• Newport Thin Film Laboratory\'s Anti-Reflection Coating in the UV 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 240 - 360 nm

    抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。

  • Newport Thin Film Laboratory\'s Dual Band Anti Reflection Coating - 532nm and 1064nm 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 500 - 1150 nm

    抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。

  • Newport Thin Film Laboratory (的高角度抗反射涂层 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 450 - 700 nm

    抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。

  • Newport Thin Film Laboratory\'s IR Anti-Reflection Coating on Germanium - 8 to 12 microns 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 8000 - 12000 nm

    抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。

  • Newport Thin Film Laboratory\'s Triple Band Anti-Reflection Coating - 355nm, 532nm, and 1064nm 涂层
    美国
    分类:涂层
    涂层: Multi-layer 入射角: Not Specified 波长范围: 355 - 1200 nm

    抗反射(AR)涂层是应用于透镜和窗口表面以降低反射率的涂层。(适用于紫外线、可见光和红外线)当光入射到两种介质之间的边界上时,一些能量被反射,一些能量被透射。抗反射涂层通过控制来自足够多的界面的反射能量的相位来工作,使得来自所有界面的反射波几乎彼此抵消,从而产生非常低的表面反射率。对于折射率为1.5且吸收可忽略不计的无涂层玻璃,大约92%的光将透过玻璃,大约8%的光将被反射(从每个玻璃/空气表面反射4%)。在多元素系统中,在每个表面损失4%的入射能量会导致显著的总能量损失。例如,十种普通玻璃光学器件的总损耗超过50%。具有较高折射率的光学器件将遭受更大的反射损失。在较高的入射角下,损失也较大。为了防止反射损失,必须在每个表面上施加抗反射涂层。AR涂层用于多种消费和商业应用中。许多光学设备和显示器采用抗反射涂层来减少传输信号的损失或减少眩光。请参见上图中未涂覆的光学玻璃片与一面涂有抗反射涂层的光学玻璃片的示例。纽波特薄膜实验室(Newport Thin Film Laboratory)开发了一系列在紫外、可见和红外波长范围内优化的抗反射涂层。NTFL还可以根据客户的规格设计和沉积定制的抗反射涂层。如果您不确定如何指定您的涂层,我们的涂层工程师将与您合作,以确定满足您需求的较佳设计。NTFL还为聚合物光学器件提供低温抗反射涂层。有关一般类型的抗反射(AR)涂层,如单层抗反射(SLAR)、V型涂层(VAR)、宽带抗反射(BBAR)和双带抗反射涂层的更多信息,请联系我们。

  • NEX DE能量色散型X射线荧光光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    作为一款优质的高性能台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,新型Rigaku NEX DE通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体和泥浆。现场、工厂或实验室中的XRF元素分析专为重工业应用而设计和制造,无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中,NEX DE的卓越分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增加了广泛的吸引力,包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育,以及工业和生产监测应用。无论需要的是基本质量控制(QC)还是其更复杂的变体(如分析质量控制(AQC)、质量保证(QA)或六西格玛等统计过程控制),NEX DE都是XRF常规元素分析的可靠高性能选择。

  • NEX DE VS能量色散型X射线荧光光谱仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    作为一款优质高性能、小型SPOT台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,新型Rigaku NEX DE VS通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体、浆料和RoHS材料。

  • NEX QC+ QuantEZ - 能量色散型X射线荧光仪 光谱分析仪
    测量类型: Elemental analysis

    基于Windows®的EDXRF用于快速元素分析作为一款优质的低成本台式能量色散X射线荧光(EDXRF)元素分析仪,Rigaku NEX QC+Quantez通过易于学习的基于Windows®的Quantez软件提供广泛的元素覆盖范围。从钠(Na)到铀(U),在几乎任何基质中进行无损分析,从固体和合金到粉末、液体和泥浆。野外、工厂或实验室的元素分析NEX QC+Quantez系列专为重工业应用而设计,无论是在工厂车间还是在偏远的现场环境中,其卓越的分析能力、灵活性和易用性为其不断扩大的应用范围增添了广泛的吸引力,包括勘探、研究、批量RoHS检测和教育,以及工业和生产监控应用。无论需要的是基本质量控制(QC)还是其更复杂的变体(如分析质量控制(AQC)、质量保证(QA)或六西格玛等统计过程控制),NEX QC+Quantez系列都是常规元素分析的可靠选择。

