Nd：YVO4是目前商用较有前途的二极管泵浦固体激光材料之一。Nd∶YVO4晶体在激射波段具有大的受激发射截面，在泵浦波段具有高的吸收系数和宽的吸收带宽，高的激光损伤阈值，以及良好的物理、光学和机械性能，使其成为高功率、高稳定性、高性价比二极管泵浦固体激光器的理想工作晶体。Nd：YVO_4可以通过较小的不同设置产生红外绿光和蓝光激光。中心位于808nm的宽吸收带和良好的机械性能使Nd：YVO4非常适合用于紧凑、高效、高功率的二极管泵浦激光器。自然双折射在1064.3和1342nm产生高偏振输出。

Nd：YVO4是目前商用较有前途的二极管泵浦固体激光材料之一。它具有高的激光损伤阈值和良好的机械性能以及光学性能。其大的受激发射截面和对泵浦激光的高吸收使其成为小型激光器的合适晶体。Nd：YVO_4可以通过较小的不同设置产生红外绿光和蓝光激光。中心位于808nm的宽吸收带和良好的机械性能使Nd：YVO4非常适合用于紧凑、高效、高功率的二极管泵浦激光器。自然双折射在1064.3和1342nm处产生高偏振输出。

使用Bitflow的Neon-CLB简化您的工业、医疗或半导体成像应用，这是较易于使用且较可靠的Base/POCL Camera Link图像采集卡，可在任何地方使用。Neon-CLB以相机的较高帧/数据速率捕捉图像，精确的图像采集适用于较苛刻的应用。Neon-CLB专为需要PCI Express总线的性能、BitFlow著名的工业质量和行业中较低的价格点之一的OEM而设计。Neon-CLB可以从所有基础CL摄像机获取数据，并具有足够的工业I/O来处理较复杂的同步任务。使用我们的SDK将Neon-CLB添加到您的应用程序非常简单，它支持32位和64位操作系统。SDK为复杂的缓冲区管理提供高级API，并为快速定制控制提供对主板的低级直接访问。如果您需要较简单、较可靠、性能较佳的Base Camera Link和POCL图像采集卡，请立即致电Bitflow，获取我们的OEM定价Neon-CLB，这是Bitflow的第四代强大的工业Camera Link成像产品。

NeoSpectra-Micro是一种集成式光谱传感器，可用于各种材料传感应用，以进行鉴定和量化。该传感器的性能可与实验室光谱仪相媲美，但尺寸更小，成本更低。传感器基于傅里叶变换红外（FT-IR）技术，该技术是实验室光谱仪中使用的标准技术，可为材料的较佳鉴定和量化提供宽光谱范围。该传感器使用了专利的微机电系统（MEMS）技术，该技术允许在MEMS芯片上单片制造迈克尔逊干涉仪。NeoSpectra-Micro传感器可确定1，350–2，500 nm近红外（NIR）范围内输入光的光谱含量。

NeuroLucida360是神经科学家使用的首要工具，用于快速准确地重建复杂的神经元结构，范围从复杂的多细胞神经元网络到亚细胞树突棘和假定的突触。凭借分析特定神经元结构（如轴突、基底树突、顶端树突和携带轴突的树突）的复杂性，您可以完全重建和分析任何物种的任何神经元。较先进的图像检测算法使您能够使用各种标记和显微镜技术自信地重建细胞。无论您是否对分析单个神经元或神经元之间的相互作用感兴趣，请了解为什么NeuroLucida 360在自动神经元重建方面远远超过所有其他软件！

材料B270玻璃尺寸公差+0.0/-0.2mm厚度2.0±0.2mm平坦度2λ@632.8nm表面质量80/50划痕和挖掘平行度<5弧分通光孔径>90%设计波长400-700nm镀金属反射膜OD公差±10%OD

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

抗反射（AR）涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。（适用于紫外线、可见光和红外线）当光入射到两种介质之间的边界上时，一些能量被反射，一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作，使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消，从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃，大约92%的光将透过玻璃，大约8%的光将被反射（从每个玻璃/空气表面反射4%）。在多元素系统中，在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如，十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下，损失也较大。为了防止反射损失，必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室（Newport Thin Film Laboratory）开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层，我们的涂层工程师将与您合作，以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射（AR）涂层，如单层抗反射（SLAR）、V型涂层（VAR）、宽带抗反射（BBAR）和双带抗反射涂层的更多信息，请联系我们。

这一高端USB2.0 Newton CCD系列将Andor的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却结合在一起，并辅以Andor的UltraVac™技术，该技术在科学和工业领域具有无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1，600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱（或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术！）的理想工具，例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素，用于较高UV至VIS分辨率光谱，而920系列及其26 X 26μm为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个>6.6 mm高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。

EM技术使来自每个像素的电荷在读出之前在传感器上倍增，从而提供单光子灵敏度。Newton EM平台结合了1600 X 200（或1600 X 400）16μm像素阵列、低至-100°C的热电冷却（暗电流可忽略不计）、3MHz读出和USB 2.0即插即用连接，为光谱应用提供无与伦比的性能。双输出放大器允许在传统的高灵敏度或电子倍增输出之间进行软件选择，以适应广泛的光子状态条件。这使得Newton EMCCD成为超快化学成像应用的理想选择，例如SERS、TERS或发光成像。

