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分类:光谱仪单色仪类型: Flat Field Grazing Incidence 光谱范围: 100 - 300 nm 线性色散: 4.0nm/mm 光谱分辨率: 0.1nm
我们的紫外光谱仪在真空紫外光谱区提供了像差校正的波长覆盖。基于垂直入射几何结构,它提供光谱仪和单色仪功能。高效率光栅可以通过高精度定位系统绕其顶点旋转,从而使出射狭缝处的波长选择精度达到0.1nm。入口和出口狭缝宽度可通过千分尺螺钉或电动致动器(可选)设置在0.01至4mm的范围内。
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测量类型: Elemental analysis, Contaminant detection and analysis 最低电平检测: 1 - 1 ppm
这款台式ED-XRF光谱仪是一款易于使用的高灵敏度元素分析智能解决方案,可分析大多数样品类型(固体、粉末、液体)的主要痕量成分,只需很少或无需样品制备。当需要时,ElementEye可轻松补充SEM、EPMA、NMR和质谱分析。ElementEye能够进行50kV激励,并采用了我们较新的硅漂移探测器(SDD)技术。结合JEOL先进的基本参数(FP)方法,该仪器可在几分钟内提供高灵敏度的定性和定量分析结果。薄膜FP方法可用于涂层样品上薄膜厚度的无损测量。使用较多9种类型的过滤器和样品室真空装置,可在整个能量范围内进行高灵敏度分析。可选的12位自动进样器可通过连续采集加快分析速度。
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成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: Custom 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: Custom 光谱分辨率: Not Applicable
EOS系列高光谱成像仪采用了Photon ETC公司基于体布拉格光栅(VBG)的专利滤波技术。这项技术是高光谱成像的理想选择。微视场和宽视场平台都是为发光(光致发光或电致发光)和反射测量而设计的,并且可以适应宽带或单色光源。我们的过滤技术允许快速获取光谱分辨的高分辨率图像。基于色散光谱仪的推扫式(线扫描)系统一次采集一条线,而基于VBG的设备允许全局成像。这意味着使用基于VBG的技术,可以一次获取完整的单色图像,而不是逐行(或逐点)获取。由于相机捕获视场中的整个区域,因此可以实时收集光谱和空间信息,并可以记录光谱分辨的视频。V-EOS™在可见光谱上提供一系列单色图像,避免了繁琐的X-Y或线扫描。该系统通过提供光谱特征的大规模分布来进行前所未有的分析,无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化。我们的S-EOS™宽场高光谱成像仪集成了我们的新型Zephir相机,现在覆盖了高达2.5μm的短波红外光谱区域。该系统通过提供光谱特征的大规模分布,无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化,都可以进行前所未有的分析。Grand-EOS高光谱成像仪将高光谱显微镜系统与高光谱广域成像平台相结合,提供了VNIR(400-100 nm)和SWIR(900-2500 nm)光谱范围的微观和宏观模态。
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测量类型: Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Chemical identification 最低电平检测: 1 - 1000000 ppm 决议: 135eV
小型、功能强大的便携式XRF分析仪Epsilon 1是一款完全集成的能量色散XRF分析仪,由光谱仪、内置计算机、触摸屏和分析软件组成。在激发和检测技术的较新进展的支持下,Epsilon 1是低成本台式仪器类中的明星产品。Epsilon 1产生快速、经济、精确和准确的数据,对操作员和样品制备的依赖性较小。因此,总运行成本比其他分析技术低得多,例如AAS、ICP和湿化学方法,这些方法成本高并且还需要专门的熟练操作员。
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单色仪类型: Czerny-Turner 有效焦距: 1000mm 衍射光栅: 1200lines/mm 光谱范围: 140 - 1200 nm 线性色散: 0.8nm/mm