  • NL125 SLM Q开关Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 0.016W 重复频率: 0.01 - 0.01 kHz 脉宽: 2ns 脉冲间稳定性: 1%

    NL120系列电光调Q纳秒Nd:YAG激光器每脉冲输出高达10 J,具有出色的稳定性。创新的二极管泵浦自籽晶主振荡器设计实现了单纵模(SLM)输出,无需使用外部昂贵的窄线宽籽晶二极管和腔锁定电子器件。与使用不稳定激光腔的更常见的设计不同,稳定的主振荡器腔产生TEM空间模式输出,其在放大级之后产生极好的光束特性。NL120系列调Q纳秒激光器是许多应用的绝佳选择,包括OPO、OPCPA或染料激光泵浦、全息摄影、LIF光谱、遥感、光学测试和其他任务。对于需要平滑且尽可能接近高斯光束轮廓的任务,可以使用具有改进的高斯拟合的模型。光脉冲相对于Q开关触发脉冲的低抖动允许激光器和外部设备之间的可靠同步。可选的二次(SH)(用于532nm)、三次(TH)(用于355nm)和四次(FH)(用于266nm)谐波发生器提供对较短波长的访问。激光器由提供的上网本PC通过USB端口控制,并带有适用于Windows™操作系统的应用程序。此外,还可以通过辅助遥控板控制激光器的主要设置。遥控板采用背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。

  • NL128 SLM Q开关Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 0.05W 重复频率: 0.01 - 0.01 kHz 脉宽: 2ns 脉冲间稳定性: 1%

    NL120系列电光调Q纳秒Nd:YAG激光器每脉冲输出高达10 J,具有出色的稳定性。创新的二极管泵浦自籽晶主振荡器设计实现了单纵模(SLM)输出,无需使用外部昂贵的窄线宽籽晶二极管和腔锁定电子器件。与使用不稳定激光腔的更常见的设计不同,稳定的主振荡器腔产生TEM空间模式输出,其在放大级之后产生极好的光束特性。NL120系列调Q纳秒激光器是许多应用的绝佳选择,包括OPO、OPCPA或染料激光泵浦、全息摄影、LIF光谱、遥感、光学测试和其他任务。对于需要平滑且尽可能接近高斯光束轮廓的任务,可以使用具有改进的高斯拟合的模型。光脉冲相对于Q开关触发脉冲的低抖动允许激光器和外部设备之间的可靠同步。可选的二次(SH)(用于532nm)、三次(TH)(用于355nm)和四次(FH)(用于266nm)谐波发生器提供对较短波长的访问。激光器由提供的上网本PC通过USB端口控制,并带有适用于Windows™操作系统的应用程序。此外,还可以通过辅助遥控板控制激光器的主要设置。遥控板采用背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。

  • NL129 SLM Q开关Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 0.1W 重复频率: 0.01 - 0.01 kHz 脉宽: 2ns 脉冲间稳定性: 1%

    NL120系列电光调Q纳秒Nd:YAG激光器每脉冲输出高达10 J,具有出色的稳定性。创新的二极管泵浦自籽晶主振荡器设计实现了单纵模(SLM)输出,无需使用外部昂贵的窄线宽籽晶二极管和腔锁定电子器件。与使用不稳定激光腔的更常见的设计不同,稳定的主振荡器腔产生TEM空间模式输出,其在放大级之后产生极好的光束特性。NL120系列调Q纳秒激光器是许多应用的绝佳选择,包括OPO、OPCPA或染料激光泵浦、全息摄影、LIF光谱、遥感、光学测试和其他任务。对于需要平滑且尽可能接近高斯光束轮廓的任务,可以使用具有改进的高斯拟合的模型。光脉冲相对于Q开关触发脉冲的低抖动允许激光器和外部设备之间的可靠同步。可选的二次(SH)(用于532nm)、三次(TH)(用于355nm)和四次(FH)(用于266nm)谐波发生器提供对较短波长的访问。激光器由提供的上网本PC通过USB端口控制,并带有适用于Windows™操作系统的应用程序。此外,还可以通过辅助遥控板控制激光器的主要设置。遥控板采用背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。