Rigaku的NEX XT是新一代工艺仪表，用于原油、船用燃料、燃料油和其他高粘度碳氢化合物（包括渣油）的高水平总硫测量（0.02%至6%S）。在线全硫测量仪这款多功能、紧凑且坚固耐用的X射线透射/吸收（XRT/XRA）过程测量仪专门针对炼油厂、管道、混合操作、加油终端和其他存储设施的总硫分析需求进行了优化。NEX XT的应用包括船用燃料混合以满足MARPOL附件六的硫限制，通过管道输送的不同等级燃料的界面检测，炼油厂原料混合和监测，以及远程收集和储存设施的原油质量监测。

Nexeon HDI是一款用于高清视频显示和捕获的全功能视频帧抓取器。它支持标准和高达1080p60的HDTV分辨率的视频输入以及VGA显示。Nexeon HDI配备了板载视频编解码器，支持实时视频录制和音频回放。

介绍由AirSight设计的NextCore RN50无人机激光雷达装置。RN50是专为DJI M600飞行平台打造的用户友好系统，可精确到50毫米，并拥有闪电般的云处理速度。该单元仅作为有效载荷选项，允许已经访问合适的GNSS数据的运营商使用其现有的基站设备或RINEX订阅。

NFP系列交叉滚子轴承直线级由不锈钢和交叉滚子轴承制成，使其具有超高精度。工作台尺寸有40×40mm和65×65mm两种，垂直方向有四个驱动位置：中心驱动、右驱动、左驱动和中心驱动，使用非常方便。

NFPR系列高精度旋转平台由不锈钢制成，配有交叉滚柱轴承，具有高精度的特点。粗调为360°，精调为5°。他们提供两种尺寸的桌子，分别是60mm和90mm。它们使用起来非常方便。

Optores NG-FDML是世界上先进一款扫描速率超过每秒100万次扫描的扫描激光器，可实现（多）兆赫光学相干断层扫描（MHz-Oct）。为记录扫描速度而设计的Optores扫描激光器还具有长相干长度、宽扫描范围和非常高的光输出功率。基于全光纤傅里叶域锁模（FDML）技术，该激光器具有用户可调的扫描范围和输出功率，以及各种可编程的同步和控制信号。

全新的日亚NDV4642200mW 405nm激光二极管。静电放电预防措施名称：全新原创蓝紫激光二极管原产地：日本输出功率：CW 100MW-250MW波长：405nm工作电流：100mA工作电压：4.5V封装：3.8mm工作寿命：10000小时以上

日亚NUBM44 450nm 6W 9mm全新NUBM44是一款发射6W功率的445nm激光二极管。它是目前所有9mm TO-CAN（TO-5封装）激光二极管的较高功率。尽管NUBM44的典型中心波长为445nm，但在某些文献中，它有时被称为450nm激光二极管。尽管这是一个多模激光二极管，但它具有极窄的波导，这使得它几乎具有任何高功率半导体激光器的较低光学扩展量（给定光束直径的远场发散度）。与其他高功率激光二极管相比，窄发射极宽度使其能够更好地准直和聚焦。-6.0W蓝色激光二极管，波长445nm-高度可聚焦且能够很好地准直-紧凑型TO-5（9mm）TO-CAN封装-0C至65C的宽工作温度范围-氮化镓蓝色激光技术可延长高温下的使用寿命设计波长：445 nm工作电流典型值[A]：3 A工作温度范围：0至+60°C工作电压：3.7-5.2 V封装：TO-5阈值电流：150-350 mA存储温度范围：-40至85°C20°C时的光功率[W]：6 W估计寿命：10000小时与其它高功率半导体激光器相比，这种蓝色激光二极管相对不受工作温度的影响，并且具有0℃至65℃的外壳工作温度范围。NUBM44在25℃下的典型寿命为20，000小时。然而，如果蓝色激光器的外壳温度被加热到65℃，则寿命仅降低很小的系数。由于较近开发的氮化镓激光技术，这是先进可能的。目前用于红光和近红外激光二极管的砷化镓激光技术不能在高温下实现低的长期退化水平。因此，这种蓝色激光二极管是各种环境和应用的可靠选择。此外，该GaN激光器具有特殊的TO-5（9mm）封装，这使其具有比该功率水平下的激光二极管通常可能的热阻更低的热阻。9毫米的TO-CAN也是密封的，可以保护半导体激光器芯片免受灰尘和其他污染。相比之下，高功率红光和NIR激光二极管通常需要C-Mount封装，其具有暴露的刻面，如果不在洁净室环境中操作，则会出现可靠性问题。

日亚紫405nm-450nm激光二极管NDV4632特点：光输出功率：250mW（@TC=25℃）单一模式CAN类型：5.6，带光电二极管。绝对较大额定值：光输出功率（@TC=25℃）*：250mWLD反向电压：2V储存温度：-40~90℃工作环境温度：-10~80℃初始电/光特性（TC=25℃）光输出功率：100 MW峰值波长：410nm阈值电流：60mA工作电流：130mA坡度效率：1.9W/a工作电压：5.5V