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波长: 1567nm 输出功率: 2000W 运行模式: Continuous Wave (CW), Modulated
IPG公司的新型高功率连续铒光纤激光器的中心波长为1567nm,输出功率高达2000W,功率稳定度为±2%,线宽<2nm。IPG的高功率铒激光器可用于研究、材料加工和低损耗功率传输应用,为应用开发开辟了新的令人兴奋的领域。在1500 nm波长范围内,只有IPG Photonics才能为您提供各种功率和配置的设备,从激光器到放大器,从可调谐激光器到宽带光源。我们先进的光纤设备是一个巨大的飞跃,提供了较佳的二极管泵浦固态可靠性和性能。我们在该领域拥有数千台设备,您可以放心,IPG产品是经过验证的可靠产品,适合您的苛刻应用。“眼睛安全”操作通常是指激光辐射在眼睛角膜和晶状体强烈吸收的波长范围内,因此不能到达明显更敏感的视网膜。然而,IPG建议较终用户考虑激光类型、介质和分类所需的所有安全预防措施。必须佩戴合适的眼镜,并遵守激光安全程序。
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成像模式: Diffuse Reflectance (DR), Photoluminescence (PL), Electroluminescence (EL), Raman 激发波长: Custom 光谱范围: Not Applicable 光谱范围: Custom 光谱分辨率: Not Applicable
EOS系列高光谱成像仪采用了Photon ETC公司基于体布拉格光栅(VBG)的专利滤波技术。这项技术是高光谱成像的理想选择。微视场和宽视场平台都是为发光(光致发光或电致发光)和反射测量而设计的,并且可以适应宽带或单色光源。我们的过滤技术允许快速获取光谱分辨的高分辨率图像。基于色散光谱仪的推扫式(线扫描)系统一次采集一条线,而基于VBG的设备允许全局成像。这意味着使用基于VBG的技术,可以一次获取完整的单色图像,而不是逐行(或逐点)获取。由于相机捕获视场中的整个区域,因此可以实时收集光谱和空间信息,并可以记录光谱分辨的视频。V-EOS™在可见光谱上提供一系列单色图像,避免了繁琐的X-Y或线扫描。该系统通过提供光谱特征的大规模分布来进行前所未有的分析,无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化。我们的S-EOS™宽场高光谱成像仪集成了我们的新型Zephir相机,现在覆盖了高达2.5μm的短波红外光谱区域。该系统通过提供光谱特征的大规模分布,无论是半导体的带隙变化还是新化合物中的分子变化,都可以进行前所未有的分析。Grand-EOS高光谱成像仪将高光谱显微镜系统与高光谱广域成像平台相结合,提供了VNIR(400-100 nm)和SWIR(900-2500 nm)光谱范围的微观和宏观模态。
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化合物类型: Hydrogen, Methane, CO2 (Carbon Dioxide), CO (Carbon Monoxide) 检测技术: Not Specified
EX-5120远程气体监测传感器变送器包含一个基于NDIR原理工作的传感器,用于监测碳氢化合物气体的浓度。它可以针对特定气体(如甲烷)进行校准,但也可以响应其他一些碳氢化合物气体,包括丙烷、丁烷等。该传感器具有用于温度补偿的集成半导体、耐用的钨丝红外光源、滤波器和双温度补偿热释电红外探测器。该传感器变送器可在厌氧环境和连续的碳氢化合物环境中工作。该装置提供长期稳定性,需要较少的维护。EX-5120传感器变送器采用24 VDC电源供电,具有三个LED报警点指示灯、4-20 mA输出和可选报警继电器板。该传感器变送器可连接到各种单通道和多通道Enmet控制器或基于计算机的仪器,如PLC、SCADA、BMS等。
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波长: 351nm 空间分辨率: 1um 处理区: Not Specified 最大峰值功率: 1 - 100kW
