激光切割机系统2XL-3200是欧洲激光切割机系列中较大的产品之一。加工面积为2，740 X 3，200 mm（107.9“X 126”），可精确切割和雕刻大型材料。非接触式激光切割不会在材料中造成任何凸起，并保证从一开始就进行细丝切割。激光切割机系统2XL-3200也可与输送系统一起用于纺织品加工。

激光切割机尺寸XL-1600是各种材料激光加工的专业解决方案。与所有其他激光切割系统一样，它的模块化概念和易操作性提供了面向未来的高效投资。通过对您的个别材料进行切割和雕刻测试，我们可以提前确定您的激光切割机的较佳配置。激光切割机XL-1600还配有用于纺织品加工的输送系统。

EUROLASER激光切割机M-1200是一款紧凑型机型，加工面积为1，330 X 1，230 mm（52.3“X 48.4”）。就像所有的欧洲激光切割机一样，密封激光技术与可更换的模块化组装组相结合，将生命周期成本降至较低。一项有回报的投资！激光切割机M-1200还配有穿梭台系统，可使您的生产率提高一倍，还配有用于纺织品加工的输送系统。

切割机M-1600提供较高要求的激光切割和雕刻应用。使用可选的欧洲激光穿梭台系统，可以提高生产率–提供1，330 mm X 1，630 mm（52.3“X 64.2”）的加工面积。这种组合是理想的应用，如箔，丙烯酸树脂，木材和纺织品。切割机M-1600还配备了穿梭台系统，可使您的生产率提高一倍。

我们的标准激光切割机GP-1812是一种具有成本效益的通用I类激光切割机系统，可轻松扩展用于焊接、切割和标记应用。通过多种选择，该工作站可以随着贵公司需求的增长而增长和变化。GP-1812可用作开发或生产机器。该系统具有完全集成的接口，其设计具有多功能性和易用性。控制系统允许从操作员界面访问所有机器功能。切割机可以从基本的三轴运动扩展到十二轴运动。可以集成一系列不同类型和功率的光纤激光切割机。它还允许用户安装各种不同的激光喷嘴和视频/视觉系统摄像机。有了众多选项，该系统可以根据您的需求进行专门设计，并适应特定的工作需求。

激光切割和雕刻系统L-1200以较高的切割速度提供独特的精度和切割质量，适用于通过单独选择正确的激光功率进行加工的任何材料。所有欧洲激光切割系统的激光功率均为60至600瓦。您的优势：应用相关的效率。激光切割系统L-1200还可与穿梭台系统一起使用，使您的生产率提高一倍，或与用于纺织品加工的输送机系统一起使用。

FBxxxx系列激光切割机设计用于处理较大幅面的材料，以提供高水平的多功能性和较大生产率。通过添加可选的精密输送机和辊处理系统或CADCAM的梭床系统，可以在用户交互较少的情况下实现大量生产。轮廓切割版本允许在材料运动时进行切割，以实现当今较高水平的生产率。Radian提供液体和空气冷却激光器，功率选项为30至250瓦。FBxxxx系列可切割各种材料，如皮革、丙烯酸、中密度纤维板、板层、染料升华织物、纸板和纸张。您还可以在木材和塑料等表面上雕刻和光栅图像。切割控制非常精确，您可以在纸上雕刻。系统包括集成的空气辅助和蒸汽提取。

Product 2004是一款恒流输出电源，针对驱动激光二极管进行了优化，并提供三种额定电流。输出可以是单个二极管或多达六个串联二极管的二极管串/条。（对于大于6的字符串，请联系工厂以获得建议）。独特的“自动感应”输出电路可自动补偿用于维持恒定电流输出的二极管数量。此外，输出电流缓慢地从10欧姆的低内阻传输到二极管负载。这种缓慢的转变大约需要三秒钟才能达到较大输出，并可防止对激光二极管的热冲击。关断遵循类似的技术，在较终关断之前，将负载电流从二极管串转移到内部电阻。包括瞬态抑制。远程调制输入可用于在限定范围内快速改变设置的直流二极管电流。该宽带宽信道可用于“过程控制”。

