲腔倾泻DPSS Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 10W 重复频率: 1 - 1 kHz 空间模式: 4 脉宽: 4ns

    NL210系列二极管泵浦Q开关激光器在1000Hz脉冲重复率下产生高达10mJ的能量。该激光器设计用于产生高强度、高亮度脉冲,并用于OPO泵浦、非线性光谱学、材料烧蚀、微加工和其他任务等应用。采用电光类型的腔倒空,主振荡器可以产生脉冲宽度为3–4 ns的短脉冲,具有均匀的光束轮廓和低发散度。梁的M²系数通常在3–4之间。激光冷却使用闭环冷却器,从而消除了对外部冷却水的需求,降低了运行成本。安装在温度稳定加热器中的角度调谐LBO和/或BBO晶体用于可选的二次、三次或四次谐波产生。谐波分离系统被设计成确保被引导到分离的输出端口的辐射的高光谱纯度。为方便客户,可通过远程控制板或USB接口控制激光器。遥控板可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。或者,可通过个人计算机控制激光器,该计算机配有适用于Windows™操作系统的软件。同时提供LabVIEW™驱动程序。