Nd：YAG具有优良的光学、机械和热学性能，是较常用的固体激光晶体。Nd：YAG的应用示例：医学、牙科、制造、流体动力学、生物物理学、汽车、军事、光腔衰荡光谱（CRDS）、激光诱导击穿光谱（LIBS）、激光泵浦。

Nd：YAG晶体是目前应用较广泛的固体激光材料。CASIX提供具有高光学均匀性、稳定性能、高加工精度和准时交货的Nd：YAG棒。可提供从φ3 X 0.5mm到φ12 X 150mm的各种规格和尺寸。

Cryslaser使用Czochralski技术生长Nd：YAG，用于工业、医疗和科学应用。Cryslaser生产各种不同尺寸的成品激光棒、平板和晶片，并提供Nd：YAG坯料或材料。

Crytur使用Czochralski生长方法生长掺钕的钇铝石榴石（Nd：YAG）晶体。在晶体生长和生长后退火过程中使用的特殊保护气氛使我们的晶体具有非常好的激光效率。我们的生产线涵盖了晶体生长，机械加工和涂层技术。

Nd：YLF晶体结合了弱热透镜效应、大荧光线宽和自然偏振振荡等特性，是一种优良的锁模晶体。

提拉法生长的Nd：YLF晶体具有弱的热透镜效应、相对较宽的荧光线宽和自然偏振振荡等优点，是一种优良的锁模晶体。高质量晶体生长起始材料的使用，整体晶体的干涉测量，以及He-Ne激光对晶体中散射颗粒的精确检测，保证了每一块晶体都能正常生长。

利用改进的Czochralsky技术生长Nd：YLF。使用高质量的晶体生长原料、整体晶棒干涉测量法和使用透射光谱学精确测量体积损耗，确保每个晶体都符合客户的规格要求。

Nd：YVO4是目前商用较有前途的二极管泵浦固体激光材料之一。它具有高的激光损伤阈值和良好的机械性能以及光学性能。其大的受激发射截面和对泵浦激光的高吸收使其成为小型激光器的合适晶体。Nd：YVO_4可以通过较小的不同设置产生红外绿光和蓝光激光。中心位于808nm的宽吸收带和良好的机械性能使Nd：YVO4非常适合用于紧凑、高效、高功率的二极管泵浦激光器。自然双折射在1064.3和1342nm处产生高偏振输出。

Nd：YVO4晶体是较优秀的激光基质材料之一，适用于半导体激光泵浦的固体激光器。具有绿光、红光和蓝光输出的紧凑设计的Nd3+：YVO4激光器确实是材料加工的完美手段。Nd~（3+）：YVO_4激光二极管泵浦的激光器具有宽的吸收带宽、低的激射阈值、高的斜率效率、大的发光截面、线偏振发射和单模输出等特点。

掺钕钒酸钇（Nd：YVO4-Nd：YVO4-YP）是目前二极管泵浦固体激光器中较有效的激光晶体之一。与Nd：YAG相比，Nd：YVO_4激光晶体具有对半导体激光器泵浦波长和温度控制的依赖性小、吸收带宽、斜率效率高、激射阈值低、线偏振发射和单模输出等优点。在要求紧凑设计和单频输出的应用中，Nd：YVO4与其他常用激光晶体相比具有独特的优势。二极管泵浦的Nd：YVO4小型激光器及其倍频的绿色、红色或蓝色激光已用于机械加工、材料处理、光谱学、晶片检测、光秀、医疗诊断、激光打印。

Nd：YVO4晶体是较优秀的激光基质材料之一，适用于半导体激光泵浦的固体激光器。具有绿光、红光和蓝光输出的紧凑设计的Nd3+：YVO4激光器确实是材料加工的完美手段。二极管泵浦的Nd~（3+）：YVO_4激光器具有宽的吸收带宽、低的激射阈值、高的斜率效率、大的发光截面、线偏振发射和单模输出等特点。

作为AFROG设备，Grenouille产生脉冲强度和相位。时间和频谱以及频谱具有很高的准确性和可靠性，不需要对脉冲进行任何假设。它测量的是实际脉冲，而不是相干性。此外，Grenouillealsome测量了光束的空间分布。更重要的是，它还同时产生了其他难以测量的时空失真，即空间啁啾和脉冲前倾斜，这在大多数超短脉冲中都会发生，但实际上大多数都从未测量过。Grenouille是先进一种商业上可用的设备，可以测量这些失真和较准确的脉冲前倾斜诊断。它也产生了近似的脉冲绝对波长。值得注意的是，GrenouilleneedsnoAlignment——永远！即使把它放在梁上也是非常容易的。Grenouilletellsyoumoreaboutyourpulse用比想象中更少的努力！重量只有1公斤，轻便小巧，AFootPrint比AFoot更小！

负弯月（凸-凹）透镜的中心厚度较小，设计用于减小光学系统中的球差。当与另一透镜组合使用时，负弯月形透镜将增加系统的焦距并减小系统的数值孔径（NA）。当用于发散光线时，如上图所示，凸面应面向光束，以较大限度地减少球面像差。

