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  埃德蒙工业光学62912

  美国

  分类：光学透镜

  厂商：Graftek Imaging

  放大倍数: 0.5 - 0.5 N.A.: 6.0 - 22 工作距离: 175 - 175 mm 类型: Telecentric Lens 最大传感器格式: 28.7mm

  这些镜头专为与大型传感器配合使用而设计，在大视场、低失真的高分辨率远心成像方面表现出色。外壳防篡改且坚固耐用，使其成为任何机器视觉应用的理想选择。锁定光圈可防止在高振动环境中意外调整镜头。

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  高效非线性材料和偏振元件

  美国

  分类：晶体

  厂商：Davis Marketing International LLC

  水晶类型: LBO (Lithium Triborate), BIBO (BiB3O6) 相位测量类型: Not Applicable 安装: Unmounted 宽度: 20mm 高度: 20mm

  KTP或磷酸钛氧钾（KTiOPO4）具有独特的性质：高非线性系数、高损伤阈值和不吸湿性，使其成为要求苛刻的激光应用的理想选择，如倍频（1064/532nm）OPO（1064/1540nm）和波导（红外到紫外）。DMI提供顶部晶种溶液和水热晶体生长材料。选择由激光流畅性驱动。孔径可为2x2至20x20mm，长度可达40mm。

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  EKSMA 532纳米高透光薄膜偏光片

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  基底材料: Fused Silica, UVFS 偏光材料: Not Available 形状: Round 尺寸: 25.4mm 波长范围: 532 - 532 nm

  薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns，因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd：YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在40°入射角下使用，但偏振是较有效的，并且出现在56°AOI（布儒斯特角）的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200：1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm，RS/TP 99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm（2），而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率，应将薄膜偏振器安装在适当的支架上，以便进行角度调整。

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  EKSMA - 780纳米零阶空气间隔波板

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  波形板类型: Zero Order 材料: Quartz 安装: Mounted 形状: Round 尺寸: 17mm

  用于高功率激光应用。这种由单晶石英制成的零级空气间隔板具有17mm的通光孔径

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  EKSMA非色差空气间隔波板 - 950-1300纳米

  立陶宛

  分类：偏振光学元件

  厂商：EKSMA OPTICS

  波形板类型: Achromatic Air-Spaced 材料: Quartz and MgF2 安装: Mounted 形状: Round 工作波长范围: 950 - 1300 nm

  消色差波片由两种不同的材料制成：石英晶体和氟化镁，在空气间隔设计中具有高效宽带减反射涂层。我们的消色差波片在整个波长范围内的延迟容限优于λ/100。这些波片的平坦响应非常适合与可调谐激光器、多激光线系统和其他宽谱源一起使用。我们的消色差波片可用于四个波长范围：VIS（450-680 nm）、NIR（700-1000 nm）、950-1300 nm、1200-1650 nm。波片采用黑色阳极氧化铝外壳。

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  EKSMA消色差波板 - 450纳米至680纳米

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  波形板类型: Achromatic Air-Spaced 材料: Quartz and MgF2 安装: Mounted 形状: Round 工作波长范围: 480 - 650 nm

  消色差波片由两种不同的材料制成：石英晶体和氟化镁，在空气间隔设计中具有高效宽带减反射膜，我们的消色差波片在整个波长范围内的延迟容限优于λ/100。这些波片的平坦响应非常适合与可调谐激光器、多激光线系统和其他宽谱源一起使用。我们的消色差波片可用于四个波长范围：VIS（450-680 nm）、NIR（700-1000 nm）、950-1300 nm、1200-1650 nm。波片采用黑色阳极氧化铝外壳。

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  EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 - 200-270nm 441-2108-M2Pd

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 200 - 270 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

  Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。

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  EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 - 200-270纳米 441-2110-M2Pd

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 200 - 270 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

  Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

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  EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 - 200-270纳米 441-2115-M2Pd

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 200 - 270 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

  Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

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  EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 - 260-340nm 441-2208-M2Pd

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 260 - 340 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

  Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

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  EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 - 260-340nm 441-2210-M2Pd

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 260 - 340 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

  Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

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  EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 - 260-340nm 441-2215-M2Pd

