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安装材料: Black Anodized Aluminum 调整: Tilt Only
侧调节50M122T的镜架能够大大增加光学元件的厚度,因为它可以方便地接近调节手柄。原始设计的L型板簧使支架平台具有很大的稳定性。关于两个正交轴的角度范围为±2.5°。螺距为0.25 mm的精密螺钉可提供3弧秒的灵敏度。底座侧面的M4螺纹孔允许各种安装配置,例如水平和垂直。底座由黑色阳极氧化铝制成。L型弹簧采用优质不锈钢弹簧钢制成。侧调节镜架50M122T。偏心安装孔Ø6.2,用于连接锥体,可方便地将适配器更换和调整到所需位置。侧调节装置的镜架50M122TE。这种变体没有通光光圈。这使它成为一个理想的倾斜平台。无孔平面允许在其上安装或粘贴镜子。特殊底座50M122B允许将50M122T安装在不同位置。50M122T可安装为倾斜平台。
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致动器数量: 3 波前倾斜行程: 10um 学生人数: 2.4mm 反光涂层材料: Protected Silver
Mirrorcle Technologies公司的无万向架双轴扫描MEMS反射镜装置基于专有的ARI-MEMS制造技术,该技术较初是通过加州伯克利的亚得里亚海研究所(“ARI”)的研究项目开发的。它们在两个轴上提供非常快速的光束转向,同时需要超低功耗。反射镜将激光束或图像偏转到每个轴上高达32°的光学扫描角度(点对点或准静态模式)以及谐振模式中的更高角度。与体积庞大的基于检流计的光学扫描仪相比,这些设备所需的驱动功率要小几个数量级:驱动反射镜倾斜旋转的静电致动器的连续全速操作消耗的功率小于1mW。Mirrorcle Technologies MEMS反射镜完全由单片单晶硅制成,具有出色的可重复性和可靠性。平坦、光滑的镜面涂有一层具有高宽带反射率的金属薄膜。较小和中等尺寸的反射镜被制造为硅MEMS芯片的集成部分,而较大的反射镜被粘合到致动器上,从而允许定制反射镜尺寸。
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基底材料: BK7, Supremax 33, Mo, Cu, Si, Metallic, Zerodur, Sapphire, Calcium Fluoride, IR Fused Silica, UV Fused Silica, Fused Silica, Custom 波长范围: 190 - 4000 nm 入射角: 0-50deg 平整度: lambda/20, lambda/10, lambda/8, lambda/6, lambda/4 表面质量: 10-5 scratch-dig, 20-10 scratch-dig, 40-20 scratch-dig, 60-40 scratch-dig
PHOTONCHINA提供各种反射镜,包括激光线反射镜、谐波分离器反射镜、高反射(HR)反射镜、部分反射反射镜和金属镀膜反射镜。可以生产各种矩形、圆形、椭圆形或定制形状的镜子,包括平面、球面、凹面或凸面以及柱面。HR激光线反射镜(HR反射镜)HR激光线反射镜(HR)在特定波长和特定入射角(Aoi)下提供优化的性能,反射镜由基底和多层涂层堆叠组成,有助于在任何设计的入射角下对特定的激光线波长实现非常高的反射率。激光线HR涂层用于外部光束操作应用,即使轻微的损失也是无法忍受的。涂层由电子束蒸发提供,有/没有离子辅助涂层技术。HR宽带反射镜(BBHR反射镜)HR宽带反射镜(BBHR)为宽光谱提供高反射率。这些多层涂层为宽光谱提供了高反射率。因此,它是广泛的多波长激光或白光应用的理想选择。通过离子束溅射(IBS)或电子束蒸发,在有/没有离子辅助涂覆技术的情况下提供涂层。HR介电涂层可在0.19-20μm范围内使用。金属镀膜镜(MC镜)金属镜和部分反射器我公司长期为国内外客户提供金、银、铝、铬、铜等金属高反射和部分反射镀膜镜。PHOTONCHINA金属镀膜反射镜特点:受保护的黄金提供出色的宽带红外高反射率受保护的银在整个可见光和近红外范围内提供比铝更高的反射率保护铝是VIS应用的经济型解决方案UV增强铝在宽范围内提供良好的反射率,主要用于UV应用。
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相机类型: Security, Military 阵列类型: InGaAs 光谱带: 3.7 - 4.8 um # 像素(高度): 1280 # 像素(宽度): 1024