FOCTEK提供了五种球面透镜形式或形状，它们决定了透镜的成像特性，它们是平凸、平凹、双凸、双凹和新月形。

使用Bitflow的Neon-CLB简化您的工业、医疗或半导体成像应用，这是较易于使用且较可靠的Base/POCL Camera Link图像采集卡，可在任何地方使用。Neon-CLB以相机的较高帧/数据速率捕捉图像，精确的图像采集适用于较苛刻的应用。Neon-CLB专为需要PCI Express总线的性能、BitFlow著名的工业质量和行业中较低的价格点之一的OEM而设计。Neon-CLB可以从所有基础CL摄像机获取数据，并具有足够的工业I/O来处理较复杂的同步任务。使用我们的SDK将Neon-CLB添加到您的应用程序非常简单，它支持32位和64位操作系统。SDK为复杂的缓冲区管理提供高级API，并为快速定制控制提供对主板的低级直接访问。如果您需要较简单、较可靠、性能较佳的Base Camera Link和POCL图像采集卡，请立即致电Bitflow，获取我们的OEM定价Neon-CLB，这是Bitflow的第四代强大的工业Camera Link成像产品。

长通滤波器通过波长比阻带更长（能量更低）的区域。

这一高端USB2.0 Newton CCD系列将Andor的超快速、低噪声电子平台和市场领先的-100°C深热电冷却结合在一起，并辅以Andor的UltraVac™技术，该技术在科学和工业领域具有无与伦比的可靠性记录。智能裁剪模式操作可实现高达每秒1，600个光谱的宽带检测速率。牛顿CCD是用于超快UV、VIS或NIR光谱（或以上所有与双AR涂层Bex2-DD技术！）的理想工具，例如2D化学绘图、在线过程监控或非侵入性医疗诊断。Newton 940系列提供13.5 X 13.5μm像素，用于较高UV至VIS分辨率光谱，而920系列及其26 X 26μm为UV至NIR应用提供较高动态范围。两个>6.6 mm高的传感器都非常适合多轨道光谱或超光谱成像。

作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠（Na）到铀（U），在几乎任何基质中进行无损分析，从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造，无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中，NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力，包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育，以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制（QC）还是其更复杂的变体（如分析质量控制（AQC）、质量保证（QA）或六西格玛等统计过程控制），NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。

Rigaku NEX LS采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了用于卷材或线圈应用的扫描多元素工艺涂层分析仪的下一次进化。能量色散X射线荧光（EDXRF）为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX系列高分辨率台式仪器。凭借其成熟的技术，Rigaku NEX LS可对涂层重量、涂层厚度和/或成分进行快速、无损的多元素分析，适用于从铝（Al）到铀（thickness U）的元素。涂层厚度和成分Rigaku NEX LS专为卷筒纸和卷材应用而设计，能够执行多元素组合、涂层重量或涂层厚度。测量头安装在刚性梁上，并配备有位于滚轮上方的线性横动机构，以使头-面距离恒定。需要时，可直接测量涂层的元素组成。相反，涂层重量（或涂层厚度）可以直接测量（其中元素的计数率与厚度成比例）或通过测量一些基材元素的衰减来间接测量（其中计数率与厚度负相关）。长期以来，台式EDXRF光谱仪一直是脱模涂层、转换器、真空成型塑料制造商和其他使用硅油作为阻挡层、脱模涂层或脱模剂的行业所熟悉的技术。实时扫描，用于更严格的过程控制公差，将用于硅涂层分析的EDXRF技术提升到一个新的水平。硅酮涂层应用于塑料和纸质基材，以改变产品（如标签）或包装的释放特性。如果施加的硅酮太少，或者如果存在硅酮涂层缺失的幅材区域，则在剥离应用中粘合剂剥离性能将受到不利影响，或者真空成形塑料的脱嵌特性将受到损害，从而导致产品报废或在制造和其它下游工艺中中断。如果应用了太多的硅酮，则制造的辊的成本增加，降低了盈利能力，并且在某些情况下影响了较终产品的接受和性能。

Rigaku NEX OL采用先进的第三代能量色散X射线荧光（EDXRF）技术，代表了液流和固定位置网络或线圈应用的工艺元素分析的下一次进化。NEX OL的设计涵盖了从重工业到食品级的过程测量解决方案，可配置用于分类和非分类领域。从铝（Al）到铀（₂U）的分析为了提供卓越的分析性能和可靠性，EDXRF测量头组件源自已建立的Rigaku NEX QC高分辨率台式仪器。凭借这一成熟的技术，Rigaku NEX OL可对从铝（Al）到铀（U）的元素进行快速、无损的多元素分析——从百万分率（ppm）水平到高重量百分比（wt%）浓度。Rigaku NEX OL配备50 kV X射线管和SDD探测器，以及标准化、优化的管式过滤器套件，旨在解决广泛的过程控制应用。