FIDL-1000M-1070X是用MOCVD半导体激光器制作的1070nm InGaAs/GaAs量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，从而提高可靠性。FIDL-1000M-1070X光源是一款CW多模注入式半导体激光二极管，采用11.4mm外壳，内置监控光电二极管以稳定输出功率，并采用集成TEC、热敏电阻和监控二极管的TO-3窗口外壳。该激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-1000M-830X是用MOCVD半导体激光器制作的830nm AlGaAs/GaAs量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，从而提高可靠性。FIDL-1000M-830X是一款CW多模注入式半导体激光二极管，配有监控光电二极管以稳定功率输出。激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-1000M-850X是用MOCVD半导体激光器制作的850nm AlGaAs/GaAs量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，从而提高可靠性。FIDL-1000M-850X光源是一款CW多模注入式半导体激光二极管，采用9mm TO型外壳和TO-3外壳，内置监控光电二极管、TEC和热敏电阻，以稳定输出功率。TO-3光学输出窗口由蓝宝石/玻璃制成。激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-1000M-860X是用MOCVD半导体激光器制作的860nm AlGaAs/GaAs量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，从而提高可靠性。FIDL-1000M-860X光源是一种CW多模注入式半导体激光二极管，采用9mm TO型外壳和TO-3外壳，内置监控光电二极管、TEC和热敏电阻，以稳定输出功率。TO-3光学输出窗口由蓝宝石/玻璃制成。该激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-1000M-905X-TO3是用MOCVD半导体激光器制作的905nm InGaAs/GaAs量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于低工作电流，从而提高可靠性。FIDL-1000M-905X-TO3光源是一款CW多模注入式半导体激光二极管，采用TO-3外壳，内置TEC、热敏电阻和监控光电二极管，以稳定输出功率。该激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-100M-1064X是用MOCVD半导体激光器制作的InGaAs/GaAs单量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于低工作电流，从而提高可靠性。FIDL-100M-1064X是CW多模注入式半导体激光二极管。它采用SOT-148 9mm封装，集成监视器光电二极管以稳定输出功率。激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-100S-830X是由MOCVD半导体激光器制作的AlGaAs/GaAs单量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，提高可靠性。FIDL-100S-830X是一种连续单模注入半导体激光器，内置监测光电二极管以稳定输出功率。激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-100S-840X是用MOCVD半导体激光器制作的AlGaAs/GaAs单量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，提高可靠性。FIDL-100S-840X是连续单模注入。半导体激光二极管与内置监测光电二极管，以稳定输出功率。激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-10S-950X是用MOCVD半导体激光器制作的950nm InGaAs/GaAs单量子阱结构，低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，提高可靠性。FIDL-10S-950X光源为CW单模注入半导体激光二极管，内置监控光电二极管，输出功率稳定。激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-10S-980X是用MOCVD半导体激光器制作的980nm InGaAs/GaAs单量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，从而提高可靠性。FIDL-10S-980X光源为CW单模注入半导体激光二极管，内置监控光电二极管，输出功率稳定。本发明的激光二极管适用于各种光电子器件中系统。

FIDL-1500M-850X-TO3是用MOCVD半导体激光器制作的850nm AlGaAs/GaAs量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，从而提高可靠性。FIDL-1500M-850X-TO3光源是一款CW多模注入式半导体激光二极管，内置监控光电二极管、TEC和热敏电阻以稳定输出功率。由蓝宝石玻璃制成的光学输出窗。该激光二极管适用于各种光电系统。

FIDL-200S-850C是用MOCVD半导体激光器制作的850nm AlGaAs/GaAs量子阱结构。低阈值电流和高斜率效率有助于降低工作电流，提高可靠性。FIDL-200S-850C是一种连续单模注入半导体激光二极管，内置监控光电二极管以稳定输出功率。精确的波长选择允许在光谱设备以及各种光电系统中使用激光二极管。