使用光学测量技术来表征MEMS器件-Polytec

2023-05-15

来源公司：Polytec

广泛的测量系统可用于MEMS器件的光学表征。这遵循一系列可用于测量许多不同物理性质（例如膜厚度、尺寸、横截面、台阶高度、应力、粗糙度、弹性模量、静摩擦、响应时间、共振频率、热膨胀等）的技术。例如，可以通过配备有数字图像处理的基本光学显微镜来执行尺寸分析和变形测量。

使用光学测量技术来表征MEMS器件-Polytec 文件预览

更多下载

• TC LAB 系列产品手册

  来源公司：Wavelength Opto-Electronic

• WTCP5V5A PWM 温度控制器产品手册

  来源公司：Wavelength Opto-Electronic

• QCL 系列竞争对手噪声比较

  来源公司：Wavelength Opto-Electronic

• 激光驱动器噪声对 QCL 线宽的影响

  来源公司：Wavelength Opto-Electronic

• QCL OEM(+) 系列低噪声 QCL 驱动器手册

  来源公司：Wavelength Opto-Electronic

• QCL OEM 系列低噪声 QCL 驱动器手册

  来源公司：Wavelength Opto-Electronic

• PLD10000 / PLD12500 激光二极管驱动器手册

  来源公司：Wavelength Opto-Electronic

• PLD 系列激光二极管驱动器手册

  来源公司：Wavelength Opto-Electronic