-
波长范围: 1200 to 1650 nm 波长分辨率: 0.005 to 2 nm 波长精度: 0.005 to 0.05 nm 光纤模式: Single Mode 动态范围: 45 to 65 dB
横河电机(Yokogawa Electric Corporation)的AQ6380是一款光谱分析仪,工作波长为1200至1650 nm.它的波长分辨率为0.005-2 nm,步长为0.01 nm,波长精度高达±0.005-±0.05 nm,近动态范围高达65 dB.该频谱分析仪的光回波损耗为30dB,电平灵敏度为-85dB(传统模式)和-72dB(快速模式)。它的最短预热时间为1小时,测量时间为0.2秒。该频谱分析仪需要100至240 V的交流电源,功耗高达100 W.它可以通过以太网、GP-IB、USB和VGA接口进行远程控制,也可以通过10.4英寸彩色LCD触摸屏进行手动控制。AQ6380集成了智能化和功能,包括自动波长校准和优化的扫描速度,可实现更高效的操作。它还包括气体净化机制、全自动波长校准、与高分辨率和高样本计数的兼容性以及单模光纤输入。这款频谱分析仪采用台式模块,尺寸为426 X 221 X 459 mm,配有FC/PC或SC/PC连接器,非常适合WDM测试、DFB-LD测试、LED测试、FP-LD测试、应用管理(添加/删除)和光纤检测应用。
-
光纤模式: Single Mode 工作模式: CW Lasers, Pulsed Lasers 波长范围: 700 to 1000 nm 波长显示单元: nm, cm-1, THz
Resolution Spectra Systems的LW-10是一款适用于CW和脉冲激光器的20 MHz分辨率激光波长计。它提供200 MHz的绝对精度,使其成为在630-1100 nm范围内监测可调谐激光波长的完美工具,适用于钛宝石、DFB、ECDL等激光器。该设备提供超过20 Hz的实时测量速度和高达600 Hz的最大测量速度。它采用紧凑型封装,尺寸为14.9 X 8.6 X 8 cm,非常适合可调激光器控制、频率锁定和激光器稳定性控制应用。
-
应用: Radar Calibration Testing, Altimeter 延迟精度: <0.1% 类型: Variable 输入VSWR: 2.10:1 输出VSWR: 2.10:1
RFOptic的测高仪光学延迟线工作频率为0.1至6 GHz.它可以配置为形成1ft、2ft等的自定义延迟,延迟范围为1至100,000 ft,延迟精度为0.1%。该光延迟线可以处理20dBm的最大输入功率和2.1的VSWR,切换时间为10ms.它的相位噪声为-130 DBC/Hz,杂散水平为-80 dBm.该ODL使用单模光纤提供宽带RF信号的真实时间延迟。它可以通过USB接口进行控制。高度表光学延迟线支持单延迟ODL配置,使用前面板、导航开关和LCD显示器或通过USB连接进行控制和监控。该ODL需要110/220 V的交流电源,采用19英寸机架式封装。它可以通过SMA或N型RF连接器连接,是雷达校准测试和高度计应用的理想选择。
-
应用: Radar Calibration testing, Signal and Phase Noise processing, Extension of radar range site, Clutter Canceler, EW systems, Altimeter 工作波长: 1565 to 1625 nm 延迟范围: 0.001 to 500 µsec 延迟精度: <0.5% 类型: Variable
RFOptic的L波段光学延迟线工作频率为0.1至2.5 GHz.它们的延迟范围为0.001-500µsec,延迟精度为0.5%。这些光延迟线可以处理20dBm的最大输入功率和2.1的VSWR,切换时间为10ms.相位噪声为-130 DBC/Hz,杂散水平为-80 dBm.这些ODL使用低损耗光纤提供宽带RF信号的真实时间延迟。它们可以通过USB接口进行控制,并且可以配置为使用多达12个预定义的时间延迟值形成多达4096个延迟。L波段光学延迟线支持单延迟ODL配置,并且使用软件、导航开关和LCD显示器或通过USB连接实现控制和监控。这些ODL需要110/220 V的交流电源,采用19英寸机架式封装,尺寸为440 X 500 X 133 mm.它们可以通过SMA RF连接器或FC/APC光纤连接器连接,是雷达校准测试、信号和相位噪声处理、雷达测距站扩展、杂波消除器、电子战系统和高度计应用的理想选择。
-
波长: 193 nm 功率: 60-90 W
先进产品制造目前仍继续应用摩尔定律,技术节点日益微细化。这些尖端产品对转印到晶圆上的曝光图案、特别是EPE(Edge Placement Error)具有很高的要求。作为光源通过降低直接影响EPE的CD LER/LWR(Line Edge Roughness/Line Width Roughness),为提高批量生产现场的成品率提供帮助。 新型浸没式曝光光源“GT66A”通过新开发的光学模块成功地将散斑对比度降低30%,减少了LER/LWR。还通过引入新的高度耐用零件,将模块的维护周期延长30%。由此实现进一步改善工序成品率、提高光源的可用性,为尖端节点批量生产的高生产性提供帮助。