  • NL210高能量kHz脉冲腔倾泻DPSS Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 10W 重复频率: 1 - 1 kHz 空间模式: 4 脉宽: 4ns

    NL210系列二极管泵浦Q开关激光器在1000Hz脉冲重复率下产生高达10mJ的能量。该激光器设计用于产生高强度、高亮度脉冲,并用于OPO泵浦、非线性光谱学、材料烧蚀、微加工和其他任务等应用。采用电光类型的腔倒空,主振荡器可以产生脉冲宽度为3–4 ns的短脉冲,具有均匀的光束轮廓和低发散度。梁的M²系数通常在3–4之间。激光冷却使用闭环冷却器,从而消除了对外部冷却水的需求,降低了运行成本。安装在温度稳定加热器中的角度调谐LBO和/或BBO晶体用于可选的二次、三次或四次谐波产生。谐波分离系统被设计成确保被引导到分离的输出端口的辐射的高光谱纯度。为方便客户,可通过远程控制板或USB接口控制激光器。遥控板可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。或者,可通过个人计算机控制激光器,该计算机配有适用于Windows™操作系统的软件。同时提供LabVIEW™驱动程序。

  • NL231-100高能量Q开关DPSS Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 1.5W 重复频率: 0.1 - 0.1 kHz 脉宽: 7ns 脉冲间稳定性: 1%

    NL230系列二极管泵浦Q开关激光器在100 Hz时产生高达150 MJ的能量,或在50 Hz脉冲重复率时产生高达190 MJ的能量。二极管泵浦允许激光器长时间免维护运行(预计每天工作8小时,超过3年)。典型的泵浦二极管寿命超过10亿次发射。激光器被设计为产生高强度、高亮度脉冲,并且针对诸如材料烧蚀、遥感、OPO、钛宝石或染料激光泵浦的应用。由于电光Q开关,主振荡器产生3–7 ns范围内的短持续时间脉冲。振荡腔光学设计的特点是可变反射率输出耦合器,提供低发散激光束。闭环冷却器用于激光冷却,消除了对外部冷却水的需求并降低了运行成本。安装在温度稳定加热器中的角度调谐非线性晶体用于可选的二次或三次谐波产生。谐波分离系统被设计为确保具有高光谱纯度的辐射,并将其引导到分离的输出端口。为方便客户,可通过遥控器或USB接口控制激光器。遥控板可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使通过激光安全眼镜也易于阅读。或者,可通过提供的Windows™兼容软件从个人计算机控制激光器。每个激光器安装包还包括LabVIEW™驱动程序。

  • NL231-50高能量Q开关DPSS Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 1W 重复频率: 0.05 - 0.05 kHz 脉宽: 7ns 脉冲间稳定性: 1%

    NL230系列二极管泵浦Q开关激光器在100 Hz时产生高达150 MJ的能量,或在50 Hz脉冲重复率时产生高达190 MJ的能量。二极管泵浦允许激光器长时间免维护运行(预计每天工作8小时,超过3年)。典型的泵浦二极管寿命超过10亿次发射。激光器被设计为产生高强度、高亮度脉冲,并且针对诸如材料烧蚀、遥感、OPO、钛宝石或染料激光泵浦之类的应用。由于电光Q开关,主振荡器产生3–7 ns范围内的短持续时间脉冲。振荡腔光学设计的特点是可变反射率输出耦合器,提供低发散激光束。闭环冷却器用于激光冷却,消除了对外部冷却水的需求并降低了运行成本。安装在温度稳定加热器中的角度调谐非线性晶体用于可选的二次或三次谐波产生。谐波分离系统被设计为确保具有高光谱纯度的辐射,并将其引导到分离的输出端口。为方便客户,可通过遥控器或USB接口控制激光器。遥控板可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使通过激光安全眼镜也易于阅读。或者,可通过提供的Windows™兼容软件从个人计算机控制激光器。每个激光器安装包还包括LabVIEW™驱动程序。

