传统上,高功率193纳米(nm)激光器在光刻中起着关键作用,形成了用于精确图案的系统的组成部分。然而,传统ArF准分子激光器的相干性限制阻碍了它们在需要高分辨率图案的应用中的有效性,如干涉光刻。
Thatshigh光电技术 - LBO, KTP, BBO, MgO/LN晶体概述
高损伤阈值晶体采用高光电技术。我们做定制工作,以满足客户的需求。可以制造各种尺寸的非线性晶体。
Thatshigh光电技术 - LBO, KTP, BBO, MgO/LN晶体参数
- 水晶类型 / Crystal Type: : BBO (Beta Barium Borate), LBO (Lithium Triborate), KTP (KTiOPO4), LiNbO3 (Lithium Niobate)
- 相位测量类型 / Phase Mathcing Type: : Type I, Type II
- 安装 / Mounting: : Unmounted
- 平整度 / Flatness: : <= Lambda/8
- 表面质量 / Surface Quality (Scratch-Dig): : 10-5
- AR 涂层 / AR Coating: : One side, Both Sides, Not Coated
Thatshigh光电技术 - LBO, KTP, BBO, MgO/LN晶体规格书
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