FHR640和FHR1000是自动Czerny-Turner光谱仪,焦距分别为0.64米(FHR640)和1米(FHR1000)。FHR系列专为需要高精度和即时结果的研究人员而设计,其多功能性允许在宽光谱范围内使用,从UV范围(140 nm)扩展到IR(取决于所使用的光栅和探测器)。FHR被设计为较小化到达焦平面的任何杂散光。光学腔包括黑化挡板和掩模以捕获不需要的光。此外,FHR的光学设计没有再衍射光(再衍射光是杂散光的来源,涉及光学元件本身的多次反射,因此很难屏蔽)。
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单色仪类型: Czerny-Turner 有效焦距: 640mm 衍射光栅: 1200lines/mm 光谱范围: 140 - 1200 nm 线性色散: 1.2nm/mm
FHR640和FHR1000是自动Czerny-Turner光谱仪,焦距分别为0.64米(FHR640)和1米(FHR1000)。FHR系列专为需要高精度和即时结果的研究人员而设计,其多功能性允许在宽光谱范围内使用,从UV范围(140 nm)扩展到IR(取决于所使用的光栅和探测器)。FHR被设计为较小化到达焦平面的任何杂散光。光学腔包括黑化挡板和掩模以捕获不需要的光。此外,FHR的光学设计没有再衍射光(再衍射光是杂散光的来源,涉及光学元件本身的多次反射,因此很难屏蔽)。
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测量类型: Contaminant detection and analysis, Chemical identification, Other 最低电平检测: 1 - 1 ppm
与XUL系列一样,XRF光谱仪Fischerscope®X-Ray XAN®非常适合分析形状简单的样品。然而,XanSeries的一大优势在于其高质量的半导体探测器。X射线荧光(XRF)不仅可以测量涂层的厚度,还可以分析合金的成分(例如,G。铜)。XanSeries总共包括5台台式XRF光谱仪,涵盖了广泛的应用。XAN215具有高性价比的PIN检测器。它非常适合简单的涂层厚度任务,例如铁或Au/Ni/Cu上的锌。对于使用合金或贵金属的更复杂的应用,我们建议使用我们的带有硅漂移探测器的XRF设备(例如Xan220):由于其分辨率高得多,它可以可靠地区分金和铂。当您需要检测微量重金属和其他有害物质时,Xan250是您的解决方案。
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测量类型: Contaminant detection and analysis, Chemical identification, Other 最低电平检测: 1 - 1 ppm
FISCHERSCOPE®X光XUL®系列是每个电镀车间真正的基础设备。这些简单且经济实惠的能量色散X射线荧光XRF分析仪非常适合监测镀液成分,但在质量控制方面,它们也是不可或缺的帮手:坚固耐用,非常适合测量螺母和螺栓等批量生产零件上的电镀层。XUL/XULM系列中的所有XRF光谱仪操作简单直观。较大的样品可以用手简单地放置在测量室中;或者,对于较小的项目,如插头,仪器可以配备手动样品台。虽然测量设备很紧凑,但它们为您的试件提供了足够的空间-高达17厘米。如果您有几个不同的测量任务,FischerScope X射线XULM具有可更换的过滤器和准直器,因此您可以为所有应用创建较佳的测量条件。此外,XULM具有内置的微聚焦管,即使测量点很小,测量层很薄,也能提供精确的结果。
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分散: 8nm/mm 波长范围: 200 - 400 nm 频谱长度: 25mm F/Number: 3.2 沟槽密度: 600l/mm
IV型像差校正平场和成像光栅设计用于将光谱聚焦到平面上,使其非常适合与线性或2-D阵列探测器一起使用。这些光栅是用既不等距也不平行的凹槽制成的,并且经过计算机优化以在检测器平面上形成入口狭缝的近乎完美的图像。由于它们的大光学数值孔径和像差校正,这些IV型像差校正了平场成像光栅提供比传统的I型罗兰圆形凹面光栅好得多的光收集效率和信噪比。当使用诸如CCD的区域检测器时,通常可以将多个源聚焦到入口狭缝上,并独立地评估来自每个源的光谱。这些“成像光栅”几乎没有像散,因此只需要一个固定的光学元件来构建成像光谱仪。