Mitie Jupiter MW为MWIR SXGA相机核心设定了标准。凭借高性能、高分辨率和高可靠性的融合,Jupiter MW可让您在战场上拥有较佳的DRI范围。MITIE系列微型热成像引擎专为OEM和系统集成商而设计,他们希望将小型、轻便、低功耗的冷却相机引擎集成到其光电系统中。MITIE核心基于高性能碲镉汞(MCT)或锑化铟(InSb)集成探测器/杜瓦瓶/冷却器组件,可用于具有MW或LW光谱响应的多种配置和各种阵列尺寸。MiTIE内核包括相机控制和冷却器电子设备,并产生校正的模拟、HDMI和14位Camera Link数字视频。通过USB或Camera Link接口进行通信。由于其重量轻、功耗低,MiTIE相机内核非常适合具有苛刻的SWAP(空间/重量和功耗)限制的应用。
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隔振系统高度: 788mm 垂直运动范围: 2.5mm 自动液位控制的精度: Not Specified mm 垂直谐振频率: 0.5Hz 水平谐振频率: 0.5Hz
更符合人体工程学的MK26振动控制工作站专为超低固有频率应用而设计。该系统采用负K负刚度隔振器,以提供紧凑的被动隔振工作站,该工作站具有超低的固有频率、较高的内部结构频率以及出色的垂直和水平隔振效率。MK26也进行了升级,以提供更好的用户舒适性和额外的腿部空间。负K隔离器,它们是完全被动的,不需要空气或电力。不需要计算机、压缩机或空气管路,也不会发生故障。Minus K制造的隔振器在低频隔振中采用了负刚度技术。这些机构将内部弹簧、挠性件和支柱压缩成完全机械振动。调整到1/2Hz的固有频率,该工作站在2Hz时达到约93%的隔离效率,在5Hz时达到99%,在10Hz时达到99.7%。MK26系列可针对各种应用进行配置,并可与我们的大多数隔振工作站配件进行定制。MK26系列为各种仪器提供先进性能,如激光、光学、分析天平、细胞注射、共焦显微镜、膜片钳、光学显微镜、晶片探测、传感器校准、原子力显微镜和半导体加工、电信、航空航天工程和医学研究等领域的其他敏感设备。
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隔振系统高度: 788mm 垂直运动范围: 2.5mm 自动液位控制的精度: Not Specified mm 垂直谐振频率: 0.5Hz 水平谐振频率: 0.5Hz
更符合人体工程学的MK52振动控制工作站专为超低固有频率应用而设计。该系统采用负K负刚度隔振器,以提供紧凑的被动隔振工作站,该工作站具有超低的固有频率、更高的内部结构频率以及出色的垂直和水平隔振效率。MK26也进行了升级,以提供更好的用户舒适性和额外的腿部空间。负K隔离器,它们是完全被动的,不需要空气或电力。不需要计算机、压缩机或空气管路,也不会发生故障。Minus K制造的隔振器在低频隔振中采用了负刚度技术。这些机构将内部弹簧、挠性件和支柱压缩成完全机械振动。调整到1/2Hz的固有频率,该工作站在2Hz时达到约93%的隔离效率,在5Hz时达到99%,在10Hz时达到99.7%。MK52系列可针对各种应用进行配置,并可与我们的大多数隔振工作站配件进行定制。标准尺寸可达8'X 4',也可定制尺寸。MK52系列为各种仪器提供先进性能,如激光、光学、分析天平、细胞注射、共焦显微镜、膜片钳、光学显微镜、晶片探测、传感器校准、原子力显微镜和半导体加工、电信、航空航天工程和医学研究等领域的其他敏感设备。
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输出功率: 0.004W 激光波长: 0.670um 中心波长附近的调谐范围: Not Applicable
埃尔克工业有限责任公司宣布其新型号3200S便携式通用半导体激光器。这款IIIA类激光器是“手工制作”的,符合和/或超过联邦标准21 CFR 1040.10的安全和报告要求。激光标记标签和抛光青铜激光头进一步补充了美观的保护外壳。一根4英尺长的电缆将激光头连接到控制外壳。R-K制造公司现在是Elk Industries,LLC的一个部门,自1983年以来一直在设计和制造经过认证的激光器。3200S型激光器本质上是流行的3200型便携式He-Ne激光器的轻型半导体激光器版本。作为一种便携式激光系统,3200S型激光器通过其可充电能量存储器工作,一次充电可工作6小时以上。该3200S激光器可执行脉冲或连续波功能,从而为大量研究、工业和教育项目以及冷激光治疗提供信号。由于对冷激光疗法的重视,Elk Industries开发了这种安全有效的激光系统,以满足这一领域的各种需求。新型号3200S用于工业、教育、通信、激光表演、校准和其他各种通用应用。考虑到这种独特的激光产品的广泛用途,激光器的定价相对较低。激光线生成、交叉图案或圆形图案生成以及各种光学器件、激光头支架、外部光学器件和外部光学器件或激光头的安装支撑底座均可供选择。