现在可以从其他几种不同的激光源获得UV光子,但是准分子激光器尽管有缺点,但仍然可以做其他激光器不能做的事情,并且在某些情况下(在近中心上有许多小孔),它们可以是经济的,因为它们使用掩模成像而不是单点钻孔。谐振腔配置产生对于近场成像理想的光束,并且激光束的高峰值功率允许在很少或没有热影响区的情况下烧蚀目标材料。193-351 nm光学波长范围允许在目标表面上生成高分辨率(~1µm)特征,浅吸收深度允许通过控制所施加的脉冲数量来严格控制特征深度。大的光束横截面可容纳用于近场成像的大成像掩模。光加工工程师在准分子激光合同制造和系统设计方面拥有丰富的经验。我们可以将定制配置与简单的成像集成,一直到多轴运动、复杂的光学系统和机器视觉。还可以通过净化光束传输将光学缩小2倍至30倍。准分子生产工具是完全封闭和联锁的,符合所有CDRH I类要求。集成气体柜确保气体管道的污染较小。所有准分子系统都使用光加工控制软件。我们设备齐全的准分子实验室使我们能够在系统设计和建造之前进行原理验证。通常使用工作频率高达200 Hz、平均功率为60 W的光机和相干准分子激光器KrF(248 nm),尽管更高功率的激光器可用于高通量应用。
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通道数量: Single Channel, Multi Channel 工作波长范围: 1250 - 1625 nm 动态衰减范围: 30dB 反射损耗: 50dB
光纤衰减器是一种无源器件,用于在不显著改变波形本身的情况下降低光信号的振幅。这通常是密集波分复用(DWDM)和掺铒光纤放大器(EDFA)应用中的要求,其中接收器不能接受从高功率光源产生的信号。先科衰减器采用了一种专有类型的金属离子掺杂光纤,可在光信号通过时减少光信号。这种衰减方法允许比光纤拼接或光纤偏移更高的性能,光纤拼接或光纤偏移通过误导而不是吸收光信号来起作用。Senko衰减器能够在1310、C和L波段工作。Senko衰减器能够长时间承受超过1W的高功率光照射,使其非常适合EDFA和其他高功率应用。低偏振相关损耗(PDL)和稳定且独立的波长分布使其成为DWDM的理想选择。
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通道数量: Single Channel, Multi Channel 工作波长范围: 1250 - 1625 nm 动态衰减范围: 30dB 反射损耗: 50dB
光纤衰减器是一种无源器件,用于在不显著改变波形本身的情况下降低光信号的振幅。这通常是密集波分复用(DWDM)和掺铒光纤放大器(EDFA)应用中的要求,其中接收器不能接受从高功率光源产生的信号。先科衰减器采用了一种专有类型的金属离子掺杂光纤,可在光信号通过时减少光信号。这种衰减方法允许比光纤拼接或光纤偏移更高的性能,光纤拼接或光纤偏移通过误导而不是吸收光信号来起作用。Senko衰减器能够在1310、C和L波段工作。Senko衰减器能够长时间承受超过1W的高功率光照射,使其非常适合EDFA和其他高功率应用。低偏振相关损耗(PDL)和稳定且独立的波长分布使其成为DWDM的理想选择。
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激光类型: Fiber 激光功率: 4000W 激光波长: 1064nm 最大夹具直径: mm, 25mm to 50mm mm 应用: Metal Tubes, Plastic Tubes, Square Tubes, Round Tubes
Platino®光纤2D激光切割机结合了较先进的高效生态光纤激光技术,以及Platino®平台经过验证的可靠性和灵活性。Platino®光纤可用于切割各种材料。光纤激光器比其他激光源更有效地切割高反射材料,如铝合金、铜、黄铜。不同的厚度(高达20毫米的低碳钢)可以高效和高质量地切割。特别是对于薄的和中等规格的金属板,生产率提高了。由于设置时间为零,机器可以从切割平板金属转变为加工管材和型材。