  • NL311高能量Q开关Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 1.6W 重复频率: 0.01 - 0.02 kHz 脉宽: 6ns 脉冲间稳定性: 0.5%

    高脉冲能量NL310系列激光器适用于OPO或钛宝石泵浦、材料加工和等离子体诊断等应用。这些激光器可以以10Hz的脉冲重复率在基波波长中产生高达10J的脉冲能量。为了方便客户,NL310系列纳秒调Q激光器可以通过远程键盘或USB-CAN端口进行控制。遥控键盘可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。提供用于Windows™操作系统的软件,以便从PC控制激光器。同时提供LabVIEW™驱动程序,允许将激光控制集成到现有的LabVIEW™程序中。可选的第二(SH,532nm)、第三(TH,355nm)、第四(FH,266nm)和第五(FIH,213nm)谐波发生器可以集成到激光头中或放置在激光头外部的辅助谐波发生器模块中。输出波长切换是手动完成的。可根据要求提供机动化波长切换。可通过内置或外部脉冲发生器触发激光器。外部触发需要具有TTL电平的脉冲。在两种情况下,激光脉冲相对于Q开关触发脉冲具有小于0.5ns RMS的抖动。简单且经过现场验证的设计确保了NL310系列激光器易于维护和可靠的长期运行。

  • NL313高能量Q开关Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 3.2W 重复频率: 0.01 - 0.02 kHz 脉宽: 6ns 脉冲间稳定性: 0.5%

    高脉冲能量NL310系列激光器适用于OPO或钛宝石泵浦、材料加工和等离子体诊断等应用。这些激光器可以以10Hz的脉冲重复率在基波波长中产生高达10J的脉冲能量。为了方便客户,NL310系列纳秒调Q激光器可以通过远程键盘或USB-CAN端口进行控制。遥控键盘可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。提供用于Windows™操作系统的软件,以便从PC控制激光器。同时提供LabVIEW™驱动程序,允许将激光控制集成到现有的LabVIEW™程序中。可选的第二(SH,532nm)、第三(TH,355nm)、第四(FH,266nm)和第五(FIH,213nm)谐波发生器可以集成到激光头中或放置在激光头外部的辅助谐波发生器模块中。输出波长切换是手动完成的。可根据要求提供机动化波长切换。可通过内置或外部脉冲发生器触发激光器。外部触发需要具有TTL电平的脉冲。在两种情况下,激光脉冲相对于Q开关触发脉冲具有小于0.5ns RMS的抖动。简单且经过现场验证的设计确保了NL310系列激光器易于维护和可靠的长期运行。

  • NL314高能量Q开关Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 3.6W 重复频率: 0.01 - 0.02 kHz 脉宽: 6ns 脉冲间稳定性: 0.5%

    高脉冲能量NL310系列激光器适用于OPO或钛宝石泵浦、材料加工和等离子体诊断等应用。这些激光器可以以10Hz的脉冲重复率在基波波长中产生高达10J的脉冲能量。为了方便客户,NL310系列纳秒调Q激光器可以通过远程键盘或USB-CAN端口进行控制。遥控键盘可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。提供用于Windows™操作系统的软件,以便从PC控制激光器。同时提供LabVIEW™驱动程序,允许将激光控制集成到现有的LabVIEW™程序中。可选的第二(SH,532nm)、第三(TH,355nm)、第四(FH,266nm)和第五(FIH,213nm)谐波发生器可以集成到激光头中或放置在激光头外部的辅助谐波发生器模块中。输出波长切换是手动完成的。可根据要求提供机动化波长切换。可通过内置或外部脉冲发生器触发激光器。外部触发需要具有TTL电平的脉冲。在两种情况下,激光脉冲相对于Q开关触发脉冲具有小于0.5ns RMS的抖动。简单且经过现场验证的设计确保了NL310系列激光器易于维护和可靠的长期运行。