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 260 - 340 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

  Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

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  EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 -300-400nm 441-2308-M2Pd

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 300 - 400 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

  Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

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  EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 -300-400纳米 441-2310-M2Pd

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 300 - 400 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

  Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

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  EKSMA α-BBO Glan 激光棱镜 -300-400纳米 441-2315-M2Pd

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  棱镜材料: a-BBO 涂层: MgF2 波长范围: 300 - 400 nm 最大消光比: >= 100000:1 波前失真: <= Lambda/4

  Glan激光偏振器由较精细的光学级α-BBO制成。它们可用于需要高偏振纯度、高总透射率和低、中或高功率要求的应用中。

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  EKSMA BK7 矩形薄膜激光偏振片 - 532nm

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  基底材料: N-BK7 偏光材料: Not Available 形状: Rectangle 尺寸: 28.6mm 波长范围: 633 - 633 nm

  薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns，因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd：YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用，但偏振是较有效的，并且出现在56°AOI（布儒斯特角）的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200：1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm，RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm（2），而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率，应将薄膜偏振器安装在适当的支架上，以便进行角度调整。

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  EKSMA BK7 矩形薄膜偏光片 - 1010-1050nm

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  基底材料: N-BK7 偏光材料: Not Available 形状: Rectangle 尺寸: 28.6mm 波长范围: 1010 - 1050 nm

  薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns，因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd：YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用，但偏振是较有效的，并且出现在56°AOI（布儒斯特角）的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200：1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm，RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm（2），而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率，应将薄膜偏振器安装在适当的支架上，以便进行角度调整。

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  EKSMA BK7 矩形薄膜偏光片 - 663nm

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  基底材料: N-BK7 偏光材料: Not Available 形状: Rectangle 尺寸: 28.6mm 波长范围: 663 - 663 nm

  薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns，因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd：YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用，但偏振是较有效的，并且出现在56°AOI（布儒斯特角）的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200：1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm，RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm（2），而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率，应将薄膜偏振器安装在适当的支架上，以便进行角度调整。

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  EKSMA BK7圆形薄膜偏光片 -780-820nm 420-0526

  美国

  分类：偏振光学元件

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  基底材料: N-BK7 偏光材料: Not Available 形状: Round 尺寸: 25mm 波长范围: 780 - 820 nm

  薄膜偏振器设计用于要求较苛刻的激光器。由于激光损伤阈值高达10 J/cm2@1064 nm 8 ns，因此它们被用作Glan激光偏振棱镜或立方体偏振分束器的替代品。典型的应用是用于Nd：YAG激光器的腔内Q开关保持偏振器或腔外衰减器。薄膜偏振器可以在>40°的入射角下使用，但偏振是较有效的，并且出现在56°AOI（布儒斯特角）的宽波长范围内。典型的极化比TP/Ts为200：1。关于光的位置以及作用于光的各种物理参数的有价值的信息。420-0126传输@800 nm，RS/TP>99.5/95.0%标准尺寸高达Ø50 mm（2），而较大可用尺寸为100×200 mm。为了获得较佳的透射率，应将薄膜偏振器安装在适当的支架上，以便进行角度调整。

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  EKSMA交叉偏振光发电晶体 - BaF2 - 540-7110系列

  美国

  分类：晶体

  厂商：Altos Photonics, Inc.

  水晶类型: BaF2 传输范围: 0.135 - 15 um 高度: 10mm 宽度: 10mm 厚度: 1mm

  交叉极化波（XPW）的产生是一个非线性的三阶过程，在此过程中基波和产生的波具有相同的频率。然而，所产生的波与泵浦波偏振垂直偏振。在XPW产生过程中，相位匹配发生在大带宽上。这意味着基波和XPW具有相同的相速度和群速度。交叉偏振波（XPW）的产生过程是由晶体的三阶非线性和张量的各向异性驱动的。用于产生交叉偏振波（XPW）的典型光学材料是具有Z（[001]）或全息（[011]）晶体取向的氟化钡（BaF2）晶体。理论预测，当使用[011]切割的BaF2晶体时，较大XPW能量转换效率约为35%，伴随的脉冲缩短因子为√3，对应于纯三阶非线性过程。