  • NL315高能量Q开关Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 3.5W 重复频率: 0.01 - 0.01 kHz 脉宽: 7ns 脉冲间稳定性: 0.5%

    高脉冲能量NL310系列激光器适用于OPO或钛宝石泵浦、材料加工和等离子体诊断等应用。这些激光器可以以10Hz的脉冲重复率在基波波长中产生高达10J的脉冲能量。为了方便客户,NL310系列纳秒调Q激光器可以通过远程键盘或USB-CAN端口进行控制。遥控键盘可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。提供用于Windows™操作系统的软件,以便从PC控制激光器。同时提供LabVIEW™驱动程序,允许将激光控制集成到现有的LabVIEW™程序中。可选的第二(SH,532nm)、第三(TH,355nm)、第四(FH,266nm)和第五(FIH,213nm)谐波发生器可以集成到激光头中或放置在激光头外部的辅助谐波发生器模块中。输出波长切换是手动完成的。可根据要求提供机动化波长切换。可通过内置或外部脉冲发生器触发激光器。外部触发需要具有TTL电平的脉冲。在两种情况下,激光脉冲相对于Q开关触发脉冲具有小于0.5ns RMS的抖动。简单且经过现场验证的设计确保了NL310系列激光器易于维护和可靠的长期运行。

  • NL317高能量Q开关Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 5W 重复频率: 0.01 - 0.01 kHz 脉宽: 7ns 脉冲间稳定性: 0.5%

    高脉冲能量NL310系列激光器适用于OPO或钛宝石泵浦、材料加工和等离子体诊断等应用。这些激光器可以以10Hz的脉冲重复率在基波波长中产生高达10J的脉冲能量。为了方便客户,NL310系列纳秒调Q激光器可以通过远程键盘或USB-CAN端口进行控制。遥控键盘可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。提供用于Windows™操作系统的软件,以便从PC控制激光器。同时提供LabVIEW™驱动程序,允许将激光控制集成到现有的LabVIEW™程序中。可选的第二(SH,532nm)、第三(TH,355nm)、第四(FH,266nm)和第五(FIH,213nm)谐波发生器可以集成到激光头中或放置在激光头外部的辅助谐波发生器模块中。输出波长切换是手动完成的。可根据要求提供机动化波长切换。可通过内置或外部脉冲发生器触发激光器。外部触发需要具有TTL电平的脉冲。在两种情况下,激光脉冲相对于Q开关触发脉冲具有小于0.5ns RMS的抖动。简单且经过现场验证的设计确保NL310系列激光器易于维护和长期可靠运行。

  • NL319高能量Q开关Nd:YAG激光器 激光器模块和系统
    立陶宛
    厂商:EKSPLA
    波长: 1064nm 平均值功率: 10W 重复频率: 0.01 - 0.01 kHz 脉宽: 7ns 脉冲间稳定性: 0.5%

    高脉冲能量NL310系列激光器适用于OPO或钛宝石泵浦、材料加工和等离子体诊断等应用。这些激光器可以以10Hz的脉冲重复率在基波波长中产生高达10J的脉冲能量。为了方便客户,NL310系列纳秒调Q激光器可以通过远程键盘或USB-CAN端口进行控制。遥控键盘可轻松控制所有参数,并配有背光显示屏,即使佩戴激光安全眼镜也易于阅读。提供用于Windows™操作系统的软件,以便从PC控制激光器。同时提供LabVIEW™驱动程序,允许将激光控制集成到现有的LabVIEW™程序中。可选的第二(SH,532nm)、第三(TH,355nm)、第四(FH,266nm)和第五(FIH,213nm)谐波发生器可以集成到激光头中或放置在激光头外部的辅助谐波发生器模块中。输出波长切换是手动完成的。可根据要求提供机动化波长切换。可通过内置或外部脉冲发生器触发激光器。外部触发需要具有TTL电平的脉冲。在两种情况下,激光脉冲相对于Q开关触发脉冲具有小于0.5ns RMS的抖动。简单且经过现场验证的设计确保了NL310系列激光器易于维护和可靠的长期运行。